JPH0594019A - 平版印刷版の製版方法およびこれに用いる拡散転写処理液 - Google Patents
平版印刷版の製版方法およびこれに用いる拡散転写処理液Info
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- JPH0594019A JPH0594019A JP3282251A JP28225191A JPH0594019A JP H0594019 A JPH0594019 A JP H0594019A JP 3282251 A JP3282251 A JP 3282251A JP 28225191 A JP28225191 A JP 28225191A JP H0594019 A JPH0594019 A JP H0594019A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C8/00—Diffusion transfer processes or agents therefor; Photosensitive materials for such processes
- G03C8/32—Development processes or agents therefor
- G03C8/36—Developers
- G03C8/365—Developers containing silver-halide solvents
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/06—Silver salts
- G03F7/063—Additives or means to improve the lithographic properties; Processing solutions characterised by such additives; Treatment after development or transfer, e.g. finishing, washing; Correction or deletion fluids
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 銀錯塩拡散転写法による平版印刷版の製版方
法において、インキ受容性が高く、著しく高耐刷力の平
版印刷版とする。しかも処理機器の腐食や廃液処理上の
問題などを生じない拡散転写処理液とする。 【構成】 拡散転写処理液にハロゲン化銀錯化剤として
一般式［Ｉ］で示すメソイオン化合物を含有させる。 一般式［Ｉ］ 例えば
法において、インキ受容性が高く、著しく高耐刷力の平
版印刷版とする。しかも処理機器の腐食や廃液処理上の
問題などを生じない拡散転写処理液とする。 【構成】 拡散転写処理液にハロゲン化銀錯化剤として
一般式［Ｉ］で示すメソイオン化合物を含有させる。 一般式［Ｉ］ 例えば
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、銀錯塩拡散転写法によ
る平版印刷版の製版方法、特にそれに用いる処理液に関
するものである。
る平版印刷版の製版方法、特にそれに用いる処理液に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】写真的な複製方法の一つである銀錯塩拡
散転写法によって得られる銀画像を、オフセット印刷原
版として用いることができるようにした印刷版は、すで
に特公昭４６−４３１３２号あるいは特公昭４８−３０
５６２号に記載されており、さらにポジタイプの印刷原
版については特開昭４９−５５４０２号に、ネガタイプ
の印刷原版については特開昭５２−１０６９０２号、特
開昭５２−１１２４０２号等に詳細に記載されている。
散転写法によって得られる銀画像を、オフセット印刷原
版として用いることができるようにした印刷版は、すで
に特公昭４６−４３１３２号あるいは特公昭４８−３０
５６２号に記載されており、さらにポジタイプの印刷原
版については特開昭４９−５５４０２号に、ネガタイプ
の印刷原版については特開昭５２−１０６９０２号、特
開昭５２−１１２４０２号等に詳細に記載されている。
【０００３】このような平版印刷版の製版法に適した銀
錯塩拡散転写法の代表的な実施法によれば、支持体およ
びその上にハレーション防止をかねた下引層、ハロゲン
化銀乳剤層、物理現像核層からなる感光材料を画像露光
し、現像処理を行なうと潜像が形成されているハロゲン
化銀は乳剤層中で黒化銀となる。同時に潜像が形成され
ていないハロゲン化銀は現像処理液中に含まれるハロゲ
ン化銀錯化剤の作用で溶解し、感光材料の表面に拡散し
てくる。溶解し拡散してきた銀錯塩が表面層の物理現像
核の上に現像主薬の還元作用によって銀画像として析出
する。得られた銀画像のインキ受容性を強化させるため
に、現像処理に続いて必要ならば感脂化処理が施された
後、オフセット印刷機にセットされ、印刷物へとインキ
画像が転写される。
錯塩拡散転写法の代表的な実施法によれば、支持体およ
びその上にハレーション防止をかねた下引層、ハロゲン
化銀乳剤層、物理現像核層からなる感光材料を画像露光
し、現像処理を行なうと潜像が形成されているハロゲン
化銀は乳剤層中で黒化銀となる。同時に潜像が形成され
ていないハロゲン化銀は現像処理液中に含まれるハロゲ
ン化銀錯化剤の作用で溶解し、感光材料の表面に拡散し
てくる。溶解し拡散してきた銀錯塩が表面層の物理現像
核の上に現像主薬の還元作用によって銀画像として析出
する。得られた銀画像のインキ受容性を強化させるため
に、現像処理に続いて必要ならば感脂化処理が施された
後、オフセット印刷機にセットされ、印刷物へとインキ
画像が転写される。
【０００４】このような印刷版に必要とされる諸性能
は、印刷材料に依存すると同時に、それを製版する工
程、とりわけ現像処理工程に強く依存している。すなわ
ち、転写現像された銀画像の状態が印刷特性に与える影
響の大きな要因の一つとなり、それは転写銀粒子の生成
条件、例えば銀錯塩の拡散速度、安定度あるいは還元速
度が重要な因子となっている。
は、印刷材料に依存すると同時に、それを製版する工
程、とりわけ現像処理工程に強く依存している。すなわ
ち、転写現像された銀画像の状態が印刷特性に与える影
響の大きな要因の一つとなり、それは転写銀粒子の生成
条件、例えば銀錯塩の拡散速度、安定度あるいは還元速
度が重要な因子となっている。
【０００５】拡散転写法による現像処理工程に用いるた
めのハロゲン化銀錯化剤には各種のものが知られてお
