JP2660713B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プラズマ処理技術、特に、プラズマにより
実施される処理の進行状況を検出する技術に関し、例え
ば、半導体装置の製造工程において、ウエハにエッチン
グ処理を施すのに利用して有効な技術に関する。

〔従来の技術〕

半導体装置の製造工程において、ウエハ上の薄膜にエ
ッチング処理を施すドライエッチング装置として、上下
に配された平行平板電極の下部電極でウエハを保持する
とともに、両電極間に高周波電力を印加することによ
り、両電極間に形成されるプラズマと、処理室に供給さ
れるエッチングガスとによるプラズマ反応、および電界
内で加速されたイオンによってエッチング処理を施すよ
うに構成されているドライエッチング装置がある。

一般に、ドライエッチング装置においては、エッチン
グの終点を検出するためのエッチング終点検出装置が設
備されており、この種のエッチング終点検出装置とし
て、ガスプラズマ中に存在する被エッチング物の状態の
変化と関係づけられた化学種（原子、分子、イオン等）
からの発光線（以下、主発光線という。）の発光強度を
検出するように構成されているものが知られている。

なお、このようなエッチング終点検出装置を述べてあ
る例としては、特開昭55−59726号公報、および、特開
昭55−63830号公報がある。

また、ドライエンチング技術を述べてある例として
は、株式会社工業調査会発行「電子材料1985年11月号別
冊」昭和60年11月20日発行P119〜P124、がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

このようなエッチング終点検出装置を備えているドラ
イエッチング装置においては、ウエハ上におけるプラズ
マ発光の一部分のみを採取するように構成されているた
め、回路パターンの微細化に伴ってエッチング面積が減
少したり、プラズマ発光を抑えてエッチング処理する場
合において、エッチング終了時点における測定値の変化
が小さ過ぎて終点の判定が困難になり、その結果、終点
検出精度が低下するという問題点があることが、本発明
者によって明らかにされた。

本発明の目的は、プラズマ処理の進行状況についての
検出精度を向上させることができるプラズマ処理装置を
提供することにある。

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろ
う。

〔課題を解決するための手段〕

本願において開示される発明のうち代表的なものの概
要を説明すれば、次の通りである。

すなわち、被処理物について処理を施すプラズマを生
成するプラズマ生成手段と、プラズマの密度を部分的に
高めるマグネットと、このマグネットを偏心回転させる
回転手段と、プラズマの発光線を測定することによって
プラズマ処理の進行状況を検出する処理進行状況検出装
置とを備えているプラズマ処理装置であって、 前記プラズマの発光線を広い領域で集光して前記処理
進行状況検出装置に導く光学系を備えており、 前記回転手段に同期信号発生手段が設けられており、
この同期信号発生手段からの信号が前記処理進行状況検
出装置において平滑化処理のサンプリング信号として使
用されるように構成されていることを特徴とする。

〔作用〕

プラズマ密度を部分的に高めるマグネットが偏心回転
されるプラズマ処理装置において、プラズマの発光線を
広い領域で集光して処理進行状況検出装置に導く光学系
を設けることにより、プラズマの偏心回転によるハンチ
ング波形の振幅を抑制させることができるため、平滑化
処理を省略ないしは簡単化させることができ、その結
果、プラズマ処理の進行状況についての検出精度を高め
るこたができる。

プラズマの密度を部分的に高めるマグネットを偏心回
転させる回転手段に同期信号発生手段を設け、この手段
からの信号を処理進行状況検出装置において平滑化処理
のサンプリング信号として使用するように構成すること
により、最大検出誤差時間を短縮することができるた
め、処理進行状況の判定誤差、または、ばらつきを低減
させることができる。

〔実施例〕

第１図は本発明の一実施例であるマグネトロン放電形
ドライエッチング装置を示す横断面図、第２図はその縦
断面図、第３図はその作用を説明するための他のドライ
エッチング装置を示す横断面図、第４図、第５図および
第６図はその作用を説明するための各線図である。

