JPH06103176B2 - 原子間力顕微鏡 - Google Patents

原子間力顕微鏡

Info

Publication number
JPH06103176B2
JPH06103176B2 JP63088364A JP8836488A JPH06103176B2 JP H06103176 B2 JPH06103176 B2 JP H06103176B2 JP 63088364 A JP63088364 A JP 63088364A JP 8836488 A JP8836488 A JP 8836488A JP H06103176 B2 JPH06103176 B2 JP H06103176B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tip
tip member
atomic force
sample surface
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP63088364A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63309803A (ja
Inventor
ヴオルフガング・デイスター・ポール
Original Assignee
インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン filed Critical インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン
Publication of JPS63309803A publication Critical patent/JPS63309803A/ja
Publication of JPH06103176B2 publication Critical patent/JPH06103176B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q10/00Scanning or positioning arrangements, i.e. arrangements for actively controlling the movement or position of the probe
    • G01Q10/04Fine scanning or positioning
    • G01Q10/06Circuits or algorithms therefor
    • G01Q10/065Feedback mechanisms, i.e. wherein the signal for driving the probe is modified by a signal coming from the probe itself
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y35/00Methods or apparatus for measurement or analysis of nanostructures
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q10/00Scanning or positioning arrangements, i.e. arrangements for actively controlling the movement or position of the probe
    • G01Q10/04Fine scanning or positioning
    • G01Q10/045Self-actuating probes, i.e. wherein the actuating means for driving are part of the probe itself, e.g. piezoelectric means on a cantilever probe
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q60/00Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
    • G01Q60/24AFM [Atomic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. AFM probes
    • G01Q60/32AC mode
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/84Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
    • Y10S977/849Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
    • Y10S977/85Scanning probe control process
    • Y10S977/851Particular movement or positioning of scanning tip
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/84Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
    • Y10S977/849Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
    • Y10S977/86Scanning probe structure
    • Y10S977/863Atomic force probe