り、その例としては（１）チオ硫酸塩類、（２）チオシ
アン酸塩類、（３）米国特許第３１６９９９２号に記載
されているアミンチオサルフェート、（４）米国特許第
２８５７２７６号に記載の環状イミド化合物、（５）特
公昭６１−４０９９号記載の２−メルカプト安息香酸
類、（６）特公昭６１−４１００号記載のチオサルチル
酸および５〜６員環の環状イミド化合物、等がある。こ
れらのハロゲン化銀錯化剤を用いて現像処理製版した印
刷版は、高感度、高い解像力、高い画像再現性という特
徴を有するが、他の実用化されている印刷版（例えばＰ
Ｓ版）などと比較して、耐刷力の点において劣ってお
り、耐刷力の改善された製版方法が要望されている。
めのハロゲン化銀錯化剤には各種のものが知られてお
り、その例としては（１）チオ硫酸塩類、（２）チオシ
アン酸塩類、（３）米国特許第３１６９９９２号に記載
されているアミンチオサルフェート、（４）米国特許第
２８５７２７６号に記載の環状イミド化合物、（５）特
公昭６１−４０９９号記載の２−メルカプト安息香酸
類、（６）特公昭６１−４１００号記載のチオサルチル
酸および５〜６員環の環状イミド化合物、等がある。こ
れらのハロゲン化銀錯化剤を用いて現像処理製版した印
刷版は、高感度、高い解像力、高い画像再現性という特
徴を有するが、他の実用化されている印刷版（例えばＰ
Ｓ版）などと比較して、耐刷力の点において劣ってお
り、耐刷力の改善された製版方法が要望されている。
【０００６】上述のハロゲン化銀錯化剤のなかでも、チ
オシアン酸塩を用いることによって、インキ受容性が高
い銀画像を生成することができ、かつコスト的にも有利
なものとすることができるが、このようなものでは、
（１）チオシアン酸塩は金属腐食性があり、処理機器の
使用部材を腐食し易いこと、（２）チオシアン酸塩含有
液は、廃水規制上シアン含有液とみなされ、廃液時に規
制を受けること、（３）チオシアン酸塩は潮解性がある
ため、処理剤製造時の取扱いに注意が必要で、管理が難
しいこと、（４）インキ受容性の特性に添加量依存性が
大きく、処理液の管理に注意を要すること、などの問題
がある。
オシアン酸塩を用いることによって、インキ受容性が高
い銀画像を生成することができ、かつコスト的にも有利
なものとすることができるが、このようなものでは、
（１）チオシアン酸塩は金属腐食性があり、処理機器の
使用部材を腐食し易いこと、（２）チオシアン酸塩含有
液は、廃水規制上シアン含有液とみなされ、廃液時に規
制を受けること、（３）チオシアン酸塩は潮解性がある
ため、処理剤製造時の取扱いに注意が必要で、管理が難
しいこと、（４）インキ受容性の特性に添加量依存性が
大きく、処理液の管理に注意を要すること、などの問題
がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の目的
は、インキ受容性が高く、地汚れがなく、飛躍的に耐刷
力が改善された平版印刷版の製版方法を提供することに
ある。
は、インキ受容性が高く、地汚れがなく、飛躍的に耐刷
力が改善された平版印刷版の製版方法を提供することに
ある。
【０００８】また、本発明の第二の目的は、上記目的に
加え、処理機器等の腐食や廃液処理上の問題がなく、さ
らに取扱いや管理の上でも好ましい拡散転写処理液を提
供することにある。
加え、処理機器等の腐食や廃液処理上の問題がなく、さ
らに取扱いや管理の上でも好ましい拡散転写処理液を提
供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（４）の本発明により達成される。
（１）〜（４）の本発明により達成される。
【００１０】（１）拡散転写処理液を用い、支持体上に
少なくともハロゲン化銀乳剤層および物理現像核層を有
する感光材料を、銀錯塩拡散転写法により平版印刷版と
する製版方法において、前記処理液が、メソイオン化合
物を少なくとも１種含有することを特徴とする平版印刷
版の製版方法。
少なくともハロゲン化銀乳剤層および物理現像核層を有
する感光材料を、銀錯塩拡散転写法により平版印刷版と
する製版方法において、前記処理液が、メソイオン化合
物を少なくとも１種含有することを特徴とする平版印刷
版の製版方法。
【００１１】（２）前記メソイオン化合物が下記化３で
表される化合物である上記（１）に記載の平版印刷版の
製版方法。
表される化合物である上記（１）に記載の平版印刷版の
製版方法。
【００１２】
【化３】
【００１３】［化３において、Ｚは炭素原子、窒素原
子、酸素原子、硫黄原子、またはセレン原子により構成
される５もしくは６員環を表し、Ｘ- は−０- 、−Ｓ
- 、または−Ｎ- Ｒ（ここでＲはアルキル基、シクロア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル
基、アリール基またはヘテロ環基を表す）を表す。］
子、酸素原子、硫黄原子、またはセレン原子により構成
される５もしくは６員環を表し、Ｘ- は−０- 、−Ｓ
- 、または−Ｎ- Ｒ（ここでＲはアルキル基、シクロア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル
基、アリール基またはヘテロ環基を表す）を表す。］
【００１４】（３）上記化３で表される化合物が下記化
４で表される化合物である上記（２）に記載の平版印刷
版の製版方法。
４で表される化合物である上記（２）に記載の平版印刷
版の製版方法。
【００１５】
【化４】
【００１６】［化４において、Ｒ1 およびＲ2 は、それ
ぞれ、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、
アルキニル基、アラルキル基、アリール基またはヘテロ
環基を表す。但し、Ｒ2 は水素原子であってもよい。Ｙ
は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ3）−（ここでＲ3はアルキ
ル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基ま
たはスルファモイルアミノ基を表す）。Ｒ1 とＲ2、Ｒ2
とＲ3 はそれぞれ互いに結合して環を形成してもよ
い。］
ぞれ、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、
アルキニル基、アラルキル基、アリール基またはヘテロ
環基を表す。但し、Ｒ2 は水素原子であってもよい。Ｙ
