JPH0610608Y2 - イオン流引き出し電極 - Google Patents

イオン流引き出し電極

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JPH0610608Y2
JPH0610608Y2 JP1987111947U JP11194787U JPH0610608Y2 JP H0610608 Y2 JPH0610608 Y2 JP H0610608Y2 JP 1987111947 U JP1987111947 U JP 1987111947U JP 11194787 U JP11194787 U JP 11194787U JP H0610608 Y2 JPH0610608 Y2 JP H0610608Y2
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Description

【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この考案はイオンビーム加工装置におけるイオン流引き
出し電極に関するものである。
[従来の技術] イオンビーム加工法は集積回路の集積度を高めるべく開
発されたもので、イオン源から引き出されたイオンを用
いて、集積回路のパターンの形成等に広く用いられ、微
粒子の相互作用を加工原理とするので、微細なパターン
の形成を可能にしている。
従来、このイオンビーム加工法を実現するイオンビーム
加工装置としては、プラズマ生成室内に生成したプラズ
マをイオン流引き出し電極により静電的に引き出し、イ
オン流を形成する方式をとっている。
第1図はこのようなイオンビーム加工装置の構成を示す
模式的断面図であり、図において(1)はプラズマ発生
室、(2)はイオン流引き出し電極、(3)は加工室、(4)は
陰極、(5)はシール壁、(6)は陽極、(7)は電磁石、(1
0),(11),(12)はそれぞれ電源、(13)は電極、(14)は試
料、(15)はマスク、(16)は排気口、(17)は給気口であ
る。
イオンビーム加工装置は、大別してプラズマを発生させ
るプラズマ発生室(1)と、発生したプラズマをイオンビ
ームとして引き出すイオン流引き出し電極(2)と、試料
(14)にイオンビームを照射する加工室(3)とから構成さ
れている。
またイオン流引き出し電極(2)は、いわゆる一枚型電極
が使用されており、その構造はプラズマ発生室(1)側が
絶縁体(21)、加工室(3)側が導体(22)よりなり、これら
絶縁体(21)及び導体(22)を貫通して形成された多数の小
孔(23)を有する一体のグリッドで構成される。
次に、従来のイオンビーム加工装置の動作について説明
する。シール壁(5)の内部を10-6〜10-7Torr程度に
排気し、給気口(17)からイオン化物質、例えばAr(ア
ルゴン)ガスを導入する。陰極(4)から出た電子は電磁
石(7)の作る磁界によりサイクロトロン運動をしながら
陽極(6)に入射する。その際電源(10)で加速されAr原
子と衝突してArの+イオンが電離され、プラズマ発生
する。発生したイオンの空間電荷による電界の影響でイ
オン流引き出し電極(2)のプラズマ発生室(1)側の表面近
傍にイオンシースが形成され、ここから熱運動で飛び出
したイオンは電源(11)による電圧で加速され、イオン流
引き出し電極(2)りグリッド孔を通って試料(14)にイオ
ンシャワーとして照射される。電源(12)は加工室(3)か
らの電子の逆流を防止するための電圧を与える。
また、上記のような一枚型電極は、絶縁体基板に加速電
極を構成する導体層を蒸着したものを使用するが、これ
を実現したものはガラスセラミック板にエッチング加工
により多数の小さな穴をあけ、この片面を真空蒸着によ
りクロムコーティングして導体としたもが存在するだけ
であった。
[考案が解決しようとする問題点] 上記のような従来の一枚型電極は、ガラスセラミック板
にエッチング加工により多数の小さな穴をあけ、この片
面を真空蒸着によりクロムコーティングして導体とした
ものであり、熱や機械的衝撃に弱く、またコーティング
したクロムの厚さや穴に入り込むクロムの量やその分布
により電極としての性能にバラツキを生じており、さら
に高価なものとなる等の問題点があった。
この考案は、かかる問題点を解決するためになされたも
ので、安価でかつ品質安定度の高いイオン流引き出し電
極を提供することを目的としている。
[問題点を解決するための手段] この考案にかかるイオン流引き出し電極は、パンチング
ボードとして市販されている板厚方向に垂直な多数の孔
をもつアルミニウム板の片面にアルマイト加工したもの
を使用することとした。
[作用] この考案においては、既に市販されているパンチングボ
ードを素材とし、これにアルマイト加工を施しただけで
一枚電極板を構成したので、ガラスセラミックを使用せ
ずアルミニウムを基材とするので熱や機械的衝撃に強
く、さらに真空蒸着によるクロムコーティングもなされ
てないので性能のバラツキが少なく、エッチング加工の
必要がないので安価になる。
[実施例] 以下、この考案の実施例を図について説明する。第2
図,第3図はこの考案によるイオン流引き出し電極の構
成を示す図であって、第2図(a)は平面図、第2図
(b)は断面図、第3図(a)は第2図(a)のAに示
す部分の拡大図、第3図(b)は小孔の部分の拡大断面
図である。これらの図において、(21)は絶縁体を示す
が、この考案では酸化被膜(アルマイト)で構成されて
いる。(22)は導体を示すが、この考案ではアルミニウム
で構成されている。(23)は小孔、(24)は取り付け穴であ
る。
この考案によるイオン流引き出し電極は第2図,第3図
に示すような構成になっており、導体(22)はパンチング
ボードとして既に市販されている板厚方向に垂直な多数
の孔をもつアルミニウム板を所定の形状に切断して、そ
のまま使用している。従って従来のようにエッチング加
工によりわざわざ孔あけ加工する必要がなくなる。
また絶縁体(21)は上記アルミニウムでできたパンチング
ボードの片面をアルマイト加工して酸化被膜としたもの
で構成できるので、従来のようにガラスセラミック板で
構成する必要がなくなり、安価に構成でき、機械的強度
が大きく、またアルミニウムは熱伝導率が大きいので外
側を冷却することにより、熱変形を防止でき、スパッタ
リング等に対して強いグリッドを得ることができる。
なお、アルミニウムで構成される導体の(22)の表面にニ
ッケル等のメッキを施したものであれば、ガスによる腐
食を防止でき耐久性が向上したものになる。
[考案の効果] この考案は以上説明したとおり、既に市販されているパ
ンチングボードを素材とし、これにアルマイト加工を施
すだけで一枚電極板を構成したので、ガラスセラミック
板を使用せずアルミニウムを基材とするので熱や機械的
衝撃に強く、真空蒸着によるクロム・コーティングもな
されてないので性能のバラツキが少なく、エッチング加
工の必要がないので安価になる等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はイオンビーム加工装置の構成を示す模式的断面
図、第2図,第3図はこの考案によるイオン流引き出し
電極の構成を示す図。 (1)はプラズマ発生室、(2)はイオン流引き出し電極、
(3)は加工室、(21)は絶縁体、(22)は導体、(23)は小
孔。 なお、各図中同一符号は同一又は相当部分を示すものと
する。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】プラズマを発生するプラズマ発生室で発生
    したイオンをイオンビームとして加工室内へ引き出すた
    めの電界を形成するイオン流引き出し電極において、 上記イオン流引き出し電極は、板面に垂直な方向に多数
    の小孔が開けられたアルミニウム板を素材とし、このア
    ルミニウム板の片面にアルマイト加工による酸化被膜を
    構成したことを特徴とするイオン流引き出し電極。
JP1987111947U 1987-07-23 1987-07-23 イオン流引き出し電極 Expired - Lifetime JPH0610608Y2 (ja)

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JPS6418568U JPS6418568U (ja) 1989-01-30
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JPS60243954A (ja) * 1984-05-18 1985-12-03 Hitachi Ltd イオン源

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