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 A.産業上の利用分野 本発明は、一般に原子間力顕微鏡に関するものであり、
より具体的には、原子間力顕微鏡の動作中に生じる力ま
たはたわみあるいはその両方を測定する手段に関する。
測定は水晶発振子に取り付けた尖ったチップによって行
なわれる。
B.従来技術およびその問題点 G.ビンニッヒ(Binning)が(欧州特許出願第86110276.
2号)で提案し、フィジカル・レビュー・レターズ(Phy
s.Rev.Letters)第56巻、第9号、1986年3月、930〜93
3頁に所載のG.ビンニッヒ、C.F.クェイト(Quate)、C
h.ゲルバ(Gerber)の論文に記載されている原子間力顕
微鏡は、ばね状片持ちばりに取り付けた鋭く尖ったチッ
プを用いて、検査しようとする表面のプロフィルを走査
する。そのときの距離でチップの頂点にある原子と表面
にある原子の間に引力または斥力が生じ、片持ちばりに
非常に小さなたわみが生じる。ビンニッヒの提案では、
トンネル顕微鏡によってこのたわみを測定する。つまり
導電性トンネル・チップを片持ちばりの背面からトンネ
ル距離内の所に配置し、トンネル電流の変動を利用して
たわみを決定する。片持ちばりの特性が既知の場合、原
子間力顕微鏡のチップと検査中の表面の間に生じる力が
決定できる。
尖ったチップと表面の間に生じる力は、通常、ファン・
デル・ワールス力や共有結合力やイオン結合力や斥力型
核相互作用力として記述されている。(チップの頂点に
ある)単一原子を表面へ原子間隔まで近接させるのに要
するエネルギーは、E=0.01ないし10eV=10−22ない
し10−18ジュールの範囲にある。対応する距離は、X
=10ないし1000pm(ピコメートル)=0.01ないし1nmと
いうサブナノメートルの範囲にある。したがって、当該
の力、すなわちポテンシャル関数の1次導関数は、K
=10pNないし10nNの範囲にある。その結果得られる原子
的「ばね定数」、すなわちポテンシャル関数の2次導関
数は、C=100ないし0.01N/mの範囲にある。これらの
データは、表面の研究および弾性定数の値など他の多く
の出所から導き出すことができる。
本発明の一目的は、原子間力顕微鏡として使用できる
が、検出のために片持ちばりもトンネリングも用いない
力測定測装置を記述することにある。
C.問題点を解決するための手段 したがって、本発明は、検査しようとする表面と相互作
用を行なう尖ったチップ、および上記チップを上記表面
へ10分の1ナノメートル程度の動作距離以内まで近付け
て上記チップをマトリックス方式で上記表面上で走査す
る手段からなる原子間力顕微鏡を提案する。この原子間
力顕微鏡は、上記チップが電位の印加を可能にする一対
の電極を両面に備えた発振本体の表面のうちの1つに取
り付けられ、動作中に上記チップが上記表面から離れて
いるとき上記本体がその共振振動数で発振するように励
起され、上記チップが上記表面から上記動作距離に維持
されている状態で、上記本体が上記共振振動数から特徴
的な形でずれた振動数で発振し、上記ずれが基準信号と
比較され、その結果得られた信号がフィードバック・ル
ープを通過してチップを上記表面に近付ける上記手段を
制御させることを特徴とする。
第1図を参照して説明すると、この原子間力顕微鏡は、
通常のxyz駆動装置(4)によってxyz方向に並進可能な
結晶発振子(2)の上端に取り付けられた尖ったチップ
(1)を含んでいる。上記結晶(2)の両面に被覆され
た一対の電極(5,6)に電位を印加すると、この結晶
(2)がその共振振動数で発振する。チップ(1)が検
査しようとするサンプル表面に近づくにつれて、チップ
はサンプル表面との相互的な原子間力を受けて、結晶の
発振振動数がその本来の振動数からずれる。
このずれをフィードバック・ループ中で使って、チップ
(1)のz方向で検査中の表面からの距離を制御し、表
面上でチップ(1)が行なう各走査の輪郭イメージをプ
ロットする。つまり、チップに付与された共振振動数ω
=C/m(C:水晶発振器の振動に付随するばね定数、
m:質量)とすると、チップとサンプル表面の距離が原子
レベルにまで近づいたときに、チップを水晶発振器によ
って振動させるとその振動数が原子間距離rに依存する
原子間力の作用によって共振振動数から変化する。この
ときの振動数をωとすると で表すことができる。つまり、右辺に示されるかっこの
分だけ共振振動数からのシフトが生じるのである。以
下、この式の導出過程について説明を加える。一次元に
おけるニュートンの運動方程式は で与えられる。ここで、Fは質量mの物体に働く力であ
る。
