JPH0596856U - 画像転写基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 被露光材料に画像を転写するために用いる画
像転写基板に関し、簡単な構成により真空密着時に要す
る時間を短縮すること。 【構成】 画像転写基板３は、画像を形成するための画
像形成面１０を有する透明のガラス板である。この画像
形成面１０は、中心Ｏと隅角部との高低差がＸ₁ぐらい
に中央部が盛り上がるように湾曲している。これによ
り、画像形成面１０は、真空密着時に中央部からシャド
ウマスク材と密着することになるため、速やかにシャド
ウマスク材と真空密着する。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、画像転写基板、特に、被露光材料に画像を転写するために用いる画 像転写基板に関する。

【０００２】

【従来の技術】

プリント配線基板やカラーＣＲＴ用シャドウマスクは、フォトエッチング法に より製造されている。例えば、カラーＣＲＴ用シャドウマスクの製造では、まず 、シャドウマスク材をアルカリ水溶液等を用いて脱脂処理し、水洗及び整面処理 後に表裏両面に感光液を塗布して乾燥させ、フォトレジスト膜を形成する。次に 、電子ビーム透過孔のパターン画像を有する画像転写基板をシャドウマスク材の 両面にそれぞれ形成された各フォトレジスト膜の表面に真空密着させ、画像転写 基板の背面から光を照射してフォトレジスト膜を露光処理する。これにより、画 像転写基板のパターン画像がフォトレジスト膜に転写される。露光処理の後、現 像、エッチング処理及びレジスト膜の剥離をこの順で行うとシャドウマスクが得 られる。

【０００３】 このようなフォトエッチング法では、画像転写基板としてガラス板が用いられ ている。このガラス板は、枠体により支持されており、フォトレジスト膜が形成 されたシャドウマスク材に真空密着し得る。ところが、このような画像転写基板 は、周辺部が中央部よりも先にシャドウマスク材に密着し易い。このため、画像 転写基板の中央部とシャドウマスク材との間に空気溜まりが生じ、真空密着が完 了するまでに長時間を有する。特に、３０インチ以上のテレビジョン用のＣＲＴ やハイビジョン用のＣＲＴ等の大型ＣＲＴ用のシャドウマスクを製造する場合は 、真空密着に要する時間がより長くなる。

【０００４】 そこで、画像転写基板の真空密着に要する時間を短縮するために、種々の改良 が検討されている。例えば、特開平１−２７６１４１号公報には、画像転写基板 の中央部をシャドウマスク材に押し付ける治具を設けた構成が示されている。ま た、特開昭４９−６２１３０号公報には、画像転写基板の周辺部をサンドブラス トやエッチング等の方法により削り取る構成が示されている。さらに、実開昭６ １−１９６２４８号公報には、画像転写基板に形成した画像の回りにスペーサを 配置した構成が示されている。これらの画像転写基板によれば、画像形成基板の 中央部が周辺部よりも先にシャドウマスク材に密着し得るので、真空密着に要す る時間を短縮できる。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、前記特開平１−２７６１４１号公報の構成によれば、露光処理 時に、露光の妨げとなる治具を移動させる必要がある。このため、治具の移動機 構等を設ける必要があり、構成が複雑化する。また、特開昭４９−６２１３０号 公報の構成によれば、小型のシャドウマスクを製造する場合は効果が期待できる が、大型のシャドウマスクを製造する場合は真空密着不良が起こり易い。さらに 、実開昭６１−１９６２４８号公報の構成によれば、スペーサ等の別部材が必要 であり、また、このスペーサを画像転写基板に貼着する等の手間がかかる。

【０００６】 本考案の目的は、被露光材料に画像を転写するために用いる画像転写基板に関 し、簡単な構成により真空密着時に要する時間を短縮することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】

本考案の画像転写基板は、被露光材料に画像を転写するために用いるものであ る。この画像転写基板は、透光性を有する板状体からなり、かつ中央部が盛り上 がるように湾曲しているとともに、画像を形成する画像形成面を備えている。