本実施例において、本発明に係るプラズマ処理装置は
マグネトロン放電形ドライエッチング装置として構成さ
れており、このドライエッチング装置は被処理物として
のウエハ１を処理するための処理室２を構成するチャン
バ３を備えている。チャンバ３はステンレス鋼等から上
下面が閉塞した略円筒形状に形成されており、その側壁
にはウエハ搬入口４およびウエハ搬出口５が互いに離間
した位置にそれぞれ配されて、ウエハ１を搬入および搬
出し得るように、かつ、ゲートにより開閉されるように
それぞれ開設されている。また、チャンバ３の側壁にお
ける他の箇所には処理ガス供給管６が処理ガスとしての
エッチングガス（例えば、CHF₃、CF₄、CCl₄等）を供給
するように接続されており、供給管６の吹き出し口であ
るエッチングガス導入口は後記する平行平板電極間に、
その空間にエッチングガスを導入するように臨まされて
いる。一方、チャンバ３の底壁には処理室２内を排気す
るための排気口７が開設されており、排気口７は真空排
気手段（図示せず）に接続されている。

処理室２内の上部および下部には一対の電極が互いに
平行平板電極を構成するようにそれぞれ水平に配設され
ており、この平行平板電極によりプラズマ生成手段が実
質的に構成されている。一方の上部電極８はチャンバ３
に絶縁材料からなるホルダ９により固定的に吊持されて
おり、上部電極８はアースに接続されている。

他方の下部電極10はチャンバ３の底壁に絶縁物12を介
して挿入された支軸11により支持されており、下部電極
10には高周波電源13が支軸11を介してカソード結合され
ている。下部電極10はその上面においてウエハ１を載置
状態に保持し得るように形成されている。したがって、
下部電極10により被処理物としてのウエハ１を載置され
て保持するための処理ステージが実質的に構成されてい
る。また、下部電極10にはガイド孔14が複数本、同心円
上において周方向に等間隔に配されて垂直方向に開設さ
れており、各ガイド孔14には支持ピン15が摺動自在にそ
れぞれ挿通されている。支持ピン15はチャンバ３の底壁
に摺動自在に挿通されており、チャンバ３の外部に設置
されたシリンダ装置等のような適当な手段（図示せず）
により上下動されるように構成されている。

チャンバ３の天井壁には回転軸16が両電極の中心線上
において処理室２内に挿入されて回転自在に支承されて
おり、回転軸16はチャンバ３の外部に設置された回転手
段としてのモータ17により回転駆動されるようになって
いる。そして、回転軸16の挿入端部には偏心軸18が平行
に配されて、連結ロッド18aを介して回転軸と一体回転
するように固定されており、偏心軸18の下端にはマグネ
ット保持プレート19が同心的に配されて水平に吊持され
ている。保持プレート19にはマグネット20が保持されて
おり、マグネット20は両電極８および10間に形成される
プラズマ25をその磁界によって拘束することにより、そ
の密度を部分的に高めるように構成されている。マグネ
ット保持プレート19が偏心回転されるのに伴って、マグ
ネット20によってその密度を部分的に高められたプラズ
マ25は偏心回転されるようになっている。

回転軸16には同期信号を発生するための同期信号発生
装置21が設備されている。すなわち、回転軸16には円板
形状に形成されたスリット板22が同心的、かつ、直角に
配されて一体回転するように固着されており、スリット
板22の外周には一対のスリット23が中心を挟んで互いに
対峙する位置に配されて開設されている。スリット板22
の近傍には同期信号発生源としてのホトセンサ24が後記
するエッチング終点検出装置と直交する位置に配されて
設備されており、ホトセンサ24はスリット23の位置を検
出するように構成されている。ホトセンサ24は後記する
エッチング終点検出装置のコントローラに接続されてお
り、その検出結果をコントローラに送信するように構成
されている。

チャンバ３の側壁外部には処理進行状況検出装置とし
てのエッチング終点検出装置30が設備されており、チャ
ンバ３の側壁には検出窓31が設けられている。すなわ
ち、チャンバ３の側壁には窓孔32がウエハ搬入口４およ
びウエハ搬出口５と干渉しない位置であって、前記同期
信号発生装置21におけるホトセンサ24と直交する位置に
配されて開設されており、窓孔32には石英ガラス等から
なる透明部材33が嵌め込まれている。検出窓31の外側に
は光学フィルタ34が凹レンズ35および光学絞り36を介し
て配設されており、この光学フィルタ34は所定の主発光
線についての波長、すなわち、本実施例においては、一
酸化炭素（CO）のスペクトル波長に相当する561nmまた
は484nmの波長のみを透過するように構成されている。
プラズマの発光線を広い領域で集光する光学系としての
凹レンズ35はウエハ１上面全領域をカバーするように構
成されている。光学フィルタ34の光学的後方には光学フ
ィルタ34を透過した主発光線を受光する受光器37が配設
されており、この受光器37は受光量を測定し、測定量に
対応した電気信号を平滑化処理部38に送信するように構
成されている。平滑化処理部38にはエッチング終点判定
部39が接続されており、終点判定部39は平滑化信号の出
力値が予め設定された設定値以下になった時に終点と判
定するように構成されている。