また、系のエネルギーU=(1/2)Cr+U
(2) で与えられる。
ここで、U=原子間の相互ポテンシャルである。
F=dU/drであるから、(2)式をrで微分して、2次
より高次の項を無視すると、 を得る。
また、(1)式に(3)式を代入して、 ω02=C/mを用いてmを消去すると、 一方、原子間力が作用していない場合は (4)式と(5)式は結局原子間力が作用している場合
と作用していない場合の違いを表しているから、原子間
ポテンシャル存在下での周波数ωは で表すことができる。本願発明はこの振動数のシフトを
測定することによってサンプルとチップとの距離を検出
するものである。
D.実施例 第1図には、小さなYカット水晶発振子2の振動面の一
方に装着された尖ったチップ1を含む原子間力測定装置
が示されている。水晶発振子2は、チップがサンプルか
ら十分に離れた位置にあるとき、その共振振動数で発振
するように励起させることができる。チップ1をサンプ
ル表面に充分近づけると、チップ1の頂点にある原子と
1個以上の表面原子の間で働く原子間力が共振振動数を
検出可能なだけシフトさせ、かつ励起振動数の高調波を
発生させる。その結果得られる感度は、欧州特許出願第
86110267.2号の原子間力顕微鏡の感度に匹敵することを
示すことができる。水晶発振子2が基板3に装着され、
基板3は通常のxyz駆動装置4に固定されている。水晶
発振子2の高さ、幅、長さの寸法は、全て約0.1mmが好
ましい。この水晶発振子は、通常のエッチング法と研摩
法(リソグラフィ)で製造することができる。検査しよ
うとするサンプル(図示せず)は、当技術で周知の粗並
進装置を用いてチップ1に接近させることができる。
水晶発振子2の両面にそれぞれ被覆された電極5および
6に電圧を印加すると、水晶発振子はx方向のせん断運
動を行なう。この運動に付随する弾性力は(静的)ばね
定数Cによって特徴付けることができる。
ただし、c66=4×1010N/m2は水晶発振子の特定カット
の弾性率であり、V.E.ボトム(Bottom)著「水晶発振子
ユニット設計(Quartz Crystal Unit Design)」に基づ
く。w=l=h=0.1mmである。水晶発振子2の交流で
励振させると、サンプル表面に垂直なチップの発振運動
が生じる。Yカット水晶発振子の共振(チップと表面の
相互作用なし)は、 で起こる。h=0.1mmとすると、基本振動数はν=20M
Hzとなる。
第1図の水晶発振器の等価回路が、第2図に示されてい
る。Cは、不可避の漂遊容量であり、水晶発振子自体
に関連する静電容量Cに比べて大きい。LおよびR
は、それぞれ水晶発振子のインダクタンスと抵抗であ
る。水晶発振器は、第2図に示したタイプの回路に組み
込むと、その直列共振振動数νで励起される。
これは、水晶発振子だけの特性によって決まり、漂遊容
量Cにはよらない。
サンプル表面からの距離が約1ないし0.1nmの時、チッ
プ1はサンプルと検出可能な程度の相互作用を示し始め
る。原子ポテンシャルが、発振器の弾性ポテンシャルに
重なっている。上記弾性ポテンシャルは、x方向に沿っ
たチップ1の偏位Sの偶関数である。原子ポテンシャ
ルは、変位原点に関して対称性を持たない。たとえば、
指数関数的に増加する斥力になることがある。
at=ESx/xoat=ESx/xoat=CSx/xo ただし、Eatは原子ポテンシャル、 Kat=dEat/dsxは原子間力、Catは力の定数、xoは斥力
の特性距離である。原子間力Katを級数展開すると、次
式が得られる。
atは、弾性力に比べて小さく、摂動を生じるだけであ
る。べき級数は、次のような原子間力の効果を示す。
O(x):静的な力K 静的な変位K/Cを生じ るが、小さすぎて検出できない。
0(X):ばね定数の再正規化 C→C+C 原子間力Katの級数展開からはこのように原子間力の作
用によってあたかもばね定数Cが変化したような取り
扱いとなる。しかし、これを振動数の変化に置き換える
と前述した振動数のシフトの式によって表される現象と
なる。
0(X):第2調波発生源項 ただし、(1)および(2)は、それぞれ基本振動数お
よび第2調波振動数での振幅を示す。
次に、共振振動数のシフトによる原子間力の検出に話を
移す。水晶発振子は、第3図の通常の回路と共に原子間
相互作用のために共振振動数が変化する発振器を形成す
る。続いて起こる振動数シフトは、市販の電子式計数装
置で容易に検出できる。第4図は、水晶発振子2とそれ
自体のドライバ回路7、すなわち第3図に示した回路
の、加算回路8への接続を示す概略回路図である。加算
回路8のもう一方の入力は、基準振動数発生装置9に接
続されている。加算回路8の出力は計数回路10に接続さ
れている。計数回路10は、水晶発振子2が検査しようと