は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ3）−（ここでＲ3はアルキ
ル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基ま
たはスルファモイルアミノ基を表す）。Ｒ1 とＲ2、Ｒ2
とＲ3 はそれぞれ互いに結合して環を形成してもよ
い。］
【００１７】（４）上記（１）ないし（３）のいずれか
に記載の平版印刷版の製版方法に用いる拡散転写処理
液。
に記載の平版印刷版の製版方法に用いる拡散転写処理
液。
【００１８】
【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。本発明に用いる感光材料は、支持体上に少
なくともハロゲン化銀乳剤層および物理現像核層を有す
るものであり、銀錯塩拡散転写法により銀画像を得る。
に説明する。本発明に用いる感光材料は、支持体上に少
なくともハロゲン化銀乳剤層および物理現像核層を有す
るものであり、銀錯塩拡散転写法により銀画像を得る。
【００１９】そして、この銀錯塩拡散転写法の現像処理
に用いる本発明の拡散転写処理液には、メソイオン化合
物が含有される。
に用いる本発明の拡散転写処理液には、メソイオン化合
物が含有される。
【００２０】このメソイオン化合物は、ハロゲン化銀錯
化剤として上記処理液中に含有されるものであり、露光
により潜像が形成されていない乳剤層中のハロゲン化銀
を溶解する作用を有する。この溶解は可溶性の銀錯塩の
形成により起こるものであり、銀錯塩は同時に表面層で
ある物理現像核層に拡散し、物理現像核の上に現像剤の
還元力によって銀画像を形成する。
化剤として上記処理液中に含有されるものであり、露光
により潜像が形成されていない乳剤層中のハロゲン化銀
を溶解する作用を有する。この溶解は可溶性の銀錯塩の
形成により起こるものであり、銀錯塩は同時に表面層で
ある物理現像核層に拡散し、物理現像核の上に現像剤の
還元力によって銀画像を形成する。
【００２１】上記のように、本発明ではハロゲン化銀錯
化剤としてメソイオン化合物を用いているので、転写銀
粒子の生成条件が好適となり、インキ受容性が高く、か
つ耐刷力に優れた銀画像が得られる。
化剤としてメソイオン化合物を用いているので、転写銀
粒子の生成条件が好適となり、インキ受容性が高く、か
つ耐刷力に優れた銀画像が得られる。
【００２２】従来、ハロゲン化銀錯化剤としては、チオ
シアン酸塩の使用が好ましいとされていたが、特に、こ
のものでは、チオシアン酸塩の金属腐食性や廃液規制の
対象となること、潮解性等のため液調製時の取扱いが煩
雑であること、また液管理が困難であることなどの問題
があった。しかし、メソイオン化合物では、このような
問題は生じることがない。
シアン酸塩の使用が好ましいとされていたが、特に、こ
のものでは、チオシアン酸塩の金属腐食性や廃液規制の
対象となること、潮解性等のため液調製時の取扱いが煩
雑であること、また液管理が困難であることなどの問題
があった。しかし、メソイオン化合物では、このような
問題は生じることがない。
【００２３】本発明で用いるメソイオン化合物としては
化３で表される化合物が好ましい。
化３で表される化合物が好ましい。
【００２４】化３において、Ｚは炭素原子、窒素原子、
酸素原子、硫黄原子、またはセレン原子により構成され
る５もしくは６員環を表し、Ｘ- は−０- 、−Ｓ- 、ま
たは−Ｎ- Ｒ（ここでＲはアルキル基、シクロアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリ
ール基またはヘテロ環基を表す）を表す。
酸素原子、硫黄原子、またはセレン原子により構成され
る５もしくは６員環を表し、Ｘ- は−０- 、−Ｓ- 、ま
たは−Ｎ- Ｒ（ここでＲはアルキル基、シクロアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリ
ール基またはヘテロ環基を表す）を表す。
【００２５】次に化３で表される化合物について詳細に
説明する。
説明する。
【００２６】化３中、Ｚで表される環としては、５員の
複素環が好ましく、このようなものとしてはイミダゾリ
ウム類、ピラゾリウム類、オキサゾリウム類、チアゾリ
ウム類、トリアゾリウム類、テトラゾリウム類、チアジ
アゾリウム類、オキサジアゾリウム類、チアトリアゾリ
ウム類、オキサトリアゾリウム類などが挙げられる。
複素環が好ましく、このようなものとしてはイミダゾリ
ウム類、ピラゾリウム類、オキサゾリウム類、チアゾリ
ウム類、トリアゾリウム類、テトラゾリウム類、チアジ
アゾリウム類、オキサジアゾリウム類、チアトリアゾリ
ウム類、オキサトリアゾリウム類などが挙げられる。
【００２７】Ｒは置換もしくは無置換の炭素数１〜１２
のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソプロピル基、ｎ−オクチル
基、カルボキシエチル基、エトキシカルボニルメチル
基、ジメチルアミノエチル基、等）、置換もしくは無置
換の炭素数３〜１２のシクロアルキル基（例えばシクロ
ヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、等）、置換
もしくは無置換の炭素数２〜１２のアルケニル基（例え
ばプロペニル基、等）、置換もしくは無置換の炭素数２
〜１２のアルキニル基（例えばプロパルギル基、１−メ
チルプロパルギル基、等）、置換もしくは無置換の炭素
数７〜１２のアラルキル基（例えばベンジル基、４−メ
トキシベンジル基、等）、置換もしくは無置換の炭素数
６〜１２のアリール基（例えばフェニル基、３−メトキ
シフェニル基、等）、置換もしくは無置換の炭素数１〜
１２のヘテロ環基（例えばピリジル基、イミダゾリル
基、モルホリノ基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、
チエニル基、等）を表す。
のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソプロピル基、ｎ−オクチル
基、カルボキシエチル基、エトキシカルボニルメチル
基、ジメチルアミノエチル基、等）、置換もしくは無置
換の炭素数３〜１２のシクロアルキル基（例えばシクロ
ヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、等）、置換
もしくは無置換の炭素数２〜１２のアルケニル基（例え
ばプロペニル基、等）、置換もしくは無置換の炭素数２
〜１２のアルキニル基（例えばプロパルギル基、１−メ
