JPH0595008A - 電荷転送素子における電荷検出部 - Google Patents

電荷転送素子における電荷検出部

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Publication number
JPH0595008A
JPH0595008A JP3253211A JP25321191A JPH0595008A JP H0595008 A JPH0595008 A JP H0595008A JP 3253211 A JP3253211 A JP 3253211A JP 25321191 A JP25321191 A JP 25321191A JP H0595008 A JPH0595008 A JP H0595008A
Authority
JP
Japan
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charge
voltage
electrode
detection
conversion rate
Prior art date
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Pending
Application number
JP3253211A
Other languages
English (en)
Inventor
Takehiko Osumi
武彦 尾住
Kazuo Hashiguchi
和夫 橋口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
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Publication of JPH0595008A publication Critical patent/JPH0595008A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 フローティング・ディフュージョン24に隣
接するコントロールゲート26にDCまたはクロック電
圧を印加することにより検出容量を可変とする。 【効果】 状況に応じた電荷電圧変換率が得られるた
め、高い電荷電圧変換率と広いダイナミックレンジが同
一素子で実現でき、その機能的効果大である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、イメージセンサや遅
延素子などに適用して、好適な電荷転送素子における電
荷検出部に関し、特に、信号電荷の電荷電圧変換部にお
ける変換率を可変にしたものである。
【0002】
【従来の技術】チャージ・カップルド・デバイス(CC
D)などの電荷転送素子(CTD)を用いたデバイスの
代表的なものとして、図6に示す一次元イメージセン
サ、図7に示す二次元イメージセンサ、そして図8に示
すシリアル・パラレル・シリアル(SPS)方式の遅延
素子などがよく知られている。図6〜8において、2は
光電変換素子、4はトランスファゲート、6は垂直転送
チャネル、8は水平転送チャネル、12は電荷電圧変換
部(信号出力部)、14はアンプである。また、16は
電圧電荷変換部(信号入力部)、18は水平転送チャネ
ルである。
【0003】これらのデバイスは何れも、矢印で示すよ
うに、転送チャネルを通して信号電荷の転送を行い、順
次転送されてきた信号電荷は、信号出力部において電荷
電圧変換され、後に続くアンプを動作させる。
【0004】FDA形電荷検出部を有する電荷転送素子
において、電荷検出部の代表的な構造を図9に、駆動タ
イミングを図10に、その時のポテンシャル関係を図1
1に示す。
【0005】図9において、8は、水平転送ゲート(H
1,H2)、10はアウトプットゲート(OG)、20
はリセットゲーム(RG)、22はリセットドレイン
(RD)、24はフローティング・デフュージョン(F
D)、14はMOSアンプである。また、図11におい
て、ΔVMAXはFDで取り扱える最大信号振幅である。
【0006】転送チャネルを通り順次転送されてきた信
号電荷Qsigは、FDにおいて電荷電圧変換され、FD
に結合された配線を通し後に続くMOSアンプを動作さ
せる。FDの接合容量をCd,MOSアンプのゲート容
量をCg,その他の寄生容量をCfとすれば、CFDはFD
に関する全容量であり CFD=Cd+Cg+Cf で示されるこの時、MOSアンプのゲートでの検出信号
をΔVsigとすれば ΔVsig=Qsig/CFD で示される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】近年、例えば2次元イ
メージセンサにおいてデバイスの高画素化,小型化に伴
い電荷電圧変換率の向上が求められている。図9に示す
電荷検出部においては検出容量CFDを十分小さく設定す
ることで実現できる。
【0008】しかし、FDでの最大取り扱い電荷量ΔQ
MAXは、 ΔQMAX=CFD・ΔVMAX で示されるため、ΔVMAX一定の場合、CFDを小さくす
ることでΔQMAXの減少が生じる。つまり、図9に示す
ような従来の構造においては、CFDは固定されるため高
い電荷電圧変換率を得るためにCFDを小さくすれば、Δ
MAXの低下をまねきその結果、広いダイナミックレン
ジを確保することができなくなる。
【0009】
【課題を解決するための手段】 FDA形電荷検出部
を有する電荷転送素子において、検出容量を可変とする
ことにより電荷電圧変換率を可変とする。
【0010】 FDA形電荷検出部を有する電荷転送
素子において、FDに隣接する電極にDC、またはクロ
ック電圧を印加することにより検出容量を可変とする。
【0011】本発明第2項の一例として、図1に26と
して示すようにFD24とOG10の間に新たに電極C
G(コントロールゲート)を設け、これにDC、または
クロック電圧を印加することにより検出容量を可変とす
るものが考えられる。この場合、新たに設ける電極はF
DとOGの間以外、例えば、FD24とRG20の間な
どFDに隣接していればよく、また電極の枚数は1枚で
なくてもよい。
【0012】