する表面12に近づくに応じて、力によって誘発される水
晶発振子2の共振振動数の変動を表わすアナログ出力信
号を発生するように設計されている。計数装置10の出力
信号は、またxyz駆動装置4の動き、従ってチップ1の
動きを制御する制御装置にも供給される。
解像力が2×10−9で積分時間が1秒の「逆計数」法を
用いる計数装置の場合、結果として得られる力の感度Km
inは、 である。X=0.1nmの場合、Kmin=2×10−12Nとな
る。これは、非常に弱い原子間相互作用でも検出するの
に十分である。計数装置の出力信号を使って、第2図の
回路図に基づき平均のチップ位置を制御することができ
る。
観測時間tは、Kat=Kminの場合、1秒である。雑音
レベルより高いとき、tは1/Katに比例する。従っ
て、100ないし1000pNの範囲にあるやや強い相互作用
は、1ないし10ミリ秒以内に検出することができる。
振動数シフトの絶対値は、νもCも共に1/h単位で
表わされるので、共振振動数とは独立である。結果とし
て生じるシフトΔνは、次のようになる。
ただし、w=l=0.1mmの場合。
したがって、C=0.01ないし100N/mのときは、Δν=
0.05ないし500Hzとなる。
もう一つの原子間検出法は、第2調波発生によるもので
ある。上記展開におけるO(x)の項は、励起振動数
の2倍で力の項K(2)を生じる。この力が、水晶発振
子2の2次発振を引き起し、この発振が電極4および5
で第2調波電圧信号を生じる。この信号は、原子間力の
距離に関する2次導関数に比例する。この信号を大きく
するには第2調波が水晶発振子2の基本共振を励起すよ
うに、ν=ν/2と選ぶ。振幅は、S (2)=K
(2)Q/Cとなる。ただしQは水晶発振子2のQで、
通常10程度である。この値が大きいので、S (2)
は、通常、S (1)よりも2桁だけ小さい。当該の誘
導電荷は10−16クーロン程度であって、10メガヘルツで
10ナノアンペアの電流を生じる。
誘導電圧は、漂遊容量に依存する。C=4pfと仮定す
ると、U(2)=0.1μvになる。電力U(2)×I
(2)は、10−14Wになる。帯域幅100Hzの場合、当該
の熱雑音電力は10−18Wである。したがって、第2調波
信号も検出可能で、原子間力測定に利用できる。
この例で水晶発振子2のYカットを選んだのは、計算が
特に簡単なためにすぎず、熱安定性にとっては最適でな
い。ATカット、BTカット、SCカットでは、熱ドリフトが
かなり小さな発振器が可能になる。しかし、これらを装
着するのは、結晶底面が一般に節平面でないので、より
困難である。したがって、水晶発振子支持体は、より精
巧な設計が必要となる。
振動数シフトの決定に使用する電子式計数装置は、水晶
発振子2と並べて装着した外部基準発振器を用いるのが
好ましい。
第1図では水晶発振子2の上端に装着されたチップ1を
示すが、このチップを水晶発振子2に組み込んで水晶発
振子の一体的部分とするのが有利となることもある。当
業者なら気付くように、水晶発振子2に通常のエッチン
グ操作を施して水晶発振子の一方の表面から突き出して
いるチップを作成することができる。
応用分野によっては、水晶の代わりに他の圧電材料を用
いるのが有利なこともある。
E.効果 本発明によれば、サンプル表面との間で原子間力を発生
させるためのチップ部材を片持ちばりで支持し、かつ該
片持ちばりのたわみをトンネル電流の変化として検出す
る機構を使わなくても、これに変わる比較的簡単な機構
によって、サンプル表面の起伏に基づく原子間力の変化
を精度よく検出し、サンプル表面の像を形成することが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、水晶発振器の形をとる力測定装置の実施例を
示す図である。 第2図は、第1図の水晶発振器の等価回路図である。 第3図は、第1図の水晶発振器回路の回路図である。 第4図は、水晶発振器の制御回路の概略図である。 1……チップ、2……水晶発振子、3……基板、4……
xyz駆動装置、5、6……電極、7……ドライバ回路、
8……加算回路、9……基準振動数発生装置、10……計
数装置、11……制御装置12……サンプル表面。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】尖った先端部を有し、該先端部に位置する
    原子と検査しようとするサンプルの表面上の原子との間
    で原子間力を発生させるためのチップ部材と、 上記チップ部材の上記先端部と上記サンプル表面とを上
    記原子間力が発生可能な距離に近づけた状態で、上記チ
    ップ部材で上記サンプル表面の走査を行うための手段