チルプロパルギル基、等）、置換もしくは無置換の炭素
数７〜１２のアラルキル基（例えばベンジル基、４−メ
トキシベンジル基、等）、置換もしくは無置換の炭素数
６〜１２のアリール基（例えばフェニル基、３−メトキ
シフェニル基、等）、置換もしくは無置換の炭素数１〜
１２のヘテロ環基（例えばピリジル基、イミダゾリル
基、モルホリノ基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、
チエニル基、等）を表す。
【００２８】また、Ｚで表される複素環はニトロ基、ハ
ロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子等）、メルカプ
ト基、シアノ基、それぞれ置換もしくは無置換の炭素数
１〜１２のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、メトキシエチル基、メチルチオエチル基、ジ
メチルアミノエチル基、トリメチルアンモニオエチル
基、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボ
キシプロピル基、スルホエチル基、スルホメチル基、ホ
スホノメチル基、ホスホノエチル基、等）、炭素数６〜
１２のアリール基（例えばフェニル基、４−スルホフェ
ニル基、等）、炭素数２〜１２のアルケニル基（例えば
アリル基、等）、炭素数３〜１２のシクロアルキル基
（例えばシクロヘキシル基、等）、炭素数２〜１２のア
ルキニル基（例えばプロパルギル基、等）、炭素数７〜
１２のアラルキル基（例えばベンジル基、４−メチルベ
ンジル基、等）、炭素数１〜１２のアルコキシ基（例え
ばメトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基、
等）、炭素数６〜１２のアリールオキシ基（例えばフェ
ノキシ基、等）、炭素数１〜１２のアルキルチオ基（例
えばメチルチオ基、エチルチオ基、等）、炭素数６〜１
２のアリールチオ基（例えばフェニルチオ基、等）、炭
素数１〜１２のスルホニル基（例えばメタンスルホニル
基、ｐ−トルエンスルホニル基、等）、炭素数１〜１２
のカルバモイル基（例えば無置換カルバモイル基、メチ
ルカルバモイル基、等）、炭素数１〜１２のチオカルバ
モイル基（例えばジメチルチオカルバモイル基、等）、
炭素数０〜１２のスルファモイル基（例えば無置換スル
ファモイル基、メチルスルファモイル基、フェニルスル
ファモイル基、等）、炭素数１〜１２のカルボンアミド
基（例えばアセトアミド基、ベンズアミド基、メトキシ
プロピオンアミド基、等）、炭素数０〜１２のスルホン
アミド基（例えばメタンスルホンアミド基、ベンゼンス
ルホンアミド基、等）、炭素数１〜１２のアシルオキシ
基（例えばアセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、
等）、炭素数１〜１２のスルホニルオキシ基（例えばメ
タンスルホニルオキシ基、等）、炭素数１〜１２のウレ
イド基（例えば無置換ウレイド基、メチルウレイド基、
エチルウレイド基、メトキシエチルウレイド基、等）、
炭素数１〜１２のチオウレイド基（例えば無置換チオウ
レイド基、メチルチオウレイド基、メトキシエチルチオ
ウレイド基、等）、炭素数０〜１２のスルファモイルア
ミノ基（例えば無置換スルファモイルアミノ基、ジメチ
ルスルファモイルアミノ基、等）、炭素数１〜１２のア
シル基（例えばアセチル基、４−メトキシベンゾイル
基、等）、炭素数１〜１２のチオアシル基（例えばチオ
アセチル基、等）、炭素数１〜１２のヘテロ環基（例え
ば１−モルホリノ基、１−ピペリジノ基、２−ピリジル
基、４−ピリジル基、２−チエニル基、１−ピラゾリル
基、１−イミダゾリル基、２−テトラヒドロフリル基、
テトラヒドロチエニル基、等）、炭素数２〜１２のオキ
シカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、フェノ
キシカルボニル基、メトキシエトキシカルボニル基、
等）、炭素数２〜１２のオキシカルボニルアミノ基（例
えばメトキシカルボニルアミノ基、等）、炭素数０〜１
２のアミノ基（例えば無置換アミノ基、ジメチルアミノ
基、等）、カルボン酸またはその塩、スルホン酸または
その塩、ヒドロキシル基などで置換されていてもよい。
ロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子等）、メルカプ
ト基、シアノ基、それぞれ置換もしくは無置換の炭素数
１〜１２のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、メトキシエチル基、メチルチオエチル基、ジ
メチルアミノエチル基、トリメチルアンモニオエチル
基、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボ
キシプロピル基、スルホエチル基、スルホメチル基、ホ
スホノメチル基、ホスホノエチル基、等）、炭素数６〜
１２のアリール基（例えばフェニル基、４−スルホフェ
ニル基、等）、炭素数２〜１２のアルケニル基（例えば
アリル基、等）、炭素数３〜１２のシクロアルキル基
（例えばシクロヘキシル基、等）、炭素数２〜１２のア
ルキニル基（例えばプロパルギル基、等）、炭素数７〜
１２のアラルキル基（例えばベンジル基、４−メチルベ
ンジル基、等）、炭素数１〜１２のアルコキシ基（例え
ばメトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基、
等）、炭素数６〜１２のアリールオキシ基（例えばフェ
ノキシ基、等）、炭素数１〜１２のアルキルチオ基（例
えばメチルチオ基、エチルチオ基、等）、炭素数６〜１
２のアリールチオ基（例えばフェニルチオ基、等）、炭
素数１〜１２のスルホニル基（例えばメタンスルホニル
基、ｐ−トルエンスルホニル基、等）、炭素数１〜１２
のカルバモイル基（例えば無置換カルバモイル基、メチ
ルカルバモイル基、等）、炭素数１〜１２のチオカルバ
モイル基（例えばジメチルチオカルバモイル基、等）、
炭素数０〜１２のスルファモイル基（例えば無置換スル
ファモイル基、メチルスルファモイル基、フェニルスル
ファモイル基、等）、炭素数１〜１２のカルボンアミド
基（例えばアセトアミド基、ベンズアミド基、メトキシ
プロピオンアミド基、等）、炭素数０〜１２のスルホン
アミド基（例えばメタンスルホンアミド基、ベンゼンス
ルホンアミド基、等）、炭素数１〜１２のアシルオキシ