また、このエッチング終点検出装置30はコンピュータ
等から構成されているコントローラ40を備えており、コ
ントローラ40はエッチング終点判定部39をして平滑化処
理部38からの電気信号に基づきエッチング終点を判定さ
せるように構成されている。また、コントローラ40は前
記同期信号発生装置21におけるホトセンサ24からの検出
結果に基づき、平滑化処理部38をして後述するようなサ
ンプリング作動を実行させるようになっている。

次に作用を説明する。

被処理物としてのウエハ１の処理室２への搬入時、支
持ピン15が駆動装置により上昇されると、ウエハ１が保
持アーム等のような適当な保持手段（図示せず）により
保持されて支持ピン15上に載置される。続いて、支持ピ
ン15が下降されることにより、ウエハ１は処理ステージ
としての下部電極10上に移載される。

次いで、チャンバ３の搬入口４と搬出口５とが閉じら
れた後、処理室２内が排気口７により排気されると、上
部電極８および下部電極10間に高周波電力が高周波電源
13により印加されるとともに、マグネット保持フレート
19がモータ17により回転軸16、連結ロッド18aおよび偏
心軸18を介して偏心回転される。これにより、上部電極
８と下部電極10との間の空間にプラズマ25が生成される
とともに、プラズマ25はプレート19に保持されたマグネ
ット20の磁界によりその密度を部分的に高められる。か
つまた、プレート19が偏心回転されるため、これと一体
回転するマグネット20の磁界に拘束されてその密度を部
分的に高められたプラズマ25は、第１図に示されている
ように、ウエハ１に対して偏心回転されることになる。

このように生成されたプラズマ25が安定したところ
で、処理ガス供給路６にエッチングガス（例えば、CH
F₃、CF₄、CCl₄等）が供給されてその吹出口から吹き出
される。これにより、プラズマエッチング反応およびイ
オンスパッタリングが惹起され、ウエハ１上に被着され
たレジスト（図示せず）と下地（例えば、SiO₂）との選
択比により所望のエッチング処理が施される。このと
き、マグネット20の磁界によりプラズマ25はその密度が
局所的に集中されているため、エッチング処理がきわめ
て効果的に実行されるとともに、プラズマ25が集中され
た箇所が偏心回転されるため、エッチング処理がウエハ
１全面にわたって均一に実行されることになる。

所望のエッチング処理の終了が、エッチング終点検出
装置30による後述する作用により確認されると、処理室
２内が安全な雰囲気に設定された後、チャンバ３のウエ
ハ搬出口５が開けられ、支持ピン15が上昇されることに
より、ウエハ１が支持ピン15上に移載される。次いで、
処理済みのウエハ１は適当なハンドラにより保持されて
搬出口５から搬出されて行く。

以降、前記作動が繰り返されることにより、ウエハ１
についてのドライエッチング処理が枚葉処理されて行
く。

次に、エッチング終点検出装置30によるエッチング終
点検出作動について説明する。

今、エッチグガスとして、CHF₃を用いてレジストに被
覆された下地としてのSiO₂をエッチング処理する場合、
次式のような化学反応によりCOが発生する。

CHF₃＋SiO₂→CO＋SiF₄＋H₂O このCOはSiO₂のエッチング処理が終了すると、急激に
低下するため、このCOの変化をそのスペクトル光により
測定すれば、エッチングの終了時点を検出することがで
きる。