    と、 上記先端部を突出させた状態で上記チップ部材を支持す
    る振動体と、 上記振動体に設けられた対をなす電極と、 上記電極間に電圧を印加して上記振動体を励起し、上記
    チップ部材の上記先端部と上記サンプル表面との間に原
    子間力が発生しない程度に離れた位置においては上記振
    動体を一定の振動数で振動させる手段と、 上記チップ部材の上記先端部と上記サンプル表面との間
    に原子間力が発生する位置における上記振動体の上記一
    定の振動数からのシフトを検出する手段と、 上記一定の振動数からのシフトを上記チップ部材の上記
    先端部と上記サンプル表面の距離を示す情報として利用
    して、上記サンプル表面の像を形成する手段と、 を含む原子間力顕微鏡。
  2. 【請求項2】尖った先端部を有し、該先端部に位置する
    原子と検査しようとするサンプルの表面上の原子との間
    で原子間力を発生させるためのチップ部材と、 上記チップ部材の上記先端部と上記サンプル表面とを上
    記原子間力が発生可能な距離に近づけた状態で、上記チ
    ップ部材で上記サンプル表面の走査を行うための手段
    と、 上記先端部を突出させた状態で上記チップ部材を支持す
    る振動体と、 上記振動体に設けられた対をなす電極と、 上記電極間に電圧を印加して上記振動体を励起し、上記
    チップ部材の上記先端部と上記サンプル表面との間に原
    子間力が発生しない程度に離れた位置においては上記振
    動体を一定の振動数で振動させる手段と、 上記チップ部材の上記先端部と上記サンプル表面との間
    に原子間力が発生する位置で上記振動体が振動するとき
    に発生する上記振動体の二次発振に起因する高長波電圧
    信号を検出する手段と、 上記検出された高長波電圧信号を上記チップ部材の上記
    先端部と上記サンプル表面の距離を示す情報として利用
    して、上記サンプル表面の像を形成する手段と、 を含む原子間力顕微鏡。
  3. 【請求項3】尖った先端部を有し、該先端部に位置する
    原子と検査しようとするサンプルの表面上の原子との間
    で原子間力を発生させるためのチップ部材と、上記チッ
    プ部材の上記先端部と上記サンプル表面とを上記原子間
    力が発生可能な距離に近づけた状態で上記チップ部材で
    上記サンプル表面の走査を行うための手段と、上記チッ
    プ部材を上記サンプル表面に対して垂直な方向に振動さ
    せる手段と、を備えた原子間力顕微鏡において上記チッ
    プ部材の上記先端部によって上記サンプル表面を走査す
    る方法であって、 上記振動させる手段によって上記チップ部材を一定の振
    動数で振動させつつ上記チップ部材と上記サンプル表面
    との距離を原子間力の作用する程度にまで接近させて、
    上記原子間力を受けることによって生じる上記一定の振
    動数からの変化分を検出して上記距離を測定しつつ、上
    記走査手段によって上記サンプル表面をマトリクス状に
    走査する方法。
  4. 【請求項4】尖った先端部を有し、該先端部に位置する
    原子と検査しようとするサンプルの表面上の原子との間
    で原子間力を発生させるためのチップ部材と、上記チッ
    プ部材の上記先端部と上記サンプル表面とを上記原子間
    力が発生可能な距離に近づけた状態で上記チップ部材で
    上記サンプル表面の走査を行うための手段と、上記チッ
    プ部材を上記サンプル表面と垂直な方向に振動させる手
    段と、を備えた原子間力顕微鏡において上記チップ部材
    の上記先端部によって上記サンプル表面を走査する方法
    であって、 上記振動させる手段によって上記チップ部材を一定の振
    動数で振動させつつ上記チップ部材と上記サンプル表面
    との距離を原子間力の作用する程度にまで接近させて、
    上記原子間力を受けることによって生じる二次発振に起
    因する高長波電圧信号を検出して上記距離を測定しつ
    つ、上記走査手段によって上記サンプル表面をマトリク
    ス状に走査する方法。
JP63088364A 1987-05-12 1988-04-12 原子間力顕微鏡 Expired - Fee Related JPH06103176B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP87106899.5 1987-05-12
EP87106899A EP0290647B1 (en) 1987-05-12 1987-05-12 Oscillating quartz atomic force microscope