基（例えばアセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、
等）、炭素数１〜１２のスルホニルオキシ基（例えばメ
タンスルホニルオキシ基、等）、炭素数１〜１２のウレ
イド基（例えば無置換ウレイド基、メチルウレイド基、
エチルウレイド基、メトキシエチルウレイド基、等）、
炭素数１〜１２のチオウレイド基（例えば無置換チオウ
レイド基、メチルチオウレイド基、メトキシエチルチオ
ウレイド基、等）、炭素数０〜１２のスルファモイルア
ミノ基（例えば無置換スルファモイルアミノ基、ジメチ
ルスルファモイルアミノ基、等）、炭素数１〜１２のア
シル基（例えばアセチル基、４−メトキシベンゾイル
基、等）、炭素数１〜１２のチオアシル基（例えばチオ
アセチル基、等）、炭素数１〜１２のヘテロ環基（例え
ば１−モルホリノ基、１−ピペリジノ基、２−ピリジル
基、４−ピリジル基、２−チエニル基、１−ピラゾリル
基、１−イミダゾリル基、２−テトラヒドロフリル基、
テトラヒドロチエニル基、等）、炭素数２〜１２のオキ
シカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、フェノ
キシカルボニル基、メトキシエトキシカルボニル基、
等）、炭素数２〜１２のオキシカルボニルアミノ基（例
えばメトキシカルボニルアミノ基、等）、炭素数０〜１
２のアミノ基（例えば無置換アミノ基、ジメチルアミノ
基、等）、カルボン酸またはその塩、スルホン酸または
その塩、ヒドロキシル基などで置換されていてもよい。
【００２９】さらに、化３で表される化合物は、塩（例
えば酢酸塩、硝酸塩、サリチル酸塩、塩酸塩、ヨウ素酸
塩、臭素酸塩等）を形成してもよい。
えば酢酸塩、硝酸塩、サリチル酸塩、塩酸塩、ヨウ素酸
塩、臭素酸塩等）を形成してもよい。
【００３０】化３中、好ましくはＸ- は−Ｓ- を表す。
【００３１】本発明においては、化３で表される化合物
のなかでも、さらに化４で表される化合物であることが
好ましい。
のなかでも、さらに化４で表される化合物であることが
好ましい。
【００３２】化４において、Ｒ1 およびＲ2 は、それぞ
れ、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アラルキル基、アリール基またはヘテロ環
基を表す。但し、Ｒ2 は水素原子であってもよい。Ｙは
−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ3）−（ここでＲ3 はアルキ
ル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基ま
たはスルファモイルアミノ基を表す）。Ｒ1 とＲ2、Ｒ2
とＲ3 はそれぞれ互いに結合して環を形成してもよ
い。
れ、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アラルキル基、アリール基またはヘテロ環
基を表す。但し、Ｒ2 は水素原子であってもよい。Ｙは
−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ3）−（ここでＲ3 はアルキ
ル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基ま
たはスルファモイルアミノ基を表す）。Ｒ1 とＲ2、Ｒ2
とＲ3 はそれぞれ互いに結合して環を形成してもよ
い。
【００３３】化４で表される化合物について詳細に説明
する。
する。
【００３４】化４中、Ｒ1 、Ｒ2 は、置換もしくは無置
換の炭素数１〜１２のアルキル基（例えばメチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、ｔ−ブチル基、メトキシエチ
ル基、メチルチオエチル基、ジメチルアミノエチル基、
モルホリノエチル基、ジメチルアミノエチルチオエチル
基、ジエチルアミノエチル基、アミノエチル基、メチル
チオメチル基、トリメチルアンモニオエチル基、カルボ
キシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピ
ル基、スルホエチル基、スルホメチル基、ホスホノメチ
ル基、ホスホノエチル基、等）、置換もしくは無置換の
炭素数３〜１２のシクロアルキル基（例えば、シクロヘ
キシル基、シクロペンチル基、２−メチルシクロヘキシ
ル基、等）、置換もしくは無置換の炭素数２〜１２のア
ルケニル基（例えばアリル基、２−メチルアリル基、
等）、置換もしくは無置換の炭素数２〜１２のアルキニ
ル基（例えばプロパルギル基、等）、置換もしくは無置
換の炭素数７〜１２のアラルキル基（例えばベンジル
基、フェネチル基、４−メトキシベンジル基、等）、炭
素数６〜１２のアリール基（例えばフェニル基、ナフチ
ル基、４−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル
基、４−カルボキシフェニル基、４−スルホフェニル
基、等）または置換もしくは無置換の炭素数１〜１２の
ヘテロ環基（例えば２−ピリジル基、３−ピリジル基、
４−ピリジル基、２−チエニル基、１−ピラゾリル基、
１−イミダゾリル基、２−テトラヒドロフリル基、
等）、を表す。但し、Ｒ2 は水素原子であってもよい。
換の炭素数１〜１２のアルキル基（例えばメチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、ｔ−ブチル基、メトキシエチ
ル基、メチルチオエチル基、ジメチルアミノエチル基、
モルホリノエチル基、ジメチルアミノエチルチオエチル
基、ジエチルアミノエチル基、アミノエチル基、メチル
チオメチル基、トリメチルアンモニオエチル基、カルボ
キシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピ
ル基、スルホエチル基、スルホメチル基、ホスホノメチ
ル基、ホスホノエチル基、等）、置換もしくは無置換の
炭素数３〜１２のシクロアルキル基（例えば、シクロヘ
キシル基、シクロペンチル基、２−メチルシクロヘキシ
ル基、等）、置換もしくは無置換の炭素数２〜１２のア
ルケニル基（例えばアリル基、２−メチルアリル基、
等）、置換もしくは無置換の炭素数２〜１２のアルキニ
ル基（例えばプロパルギル基、等）、置換もしくは無置
換の炭素数７〜１２のアラルキル基（例えばベンジル
基、フェネチル基、４−メトキシベンジル基、等）、炭
素数６〜１２のアリール基（例えばフェニル基、ナフチ