【０００８】

【作用】

本考案に係る画像転写基板の画像形成面を被露光材料に真空密着させ、画像形 成面の背面から光を照射すると、画像形成面に形成された画像を被露光材料に転 写できる。ここで、画像転写基板を被露光材料に真空密着する際には、画像形成 面の中央部が最初に被露光材料に密着し、その後画像形成面の周縁部が除々に被 露光材料に密着する。したがって、画像転写基板と被露光材料との真空密着時に は、画像転写基板と被露光材料との間に空気溜まりが発生しにくく、画像転写基 板は速やかに被露光材料に真空密着する。

【０００９】

【実施例】

図１及び図２に、本考案の画像転写基板を備えた両面焼付機１を示す。図にお いて、両面焼付機１は、１対の画像転写装置１ａ，１ａから主に構成されている 。各画像転写装置１ａは、支持枠２と、支持枠２に支持された画像転写基板３と から主に構成されている。

【００１０】 支持枠２は、直方体の枠状部材であり、中央に窓部４を有している。また、支 持枠２の片面は、図２に示すように、周縁部５が突出しており、中央部に凹部６ を有している。この凹部６の深さは、画像転写基板３の厚みに比べて小さく設定 されている。周縁部５には、一連のゴムパッキング７が取り付けられている。さ らに、支持枠２は、窓部４の回りに複数の第１真空排気孔８を有している。第１ 真空排気孔８の外周には、複数の第２真空排気孔９が形成されている。第１真空 排気孔８及び第２真空排気孔９は、それぞれ別々の真空排気経路（図示せず）に 連結している。なお、図１では、第１真空排気孔８及び第２真空排気孔９を省略 している。

【００１１】 画像転写基板３は、板状の透明ガラス製である。画像転写基板３は一方の主面 に画像形成面１０を有している。画像形成面１０は、図３に示すように、中央部 が盛り上がる、球面形状に形成されている。この画像形成面１０は、画像転写基 板３の中心Ｏにおける厚みが３〜８ｍｍの場合、中心Ｏと隅角部との高低差Ｘ₁ が０．０１〜０．３ｍｍに設定されている。なお、このような画像転写基板３は 、溶融ガラスの成形、ガラス板の研磨加工又はサンドブラスト加工等の手法によ り製造し得る。画像転写基板３は、画像形成面１０の反対側の主面が支持枠２の 凹部６に設けられているガスケット１１により保持されている。ここで、画像転 写基板３は、周縁部が第１真空排気孔８と第２真空排気孔９との間に位置するよ う凹部６に保持されている。

【００１２】 次に、前記両面焼付機１による画像転写動作について説明する。ここでは、カ ラーＣＲＴ用のシャドウマスクを製造する場合を例に説明する。 まず、各画像転写装置１ａの画像転写基板３に、シャドウマスクの電子ビーム 通過孔に対応する画像を形成する。このような画像は、画像形成面１０に銀塩乳 剤を塗布してから製版カメラを用いて、或いは画像形成面１０にクロム等の金属 を蒸着させてからエッチング法により形成できる。なお、画像転写基板３は、ガ スケット１１により凹部６に取り付けられているため、画像形成面１０に画像を 形成する際に支持枠２から取り外すことができる。

【００１３】 一方、シャドウマスク用のシャドウマスク材（被露光材料の一例）を用意する 。シャドウマスク材としては、低炭素アルキド鋼やニッケルを３６重量％含有す るインバー型合金等の厚みが通常０．１〜０．３ｍｍの板材が用いられる。また 、大きさは、ＣＲＴの大きさに対応して設定される。このようなシャドウマスク 材は、アルカリ水溶液により脱脂処理され、水洗後に両主面が整面処理される。 そして、整面処理された両主面には、感光液が塗布され、これにより厚みが数μ ｍのフォトレジスト膜が形成される。

【００１４】 次に、図１及び図２に示すように、両面にフォトレジスト膜が形成されたシャ ドウマスク材１２を１対の画像転写装置１ａ，１ａ間に挟む。ここでは、画像転 写装置１ａの画像形成面１０をそれぞれシャドウマスク材１２と対向させ、ゴム パッキング７，７間にシャドウマスク材１２を挟む。これにより、１対の画像転 写装置１ａ，１ａの当接部位が気密に維持される。

【００１５】 次に、画像転写装置１ａ，１ａの第１真空排気孔８に連結された図示しない真 空排気経路を作動させる。これにより、画像転写基板３が凹部６に吸着し、窓部 ４が気密に封止される。この状態で、画像転写装置１ａ，１ａの第２真空排気孔 ９に連結された図示しない真空排気経路を作動すると、各画像転写装置１の凹部 ６とシャドウマスク材１２とにより形成される空間Ｓが負圧に設定される。これ により、両画像転写装置１ａ，１ａは、大気圧により押されてゴムパッキング７ が弾性変形し、互いに近づく。この結果、各画像転写基板３の画像形成面１０の 中央部が、シャドウマスク材１２に密着する。

【００１６】 さらに空間Ｓ内が負圧になると、図４に示すように画像転写装置１ａ，１ａ間 の間隔Ｙが縮まり、これとともに画像転写基板３とシャドウマスク材１２との密 着面積が除々に拡大する。さらに、画像転写基板３の周縁部がシャドウマスク材 １２方向に反り、画像形成面１０全体がシャドウマスク材１２に密着する。 このようにシャドウマスク材１２に画像形成面１０全体が密着すると、次に、 各窓部４，４の外側から超高圧水銀ランプにより光を照射する。これにより、画 像形成面１０に形成された画像がシャドウマスク材１２のフォトレジスト膜上に 焼付けられる。

【００１７】 その後、シャドウマスク材１２を両面焼付機１から取り外し、現像処理後にエ ッチング処理を施すと、所定パターンの電子ビーム通過孔が形成されたシャドウ マスクが得られる。実験例 前記実施例において、９００ｍｍ×８００ｍｍでＸ₁ が０．２１ｍｍの画像転 写基板を用い、両面にフォトレジスト膜が形成された６００ｍｍ×６００ｍｍ× ０．１５ｍｍ（板厚）の鉄板製長尺シャドウマスク材に対して焼付処理を施した 。この際、画像転写基板とシャドウマスク材との真空密着に要した時間は約２０ 秒であった。

【００１８】 比較のため、Ｘ₁ が０．０１未満の画像転写基板を用いて同様の焼付処理を行 ったところ、画像転写基板とシャドウマスク材との真空密着に要した時間は約８ ０秒であった。このことから、前記実施例によれば、画像転写基板とシャドウマ スク材との真空密着に要する時間を大幅に短縮できたことになる。 〔他の実施例〕 前記実施例において、画像転写基板３の画像形成面１０は、図５に示すように 、円筒面であっても良い。この場合も、画像形成面１０の中央部と端部との高低 差Ｘ₂ は、０．０１〜０．３ｍｍに設定するのが好ましい。

【００１９】 また、図６に示すように、画像転写基板３の画像形成面１０は、画像形成部１ ０ａのみが湾曲し、その周縁部が平坦に削り取られた形状であっても良い。この 場合も、画像形成部１０ａとその周辺部との高低差Ｘ₃ は、０．０１〜０．３ｍ ｍに設定するのが好ましい。

【００２０】

【考案の効果】

本考案の画像転写基板は、被露光材料に画像を転写する画像形成面を上述のよ うな湾曲形状に構成したため、簡単な構成で真空密着時に要する時間を短縮でき る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の画像転写基板を備えた両面焼付機の斜
視図。

【図２】図２のII−II断面図。

【図３】本考案の画像転写基板の斜視図。

【図４】前記両面焼付機の動作状態を示す図２に相当す
る図。

【図５】他の実施例の図３に相当する図。

【図６】さらに他の実施例の図３に相当する図。

【符号の説明】

３ 画像転写基板 １０ 画像形成面 １２ シャドウマスク材

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】被露光材料に画像を転写するために用いる
   画像転写基板であって、 透光性を有する板状体からなり、かつ中央部が盛り上が
   るように湾曲しているとともに前記画像を形成する画像
   形成面を備えている、 画像転写基板。