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63309803A JPS63309803A (ja) 1988-12-16
JPH06103176B2 true JPH06103176B2 (ja) 1994-12-14

Family

ID=8196982

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63088364A Expired - Fee Related JPH06103176B2 (ja) 1987-05-12 1988-04-12 原子間力顕微鏡

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4851671A (ja)
EP (1) EP0290647B1 (ja)
JP (1) JPH06103176B2 (ja)
CA (1) CA1330452C (ja)
DE (1) DE3771711D1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11108940A (ja) * 1997-08-04 1999-04-23 Seiko Instruments Inc 走査プローブ顕微鏡
JP2000258330A (ja) * 1999-03-04 2000-09-22 Seiko Instruments Inc 走査型プローブ顕微鏡
WO2007072621A1 (ja) * 2005-12-19 2007-06-28 National University Corporation Kanazawa University 走査型プローブ顕微鏡

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2756254B2 (ja) * 1988-03-25 1998-05-25 キヤノン株式会社 記録装置及び再生装置
US5079958A (en) * 1989-03-17 1992-01-14 Olympus Optical Co., Ltd. Sensor having a cantilever
US5019707A (en) * 1989-03-23 1991-05-28 International Business Machines Corporation High speed waveform sampling with a tunneling microscope
JP2689356B2 (ja) * 1989-03-29 1997-12-10 キヤノン株式会社 エッジ検出装置
US5304924A (en) * 1989-03-29 1994-04-19 Canon Kabushiki Kaisha Edge detector
JP2686645B2 (ja) * 1989-05-08 1997-12-08 キヤノン株式会社 走査型トンネル電流検出装置
GB8910566D0 (en) * 1989-05-08 1989-06-21 Amersham Int Plc Imaging apparatus and method
US5144833A (en) * 1990-09-27 1992-09-08 International Business Machines Corporation Atomic force microscopy
DE4035076A1 (de) * 1990-11-05 1992-05-07 Jenoptik Jena Gmbh Anordnung zum messen linearer abmessungen auf einer strukturierten oberflaeche eines messobjektes
DE4035084A1 (de) * 1990-11-05 1992-05-07 Jenoptik Jena Gmbh Anordnung zum messen linearer abmessungen auf einer strukturierten oberflaeche eines messobjektes
DE4035075A1 (de) * 1990-11-05 1992-05-07 Jenoptik Jena Gmbh Anordnung zum messen linearer abmessungen auf einer strukturierten oberflaeche eines messobjektes
US5298975A (en) * 1991-09-27 1994-03-29 International Business Machines Corporation Combined scanning force microscope and optical metrology tool
US5254854A (en) * 1991-11-04 1993-10-19 At&T Bell Laboratories Scanning microscope comprising force-sensing means and position-sensitive photodetector
EP0551814B1 (en) * 1992-01-10 1997-04-02 Hitachi, Ltd. Surface observing apparatus and method
JPH05196559A (ja) * 1992-01-21 1993-08-06 Tadahiro Omi 測定される変位の量を較正する標準試料の製法及び標準試料並びに測定装置及び較正方法
US5267471A (en) * 1992-04-30 1993-12-07 Ibm Corporation Double cantilever sensor for atomic force microscope
US5262643A (en) * 1992-06-12 1993-11-16 International Business Machines Corp. Automatic tip approach method and apparatus for scanning probe microscope
USRE36488E (en) * 1992-08-07 2000-01-11 Veeco Instruments Inc. Tapping atomic force microscope with phase or frequency detection
US5347854A (en) * 1992-09-22 1994-09-20 International Business Machines Corporation Two dimensional profiling with a contact force atomic force microscope
US5321977A (en) * 1992-12-31 1994-06-21 International Business Machines Corporation Integrated tip strain sensor for use in combination with a single axis atomic force microscope
US5681987A (en) * 1993-04-28 1997-10-28 Topometrix Corporation Resonance contact scanning force microscope
US5481908A (en) * 1993-04-28 1996-01-09 Topometrix Corporation Resonance contact scanning force microscope
US6006594A (en) * 1994-05-11 1999-12-28 Dr. Khaled Und Dr. Miles Haines Gesellschaft Burgerlichen Rechts Scanning probe microscope head with signal processing circuit
GB2289759B (en) * 1994-05-11 1996-05-22 Khaled Karrau Coupled oscillator scanning imager
JP3402512B2 (ja) * 1994-05-23 2003-05-06 セイコーインスツルメンツ株式会社 走査型プローブ顕微鏡
US5804709A (en) * 1995-02-07 1998-09-08 International Business Machines Corporation Cantilever deflection sensor and use thereof
DE19513529A1 (de) * 1995-04-10 1996-10-17 Zeiss Carl Jena Gmbh Anordnung zur Erfassung der Topographie einer Oberfläche
US5574278A (en) * 1995-05-23 1996-11-12 The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce Atomic force microscope using piezoelectric detection
DE19520457C2 (de) * 1995-06-03 1997-07-31 Forschungszentrum Juelich Gmbh Meßfühler einer Sonde zur Messung der Topographie einer Probenoberfläche
US5874668A (en) * 1995-10-24 1999-02-23 Arch Development Corporation Atomic force microscope for biological specimens
JP2934739B2 (ja) * 1996-02-20 1999-08-16 セイコーインスツルメンツ株式会社 走査型近視野原子間力顕微鏡
JP3370527B2 (ja) * 1996-03-08 2003-01-27 セイコーインスツルメンツ株式会社 原子間力顕微鏡用プローブとその製造方法および原子間力顕微鏡
JP3249419B2 (ja) 1997-03-12 2002-01-21 セイコーインスツルメンツ株式会社 走査型近接場光学顕微鏡
US6079254A (en) * 1998-05-04 2000-06-27 International Business Machines Corporation Scanning force microscope with automatic surface engagement and improved amplitude demodulation
JP4044241B2 (ja) * 1999-05-24 2008-02-06 日本分光株式会社 プローブ顕微鏡
US6845655B2 (en) * 2003-03-17 2005-01-25 Wisconsin Alumni Research Foundation Heterodyne feedback system for scanning force microscopy and the like
US7055378B2 (en) 2003-08-11 2006-06-06 Veeco Instruments, Inc. System for wide frequency dynamic nanomechanical analysis
FR2915803B1 (fr) * 2007-05-02 2012-06-08 Centre Nat Rech Scient Sonde pour microscopie a force atomique