ル基、４−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル
基、４−カルボキシフェニル基、４−スルホフェニル
基、等）または置換もしくは無置換の炭素数１〜１２の
ヘテロ環基（例えば２−ピリジル基、３−ピリジル基、
４−ピリジル基、２−チエニル基、１−ピラゾリル基、
１−イミダゾリル基、２−テトラヒドロフリル基、
等）、を表す。但し、Ｒ2 は水素原子であってもよい。
【００３５】Ｒ3 は、置換もしくは無置換の炭素数１〜
１２のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、ｔ−ブチル基、メトキシエチル基、メチルチ
オエチル基、ジメチルアミノエチル基、モルホリノエチ
ル基、ジメチルアミノエチルチオエチル基、ジエチルア
ミノエチル基、アミノエチル基、メチルチオメチル基、
トリメチルアンモニオエチル基、カルボキシメチル基、
カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基、スルホエ
チル基、スルホメチル基、ホスホノメチル基、ホスホノ
エチル基、等）、置換もしくは無置換の炭素数３〜１２
のシクロアルキル基（例えば、シクロヘキシル基、シク
ロペンチル基、２−メチルシクロヘキシル基、等）、置
換もしくは無置換の炭素数２〜１２のアルケニル基（例
えばアリル基、２−メチルアリル基、等）、置換もしく
は無置換の炭素数２〜１２のアルキニル基（例えばプロ
パルギル基、等）、置換もしくは無置換の炭素数７〜１
２のアラルキル基（例えばベンジル基、フェネチル基、
４−メトキシベンジル基、等）、炭素数６〜１２のアリ
ール基（例えばフェニル基、ナフチル基、４−メチルフ
ェニル基、４−メトキシフェニル基、４−カルボキシフ
ェニル基、４−スルホフェニル基、等）または置換もし
くは無置換の炭素数１〜１２のヘテロ環基（例えば２−
ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−チ
エニル基、１−ピラゾリル基、１−イミダゾリル基、２
−テトラヒドロフリル基、等）、置換もしくは無置換の
炭素数０〜１２のアミノ基（例えば無置換アミノ基、ジ
メチルアミノ基、メチルアミノ基、等）、炭素数１〜１
２のアシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、ベンゾ
イルアミノ基、メトキシプロピオニルアミノ基、等）、
炭素数１〜１２のスルホンアミド基（例えばメタンスル
ホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、４−トルエ
ンスルホンアミド基、等）、炭素数１〜１２のウレイド
基（例えば無置換ウレイド基、３−メチルウレイド基、
等）、炭素数０〜１２のスルファモイルアミノ基（例え
ば無置換スルファモイルアミノ基、３−メチルスルファ
モイルアミノ基、等）であってもよい。
１２のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、ｔ−ブチル基、メトキシエチル基、メチルチ
オエチル基、ジメチルアミノエチル基、モルホリノエチ
ル基、ジメチルアミノエチルチオエチル基、ジエチルア
ミノエチル基、アミノエチル基、メチルチオメチル基、
トリメチルアンモニオエチル基、カルボキシメチル基、
カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基、スルホエ
チル基、スルホメチル基、ホスホノメチル基、ホスホノ
エチル基、等）、置換もしくは無置換の炭素数３〜１２
のシクロアルキル基（例えば、シクロヘキシル基、シク
ロペンチル基、２−メチルシクロヘキシル基、等）、置
換もしくは無置換の炭素数２〜１２のアルケニル基（例
えばアリル基、２−メチルアリル基、等）、置換もしく
は無置換の炭素数２〜１２のアルキニル基（例えばプロ
パルギル基、等）、置換もしくは無置換の炭素数７〜１
２のアラルキル基（例えばベンジル基、フェネチル基、
４−メトキシベンジル基、等）、炭素数６〜１２のアリ
ール基（例えばフェニル基、ナフチル基、４−メチルフ
ェニル基、４−メトキシフェニル基、４−カルボキシフ
ェニル基、４−スルホフェニル基、等）または置換もし
くは無置換の炭素数１〜１２のヘテロ環基（例えば２−
ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−チ
エニル基、１−ピラゾリル基、１−イミダゾリル基、２
−テトラヒドロフリル基、等）、置換もしくは無置換の
炭素数０〜１２のアミノ基（例えば無置換アミノ基、ジ
メチルアミノ基、メチルアミノ基、等）、炭素数１〜１
２のアシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、ベンゾ
イルアミノ基、メトキシプロピオニルアミノ基、等）、
炭素数１〜１２のスルホンアミド基（例えばメタンスル
ホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、４−トルエ
ンスルホンアミド基、等）、炭素数１〜１２のウレイド
基（例えば無置換ウレイド基、３−メチルウレイド基、
等）、炭素数０〜１２のスルファモイルアミノ基（例え
ば無置換スルファモイルアミノ基、３−メチルスルファ
モイルアミノ基、等）であってもよい。
【００３６】化４中、好ましくはＹは−Ｎ（Ｒ3 ）−を
表し、Ｒ1 、Ｒ3 は置換もしくは無置換の炭素数１〜６
のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数２〜６のア
ルケニル基、置換もしくは無置換の炭素数２〜６のアル
キニル基、または置換もしくは無置換の炭素数１〜８の
ヘテロ環基を表す。Ｒ2 は水素原子、置換もしくは無置
換の炭素数１〜６のアルキル基、置換もしくは無置換の
炭素数２〜６のアルケニル基、置換もしくは無置換の炭
素数２〜６のアルキニル基、または置換もしくは無置換
の炭素数１〜８のヘテロ環基が好ましい。
表し、Ｒ1 、Ｒ3 は置換もしくは無置換の炭素数１〜６
のアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数２〜６のア
ルケニル基、置換もしくは無置換の炭素数２〜６のアル
キニル基、または置換もしくは無置換の炭素数１〜８の
ヘテロ環基を表す。Ｒ2 は水素原子、置換もしくは無置
換の炭素数１〜６のアルキル基、置換もしくは無置換の
炭素数２〜６のアルケニル基、置換もしくは無置換の炭
素数２〜６のアルキニル基、または置換もしくは無置換
の炭素数１〜８のヘテロ環基が好ましい。
【００３７】本発明の化合物の具体例を化５および化６
に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００３８】
【化５】
【００３９】
【化６】
【００４０】本発明におけるメソイオン化合物は前記処
理液中に１×１０-5モル/l〜１０モル/l、特に好ましく
は１×１０-3モル/l〜３モル/lの範囲で添加される。ま
た、１種のみを用いても、２種以上を併用してもよく、
併用するときは合計量で上記範囲の量とすればよい。
理液中に１×１０-5モル/l〜１０モル/l、特に好ましく
は１×１０-3モル/l〜３モル/lの範囲で添加される。ま
た、１種のみを用いても、２種以上を併用してもよく、
併用するときは合計量で上記範囲の量とすればよい。
【００４１】本発明においては、メソイオン化合物に加
えて、本発明の効果を奏する範囲内で、他のハロゲン化
銀錯化剤と併用してもよい。
えて、本発明の効果を奏する範囲内で、他のハロゲン化
銀錯化剤と併用してもよい。
【００４２】このような他のハロゲン化銀錯化剤として
は、例えば、チオ硫酸ナトリウム等のチオ硫酸塩；チオ
シアン酸カリウム等のチオシアン酸塩；米国特許第３１
６９９９２号に記載のアミンチオサルフェート；米国特
許第２８５７２７６号に記載の環状イミド化合物；特公
昭６１−４０９９号記載の２−メルカプト安息香酸類；
特公昭６１−４１００号記載のチオサルチル酸、５〜６
員環の環状イミド化合物等がある。
は、例えば、チオ硫酸ナトリウム等のチオ硫酸塩；チオ
シアン酸カリウム等のチオシアン酸塩；米国特許第３１
６９９９２号に記載のアミンチオサルフェート；米国特
許第２８５７２７６号に記載の環状イミド化合物；特公
昭６１−４０９９号記載の２−メルカプト安息香酸類；
特公昭６１−４１００号記載のチオサルチル酸、５〜６
員環の環状イミド化合物等がある。
【００４３】本発明の拡散転写処理液はアルカリ処理液
であり、アルカリ処理液は、アルカリ緩衝剤および亜硫
酸塩から基本的になる組成物にメソイオン化合物を添加
することにより作られる。本発明の実施に用いられる現
像剤は上記アルカリ処理液中に含まれても、印刷材料中
に含まれてもよい。アルカリ処理液は通常、pH１０以上
で使用可能であり、特にpH１２以上が望ましい。
であり、アルカリ処理液は、アルカリ緩衝剤および亜硫
酸塩から基本的になる組成物にメソイオン化合物を添加
することにより作られる。本発明の実施に用いられる現
像剤は上記アルカリ処理液中に含まれても、印刷材料中
に含まれてもよい。アルカリ処理液は通常、pH１０以上
で使用可能であり、特にpH１２以上が望ましい。
【００４４】用いる現像剤としては、例えばハイドロキ
ノン、１−フェニル−３−ピラゾリドン、Ｎ−メチル−
ｐ−アミノフェノール等がある。
ノン、１−フェニル−３−ピラゾリドン、Ｎ−メチル−
ｐ−アミノフェノール等がある。
【００４５】また、アルカリ処理液は、上記のほか、ア
ルカリ緩衝剤、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、第三燐酸ナトリウム、炭酸ナトリウム等；亜硫酸
塩、例えば、亜硫酸ナトリウム等；さらに必要により、
例えば濃稠剤、例えばヒドロキシエチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロース等；カブリ防止剤、例えば臭
化カリウム、１−フェニル−５−メルカプトテトラゾー
ル等；形成した金属銀をインキ親和性にする長鎖アルキ
ル置換メルカプトトリアゾールやメルカプトオキサゾー
ル等を含むことができる。
ルカリ緩衝剤、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、第三燐酸ナトリウム、炭酸ナトリウム等；亜硫酸
塩、例えば、亜硫酸ナトリウム等；さらに必要により、
例えば濃稠剤、例えばヒドロキシエチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロース等；カブリ防止剤、例えば臭
化カリウム、１−フェニル−５−メルカプトテトラゾー
ル等；形成した金属銀をインキ親和性にする長鎖アルキ
ル置換メルカプトトリアゾールやメルカプトオキサゾー
ル等を含むことができる。
【００４６】本発明において平版印刷版とされる感光材
料のハロゲン化銀乳剤には塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、
塩ヨウ化塩、塩臭ヨウ化銀等が使用でき、好ましくは塩
化銀が５０モル％以上のハロゲン化銀である。これらの
ハロゲン化銀乳剤は分光増感剤、ゼラチン硬化剤、塗布
助剤、カブリ防止剤、可塑剤、現像剤などの常用の乳剤
添加剤を含むことができる。
料のハロゲン化銀乳剤には塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、
塩ヨウ化塩、塩臭ヨウ化銀等が使用でき、好ましくは塩
化銀が５０モル％以上のハロゲン化銀である。これらの
ハロゲン化銀乳剤は分光増感剤、ゼラチン硬化剤、塗布
助剤、カブリ防止剤、可塑剤、現像剤などの常用の乳剤
添加剤を含むことができる。
【００４７】ハロゲン化銀乳剤の結合剤は、一般にこの
目的に使用される天然および／または合成結合剤、例え
ばゼラチン、コロイド状アルブミン、セルロース誘導体
等が使用できる。
目的に使用される天然および／または合成結合剤、例え
ばゼラチン、コロイド状アルブミン、セルロース誘導体
等が使用できる。
【００４８】ハロゲン化銀乳剤層の下側（支持体側）に
は接着改良用下引層および／またはハレーション防止等
の目的で下塗層を設けることもでき、この層には現像剤
を含むこともできる。
は接着改良用下引層および／またはハレーション防止等
の目的で下塗層を設けることもでき、この層には現像剤
を含むこともできる。
【００４９】ハロゲン化銀乳剤を塗布する支持体は、
紙、各種のフィルム、プラスチックス、樹脂様物質を塗
布した紙、金属等が使用できる。
紙、各種のフィルム、プラスチックス、樹脂様物質を塗
布した紙、金属等が使用できる。
【００５０】物理現像核層に使用される物理現像核は、
この種の薬品の例は周知であって、アンチモン、ビスマ
ス、カドミウム、コバルト、パラジウム、ニッケル、
銀、鉛、亜鉛などの金属およびその硫化物が使用でき