そして、エッチング処理中、COのスペクトル光は主発
光線として受光器37により検出窓31、凹レンズ35、絞り
36およびフィルタ34を介して測定される。受光器37の検
出信号は電気信号として平滑化処理部38に送信される。
平滑化処理部38においては、後述するような作用によ
り、第５図に破線で示されているような平滑化信号42が
作成され、この信号がエッチング終点判定部39に送信さ
れる。この判定部39においては、その信号の出力値が予
め設定された設定値以下になった時に、エッチング処理
の終了時点であると判定され、その判定結果はコントロ
ーラ40に送信される。コントローラ40はこの判定結果に
基づき高周波電源13の出力停止等により、エッチング処
理を終了させる。

ところで、一般的なエッチング終点検出装置30′は、
第３図に示されているように、プラズマ25の主発光線を
狭い範囲で採光するように構成されている。このような
エッチング終点検出装置がマグネトロン放電形ドライエ
ッチング装置に使用された場合、エッチング終点検出装
置30′における受光器37′からの出力波形は、第４図に
示されているように、ハンチング現象を発生する。この
ハンチング現象はエッチング終点検出装置30′がチャン
バ３の側壁の１ヵ所に設置されているとともに、マグネ
トロン放電形ドライエッチング装置においては前述した
ように、その密度が部分的に高いプラズマが偏心回転さ
れるために発生する。すなわち、プラズマ密度の高い部
分がエッチング終点検出装置30′に接近した時に受光器
37′における出力が高くなり、それが離反した時、およ
び狭い採光領域からはみ出した時に出力が低くなる。

ところで、このハンチング波形41′を平滑化する方法
としては、第４図（ａ）に示されているように、ハンチ
ング波形41′のピーク値A₁、A₂、A₃を順次サンプリング
して平滑化する方法と、第４図（ｂ）に示されているよ
うに、ハンチング波形41′のボトム値B₁、B₂、B₃を順次
サンプリングして平滑化する方法と、第４図（ｃ）に示
されているように、ハンチング波形41′の平均値C₁、
C₂、C₃を順次サンプリングして平滑化する方法とが、一
般的に考えられる。

しかし、このような平滑化方法においては、平滑化の
ためにハンチングの１周期に相当する時間Ｔが必要にな
るため、１周期時間Ｔの範囲内において終点検出時点に
最大Ｔ時間の遅れ、または、ばらつき等の誤差が発生
し、その結果、エッチング処理の精度低下が発生する。

例えば、偏心回転が約20rpmである場合、ハンチング
波形における１周期の時間Ｔは約３秒となり、SiO₂につ
いてのエッチング速度が１秒間当たり約80Åであると、
最大１周期分の時間３秒間の遅れにより、最大約240Å
のエッチング量の過不足、または、各ウエハ相互間にお
いてその範囲内でエッチング量のばらつきが発生するこ
とになる。

そこで、本実施例においては、第５図に示されている
ように、平滑化のためのサンプリング時間をハンチング
波形41の１周期時間の半分（1/2×Ｔ）に設定すること
により、エッチング処理の精度低下が抑制される。

すなわち、ハンチング現象が依存するプラズマ25の偏
心回転はモータ17の駆動によるため、回転軸16に固着さ
れたスリット板22の回転はハンチング波形41に同期して
いることになる。したがって、ホトセンサ24がスリット
板22の一対のスリット23を検出することにより、ハンチ
ング波形41に1/2周期をもって同期した信号43が得られ
ることになる。この同期信号はホトセンサ24からコント
ローラ40に送信される。第６図に示されているように、
コントローラ40は同期信号43をサンプリング信号として
使用することにより、平滑化処理部38において、サンプ
リング信号43の発生時におけるハンチング波形41の出力
値を順次採取せしめる。これにより、第５図に破線で示
されているような平滑化信号42が得られる。

そして、この平滑化信号42はハンチング波形41に対し
て1/2T時間の周期をもってサンプリングされているた
め、最大検出遅れ時間は、1/2T時間に抑制されることに
なる。したがって、前述した例の場合についてのエッチ
ング量の誤差、または、ばらつきは最大約120Åにな
り、前述の半分に低減されることになる。

ここで、本発明に係るエッチング終点検出装置30にお
いては凹レンズ35がウエハ１全面の領域にわたって集光
するように、プラズマ25と受光器37との間に介設されて
いるため、プラズマ25の主発光線はプラズマ25の偏心回
転にかかわらず、常に全体的に集光されることになる。
したがって、偏心回転するプラズマ25のエッチング終点
検出装置30に対する位置関係による影響が減少されるた
め、プラズマ25の偏心回転によって発生するハンチング
波形41の振幅Ｄは、第４図に示されている場合における
ハンチング波形41′の振幅Ｄ′に比べて、第５図に示さ
れているように、制御されることになる。ハンチング波
形41の振幅Ｄが小さく抑制されることにより、前記した
平滑化処理の精度が一層高められ、要求される精度の厳
格性の条件等、場合によっては平滑化処理を省略するこ
とも可能になる。

そして、凹レンズ35によりプラズマ25の主発光線が常
に全体に集光されることにより、エッチング終点時にお
ける平滑化信号42の変化量は、第３図に示されているよ
うな狭い範囲で採光される場合に比べて、遥かに増大化
される。すなわち、エッチング処理が終点に達成した
時、COの発生が急激に減少するが、この減少量はウエハ
全域において最大になるため、COからの主発光線をウエ
ハの全領域について集光することにより、その減少時点
を最も明確に確定することができる。

このようにして、本実施例においては、第５図に示さ
れているように、平滑化信号42の終点時における変化量
がきわめて大きく、かつ、急峻に現れるため、エッチン
グ終点判定部39における終点判定が容易、かつ、精度よ
く実行されることになる。

前記実施例によれば次の効果が得られる。

（１） プラズマの発光線を測定することにより、プラ
ズマ処理の信号状況を検出する処理進行状況検出装置を
備えているプラズマ処理装置において、プラズマの発光
線を広い領域で集光し、前記処理進行状況検出装置に導
く光学系を設けることにより、前記処理進行状況検出装
置におけるプラズマの発光線の光量変化を増大化させる
ことができるため、処理進行状況検出の精度を高めるこ
とができる。

（２） プラズマの発光線を測定することにより、エッ
チングの終点を検出するエッチング終点検出装置を備え
ているドライエッチング装置において、凹レンズをプラ
ズマの発光線に広い領域で集光し、エッチング終点検出
装置に導くように設けることにより、エッチング終点時
におけるプラズマの発光線の光量変化を増大化させるこ
とができるため、エッチング終点検出精度を高めること
ができる。

（３） マグネトロン放電形ドライエッチング装置にお
いて、凹レンズをプラズマの主発光線をウエハ全域にわ
たって集光するように設けることにより、プラズマの偏
心回転によるハンチング波形の振幅を抑制させることが
できるため、平滑化処理を省略ないしは簡単化させるこ
とができ、その結果、エッチング検出精度を一層高める
ことができる。

（４） マグネトロン放電形ドライエッチング装置にお
いて、マグネットを偏心回転させる回転時に同期信号発
生手段を設け、この手段からの信号を、エッチング終点
検出装置において平滑化処理部のサンプリング信号とし
て使用することにより、エッチング終点検出における最
大誤差、または、ばらつきを抑制することができるた
め、エッチング量の過不足、または、各被処理物相互間
のエッチング量のばらつきを抑制させることができる。

（５） エッチングの終点精度を高めて、エッチング量
の過不足、およびばらつきを抑制することにより、エッ
チング精度の低下を抑制することができるため、製品の
品質および信頼性を高めることができる。

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき
具体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。

例えば、プラズマの発光線を集光し、処理進行状況検
出装置に導く光学系としては、凹レンズをプラズマと、
処理進行状況検出装置との間に介設して成る構成を使用
するに限らず、第７図または第８図にそれぞれ示されて
いる構成を使用してもよい。

すなわち、第７図において、検出窓31Aは比較的大き
く開放するように形成されており、この検出窓31Aの後
方には凸レンズ35Aが検出窓31Aからの採光が受光器37A
に小さい面積で集光されるように設置されている。

本実施例２においては、凸レンズ35Aがウエハ１上面
の略全域をカバーすることができるため、前記実施例１
と略同様な作用および効果を得ることができる。

また、第８図において、検出窓31の反対側には光学系
としての凹面鏡35Bが配置されており、この凹面鏡35Bは
ウエハ１上面全域カバーして主発光線を反射し検出窓31
内へ集光するように構成されている。

本実施例においては、ウエハ１上面全域の主発光線が
凹面鏡35Bにより反射されて受光器37に集光されるた
め、前記実施例１と略同様な作用および効果を得ること
ができる。

以上の説明では主として本発明者によってなされた発
明をその背景となった利用分野であるマグネトロン放電
形ドライエッチング装置に適用した場合について説明し
たが、それに限定されるものではなく、他のドライエッ
チング装置は勿論、プレーナマグネトロンスパッタリン
グ装置等のようなプラズマ処理装置全般に適用すること
ができる。特に、プラズマにより微細加工され、かつ、
プラズマによる処理の進行状況を精密に検出する必要性
がある場合に適用して優れた効果が得られる。

〔発明の効果〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによ
って得られる効果を簡単に説明すれば、次の通りであ
る。

プラズマの発光線を測定することにより、プラズマ処
理の進行状況を検出する処理進行状況検出装置を備えて
いるプラズマ処理装置において、プラズマの発光線を広
い領域で集光し、前記処理進行状況検出装置に導く光学
系を設けることにより、前記処理進行状況検出装置にお
けるプラズマの発光線の光量変化を増大化させることが
できるため、処理進行状況検出の精度を高めることがで
きる。

プラズマの密度を部分的に高めるマグネットを偏心回
転させる回転手段に同期信号発生手段を設け、この手段
からの信号を処理進行状況検出装置において平滑化処理
のサンプリング信号として使用するように構成すること
により、最大検出誤差時間を短縮することができるた
め、処理進行状況の判定誤差、または、ばらつきを低減
させることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例であるマグネトロン放電形ド
ライエッチング装置を示す横断面図、 第２図はその縦断面図、 第３図はその作用を説明するための他のドライエッチン
グ装置を示す横断面図、 第４図、第５図および第６図はその作用を説明するため
の各線図、 第７図および第８図は光学系の変形例を示す各横断面図
である。 １……ウエハ（被処理物）、２……処理室、３……チャ
ンバ、４……ウエハ搬入口、５……ウエハ搬出口、６…
…エッチングガス供給路、７……排気口、８……上部電
極、９……ホルダ、10……下部電極、11……支軸、12…
…絶縁物、13……高周波電源、14……ガイド孔、15……
支持ピン、16……回転軸、17モータ、18……偏心軸、18
a……連結ロッド、19……マグネット保持プレート、20
……マグネット、21……同期信号発生装置、22……スリ
ット板、23……スリット、24……ホトセンサ（同期信号
発生源）、25……プラズマ、30……エッチング終点検出
装置（処理進行状況検出装置）、31、31A……検出窓、3
2……窓孔、33……透明部材、34……光学フィルタ、35
……凹レンズ（光学系）、35A……凸レンズ（光学
系）、35B……凹面鏡（光学系）、36……光学絞り、37
……受光器、38……平滑化処理部、39……エッチング終
点判定部、40……コントローラ、41……ハンチング波
形、42……平滑化信号、43……サンプリング信号。

フロントページの続き (72)発明者 植山 啓治 群馬県高崎市西横手町111番地 株式会 社日立製作所高崎工場内 (72)発明者 藤原 和明 東京都青梅市藤橋３丁目３番地２ 日立 東京エレクトロニクス株式会社内 (56)参考文献 特開 昭64−48420（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−26438（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−170272（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−65433（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−18638（ＪＰ，Ａ)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】被処理物について処理を施すプラズマを生
   成するプラズマ生成手段と、プラズマの密度を部分的に
   高めるマグネットと、このマグネットを偏心回転させる
   回転手段と、プラズマの発光線を測定することによって
   プラズマ処理の進行状況を検出する処理進行状況検出装
   置とを備えているプラズマ処理装置であって、 前記プラズマの発光線を広い領域で集光して前記処理進
   行状況検出装置に導く光学系を備えており、 前記回転手段に同期信号発生手段が設けられており、こ
   の同期信号発生手段からの信号が前記処理進行状況検出
   装置において平滑化処理のサンプリング信号として使用
   されるように構成されていることを特徴とするプラズマ
   処理装置。
2. 【請求項２】前記同期信号発生手段が、前記回転手段の
   回転軸と一体回転するスリット板と、このスリット板に
   開設されている一対のスリットと、このスリットを検出
   するホトセンサとを備えていることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載のプラズマ処理装置。
3. 【請求項３】前記処理進行状況検出装置が、プラズマか
   らの主発光線の光量変化を測定することにより、プラズ
   マによって実施されるエッチング処理の終点を検出する
   ように構成されていることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項記載のプラズマ処理装置。