【作用】電極CGにDC、又は、クロック電圧を印加す
ることで検出容量を選択することができ、その結果電荷
電圧変換率を選択することができる。つまり、取り扱う
sigの大きさにより、高い電荷電圧変換率か、もしく
は広いダイナミックレンジかを状況に応じて確保するこ
とが可能となる。
【0013】
【実施例】本発明第2項の実施例における電荷検出部の
断面図を図1に、検出容量を切り換える場合のタイミン
グ図を図2に、それぞれの検出容量で動作しているとき
のポテンシャル図を図3及び図4に示し、それぞれの動
作について説明を行う。
【0014】はじめに、図2におけるt=t1の期間、
検出容量を小さくし電荷電圧変換率を大きくとりたい場
合のポテンシャル関係について図3に示す。
【0015】順次転送されてきた信号電荷はOG,CG
電極下のチャネルを通りFDにおいて電荷電圧変換され
る。その後FDはRG電極をオンすることによりRDに
印加された基準電圧にリセットされる。
【0016】FDの接合容量をCd1,MOSアンプのゲ
ート容量をCg1,その他の寄生容量をCf1とすればC
FD1は CFD1=Cd1+Cg1+Cf1 で示され、この時の電荷電圧変換された信号電荷をΔV
sig1とすれば ΔVsig1=Qsig/CFD1 で示される。
【0017】つぎに、図2におけるt=t2の期間、検
出容量を大きくし電荷電圧変換率を小さく取りたい場合
のポテンシャル関係について図4に示す。
【0018】順次転送されてきた信号電荷はOG電極下
のチャネルを通り、CG電極下及びFDに広がりそこで
電荷電圧変換される。その後FDはRG電極をオンする
ことによりRDに印加された基準電圧にリセットされ
る。この時、RG電極下のポテンシャルを基準電圧にリ
セットする必要から、RG電極には高い電圧が印加され
ている。
【0019】CG電極下の領域を電荷電圧変換に利用す
ることによる検出容量の増加をΔCCGとすればCFD2は CFD2=CFD1+ΔCCC で示され、この時の電荷電圧変換された信号電荷をΔV
sig2とすれば ΔVsig2=Qsig/CFD2 で示される。
【0020】このようにCGに印加する電圧及びクロッ
クを制御することにより検出容量をCFD1またはCFD2
任意に選ぶことができる。CFD1とCFD2を例えば CFD2=α・CFD1 と設定すれば、CFD1の動作においてはCFD2の動作のα
倍の電荷電圧変換率を得ることが可能となる。
【0021】その他の実施例として、図5に示す構造が
ある。
【0022】図5において図9に示す従来構造との違い
は、28として示すFD24内に設けたP+領域(C
D)である。このCD28に外部から電圧を印加するこ
とにより、FD24のN+とCD28のP+との接合容量
をコントロールし、その結果検出容量を可変とすること
が可能となる。
【0023】
【発明の効果】以上のように、例えば従来の電荷検出部
に新たな電極を設け、DC又はクロック電圧を印加する
ことにより検出容量が可変となり、その結果、状況に応
じた電荷電圧変換率が得られるため、高い電荷電圧変換
率(イメージセンサーにおける低照度時の感度向上な
ど)と広いダイナミックレンジが同一素子で実現でき、
その機能的効果大である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明における電荷検出部の断面図である。
【図2】検出容量を切り換える場合のタイミング図であ
る。
【図3】小さい検出容量で動作しているときのポテンシ
ャル図である。
【図4】大きい検出容量で動作しているときのポテンシ
ャル図である。
【図5】本発明における他の実施例を示す電荷検出部の
断面図である。
【図6】一次元イメージセンサを示す図である。
【図7】二次元イメージセンサを示す図である。
【図8】シリアル・パラレル・シリアル方式の遅延素子
を示す図である。
【図9】従来技術における電荷検出部の断面図である。
【図10】同駆動タイミングを示す図である。
【図11】同ポテンシャル図である。
【符号の説明】
26 コントロールゲート 28 コントロールディフュージョン

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フローティング・ディフュージョン・ア
    ンプリファイア(FDA)形電荷検出部を有する電荷転
    送素子において、検出容量を可変とすることを特徴とす
    る、電荷転送素子における電荷検出部。
  2. 【請求項2】 FDA形電荷検出部を有する電荷転送素
    子において、フローティング・ディフュージョンに隣接
    する電極にDC、またはクロック電圧を印加することに
    より検出容量を可変とすることを特徴とする、電荷転送
    素子における電荷検出部。
JP3253211A 1991-10-01 1991-10-01 電荷転送素子における電荷検出部 Pending JPH0595008A (ja)

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JP3253211A Pending JPH0595008A (ja) 1991-10-01 1991-10-01 電荷転送素子における電荷検出部

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JP (1) JPH0595008A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9338374B2 (en) 2013-05-13 2016-05-10 Sony Corporation Solid-state image sensor, method for driving solid-state image sensor, and electronic device
WO2022044669A1 (ja) * 2020-08-27 2022-03-03 富士フイルム株式会社 撮像制御装置、撮像装置、制御方法、及びプログラム

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