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH643397A5 (de) * 1979-09-20 1984-05-30 Ibm Raster-tunnelmikroskop.
US4550257A (en) * 1984-06-29 1985-10-29 International Business Machines Corporation Narrow line width pattern fabrication
US4618767A (en) * 1985-03-22 1986-10-21 International Business Machines Corporation Low-energy scanning transmission electron microscope
FR2588657B1 (fr) * 1985-10-10 1988-08-12 Asulab Sa Capteur de force comprenant un resonateur dont la frequence varie en fonction de la force appliquee
US4724318A (en) * 1985-11-26 1988-02-09 International Business Machines Corporation Atomic force microscope and method for imaging surfaces with atomic resolution

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PHYSICALREVIEWLETTERS,VOLUME56,NUMBER9,1986,p.930−933

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11108940A (ja) * 1997-08-04 1999-04-23 Seiko Instruments Inc 走査プローブ顕微鏡
JP2000258330A (ja) * 1999-03-04 2000-09-22 Seiko Instruments Inc 走査型プローブ顕微鏡
WO2007072621A1 (ja) * 2005-12-19 2007-06-28 National University Corporation Kanazawa University 走査型プローブ顕微鏡
US7954165B2 (en) 2005-12-19 2011-05-31 National University Corporation Kanazawa University Scanning probe microscope

Also Published As

Publication number Publication date
EP0290647A1 (en) 1988-11-17
DE3771711D1 (de) 1991-08-29
US4851671A (en) 1989-07-25
EP0290647B1 (en) 1991-07-24
CA1330452C (en) 1994-06-28
JPS63309803A (ja) 1988-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH06103176B2 (ja) 原子間力顕微鏡
US5267471A (en) Double cantilever sensor for atomic force microscope
Akiyama et al. Symmetrically arranged quartz tuning fork with soft cantilever for intermittent contact mode atomic force microscopy
US10215773B2 (en) Material property measurements using multiple frequency atomic force microscopy
US5641896A (en) Coupled oscillator scanning imager
US6185991B1 (en) Method and apparatus for measuring mechanical and electrical characteristics of a surface using electrostatic force modulation microscopy which operates in contact mode
Karrai et al. Piezo-electric tuning fork tip—sample distance control for near field optical microscopes
KR101206555B1 (ko) 프로브 기반 기기를 사용하는 정량 측정을 위한 방법 및 장치
JP2580244B2 (ja) 原子間力を検出するための機構、撓みを検出する方法
EP0890820A1 (en) Scanning probe microscope
JP3594927B2 (ja) 物性値の測定方法および走査型プローブ顕微鏡
US6257053B1 (en) Scanning probe microscope having piezoelectric member for controlling movement of probe
US8869311B2 (en) Displacement detection mechanism and scanning probe microscope using the same
JP4190936B2 (ja) 走査型プローブ顕微鏡およびその操作法
JP4378532B2 (ja) 櫛歯型プローブの駆動装置、原子間力顕微鏡装置および変位測定方法
Ilic et al. Dynamic characterization of nanoelectromechanical oscillators by atomic force microscopy
JP2002116132A (ja) 信号検出装置、該信号検出装置によって構成した走査型原子間力顕微鏡、および信号検出方法
US10656175B2 (en) Cantilever for atomic force microscopy
Decca et al. Mechanical oscillator tip-to-sample separation control for near-field optical microscopy
JPH10510620A (ja) 共振センサ
WO2000046569A1 (en) System and method of multi-dimensional force sensing for atomic force microscopy
JP3935350B2 (ja) 距離制御方法およびそれを用いた走査型プローブ顕微鏡
Schmidt et al. Experimental and theoretical analysis of shear–force interaction in the non-contact regime with 100 pN force resolution
Le Rouzic et al. W-shaped cantilevers for scanning force microscopy
JP2003185555A (ja) 周波数検出方法およびそれを用いた走査型プローブ顕微鏡

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees