JPH0610357B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プラズマ処理装置に係り、特にプラズマクリ
ーニング、ならし放電が行われるプラズマ処理に関する
ものである。

〔従来の技術〕

半導体デバイスの微細化に伴い、エッチングプロセスが
変化しつつある。すなわち低イオンエネルギー下で異方
性エッチングを行うため、デポ性ガスを添加し、側壁保
護膜を形成するプロセスが主流となりつつある。

このため処理室内の汚染が激しくなり、頻繁にプラズマ
クリーニングしないと、発生異物数を所定レベル以下に
保持しにくい。このプラズマクリーニング後には、引続
きならし放電を行う必要がある。このならし放電とは、
実試料のエッチング時に処理室内壁に付着するデポ膜を
事前に形成させるものである。この放電を行わないと安
定したエッチング性能を得にくい。

なお、このようなことは、例えば、ニッケイマイクロデ
バイシズ（ＮＩＫＫＥＩ ＭＩＣＲＯＤＥＶＩＣＥ
Ｓ）、１９８６年１２月号、第１２１頁に記載されてい
る。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記プラズマクリーニングおよびならし放電の頻度は、
試料径、エッチング条件、エッチング装置によって様々
であるが、通常５０〜１００枚処理毎、場合によっては
１０枚毎と多い。

このような処理時には電極面の露出防止のため、例え
ば、Siダミー試料をセットする必要があるが、処理頻度
が多くなるとダミー試料のセットミス、処理データのセ
ットミスを誘発しやすくなり、実試料を無駄にすること
がよくある。

本発明の目的は、処理内容に合致した試料を確実にセッ
トすることにより、事前に設定された処理データを自動
的に選択できるプラズマ処理装置を提供することにあ
る。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的は、ダミー試料を透明な試料とし、この試料と
不透明な実試料とを区別できる検出手段を具備したもの
とすることにより、達成される。

〔作 用〕

本発明によれば、プラズマクリーニングやならし放電を
行いたい時には、透明なダミー試料をセットするのみ
で、装置内にて自動的に上記処理データを選定し、所定
の処理を行うことができる。

また、試料の時にも同様に、適切な処理データを選定
し、自動的に処理できる。

〔実 施 例〕

以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。この
実施例では、ロード室内にダミー試料と実試料とを自動
的に確認可能な検出手段であるウェーハ検出器を設けて
いる。

第１図で、ロードカセット１内には処理すべき実ウェー
ハ９、さらにはロードカセット１内最上段には、例え
ば、透明石英製ダミーウェーハ等のダミーウェーハ10が
セットされている。払い出された実ウェーハ９はロード
室３に搬入される。このロード室３には透過式光センサ
ー７と、非接触式検出器８が具備されている。実ウェー
ハ９は不透明であるため、センサー７により区別でき
る。この情報を上位コントローラ６に送信することによ
り自動的に処理データを選定し、処理を連続して行うこ
とができる。なお、処理室５で処理済みの実ウェーハは
アンロード室４を通ってアンロードカセット２に回収さ
れる。

次にロードカセット１の最上段にセットされたダミーウ
ェーハ10が引続き払い出され、検出器８によりダミーウ
ェーハであることが確認される。確認後、プラズマクリ
ーニングとならし放電の処理データが選定され、自動的
に処理される。

〔発明の効果〕

処理内容に合致した試料を確実にセットできるので、自
動的に所定の処理を確実に行うことができる効果があ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例のプラズマ処理装置の要部
系統図である。 １……ロードカセット、３……カード室、５……処理
室、６……上位コントローラ、７……透過式光センサ
ー、８……非接触検出器、10……ダミーウェーハ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】試料を処理するための処理室と、該処理室
   への試料搬出入を自動的に行う手段とを有するプラズマ
   処理装置において、不透明な試料と透明な試料とを自動
   的に確認可能な検出手段を具備し、前記試料を自動的に
   区別して試料処理条件を自動的に選択できることを特徴
   とするプラズマ処理装置。