る。この物理現像核層にも現像剤を含むことができる
し、親水性バインダーを含んでもよい。
この種の薬品の例は周知であって、アンチモン、ビスマ
ス、カドミウム、コバルト、パラジウム、ニッケル、
銀、鉛、亜鉛などの金属およびその硫化物が使用でき
る。この物理現像核層にも現像剤を含むことができる
し、親水性バインダーを含んでもよい。
【００５１】本発明の拡散転写処理液を用い、平版印刷
版とするには、上記感光材料を画像露光したのち、拡散
転写処理液により現像処理し、その後、中和液で処理す
ることによる。
版とするには、上記感光材料を画像露光したのち、拡散
転写処理液により現像処理し、その後、中和液で処理す
ることによる。
【００５２】現像処理は、２０〜４０℃で５〜６０秒行
なう。また、中和液による処理は２０〜４０℃で５〜６
０秒行なう。
なう。また、中和液による処理は２０〜４０℃で５〜６
０秒行なう。
【００５３】
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。
する。
【００５４】実施例１ １３５g/m2の両面ポリエチレン被覆紙の片面に、平均粒
子サイズが５μm のシリカ粒子を含有するマット化層を
設け、反対側の面をコロナ放電加工後、カーボンブラッ
クを含むハレーション防止層を設け、その上に平均粒子
サイズが５μmのシリカ粒子を含有するオルソ増感され
た高コントラスト塩化銀乳剤を硝酸銀として２０g/m2塗
布した。このハレーション防止層および乳剤層はゼラチ
ン硬化剤としてホルムアルデヒドを含有している。乾燥
後４０℃で３０日間加温した後、この乳剤層の上に、表
１に示すＡ液およびＢ液を用い、下記方法により調製し
た硫化パラジウムゾルを１０g/m2塗布した。
子サイズが５μm のシリカ粒子を含有するマット化層を
設け、反対側の面をコロナ放電加工後、カーボンブラッ
クを含むハレーション防止層を設け、その上に平均粒子
サイズが５μmのシリカ粒子を含有するオルソ増感され
た高コントラスト塩化銀乳剤を硝酸銀として２０g/m2塗
布した。このハレーション防止層および乳剤層はゼラチ
ン硬化剤としてホルムアルデヒドを含有している。乾燥
後４０℃で３０日間加温した後、この乳剤層の上に、表
１に示すＡ液およびＢ液を用い、下記方法により調製し
た硫化パラジウムゾルを１０g/m2塗布した。
【００５５】硫化パラジウムゾルの調製 表１に示すＢ液を攪拌しながら表１に示すＡ液を加えて
混合し、３０分後に１規定水酸化ナトリウムを加えpHを
４に調整して、塗布液とする。
混合し、３０分後に１規定水酸化ナトリウムを加えpHを
４に調整して、塗布液とする。
【００５６】
【表１】
【００５７】このようにして得られた平版印刷版の原版
に像反転機構を有する凸版用カメラで像露光を行ない、
表２に示すアルカリ処理液により３０℃で２０秒間現像
処理を行なった。なお、表２のアルカリ処理液における
ハロゲン化銀錯化剤は後述の表６に示すように用いた。
に像反転機構を有する凸版用カメラで像露光を行ない、
表２に示すアルカリ処理液により３０℃で２０秒間現像
処理を行なった。なお、表２のアルカリ処理液における
ハロゲン化銀錯化剤は後述の表６に示すように用いた。
【００５８】
【表２】
【００５９】現像処理後、表３に示す組成を有する中和
液で２５℃において２０秒間処理し、印刷版とした。
液で２５℃において２０秒間処理し、印刷版とした。
【００６０】
【表３】
【００６１】表６に示すように、ハロゲン化銀錯化剤を
用いて現像処理された印刷物を印刷版１−１〜１−７と
する。
用いて現像処理された印刷物を印刷版１−１〜１−７と
する。
【００６２】以上の操作により作製した印刷版をオフセ
ット印刷機にセットし、表４の組成のエッチ液を版面に
くまなく与え、表５の組成の給湿液を用いて印刷を行な
った。なお、給湿液の使用液は、表５のものを１０倍に
希釈して用いた。
ット印刷機にセットし、表４の組成のエッチ液を版面に
くまなく与え、表５の組成の給湿液を用いて印刷を行な
った。なお、給湿液の使用液は、表５のものを１０倍に
希釈して用いた。
【００６３】
【表４】
【００６４】
【表５】
【００６５】印刷機はエー・ビー・ディック３５０ＣＤ
（Ａ・Ｂ・Ｄｉｃｋ社製オフセット印刷機の商標）を使
用し、インキ受容性および耐刷力を次の方法で評価し
た。
（Ａ・Ｂ・Ｄｉｃｋ社製オフセット印刷機の商標）を使
用し、インキ受容性および耐刷力を次の方法で評価し
た。
【００６６】（１）インキ受容性 インキはエー・ビー・ディックオフセットインキ３−１
０１２を使用し、版面にインキ付きローラーを接触させ
ると同時に紙送りを始め、良好な画像濃度の印刷物が得
られるまでの枚数で評価した。「なし」は全くインキを
受理しなかったことを示す。
０１２を使用し、版面にインキ付きローラーを接触させ
ると同時に紙送りを始め、良好な画像濃度の印刷物が得
られるまでの枚数で評価した。「なし」は全くインキを
受理しなかったことを示す。
【００６７】（２）耐刷力 １０００枚以上の印刷を続け、画像部のインキとびの出
る時の印刷枚数で評価した。
る時の印刷枚数で評価した。
【００６８】得られた結果を表６に示す。
【００６９】
【表６】
【００７０】表６の結果から、化３で表される化合物を
含有する現像液で現像処理した印刷版１−５、１−６、
１−７が比較例に比し、インキ受容性が高く、著しい高
耐刷力を有していることがわかる。また、チオシアン酸
塩にみられる腐食や廃液処理上の問題も生じることがな
い。
含有する現像液で現像処理した印刷版１−５、１−６、
１−７が比較例に比し、インキ受容性が高く、著しい高
耐刷力を有していることがわかる。また、チオシアン酸
塩にみられる腐食や廃液処理上の問題も生じることがな
い。
【００７１】実施例２ １３５g/m2の両面ポリエチレン被覆紙の片面に平均粒子
サイズが５μm のシリカ粒子を含有するマット化層を設
け、反対側の面をコロナ放電加工後、ハイドロキノンを
２g/m2、１−フェニル−３−ピラゾリドンを０．１g/
m2、さらにカーボンブラックを含むハレーション防止層
を設け、その上に実施例１と同様の乳剤に対しパンクロ
増感した乳剤および硫化パラジウムゾル（実施例１）を
塗布し、平版印刷版の原版を作製した。この原版にヘリ
ウム・ネオン・レーザー・イメージセッターで露光を行
ない、表７に示すアルカリ処理液により３０℃で３０秒
間現像処理を行なった。
サイズが５μm のシリカ粒子を含有するマット化層を設
け、反対側の面をコロナ放電加工後、ハイドロキノンを
２g/m2、１−フェニル−３−ピラゾリドンを０．１g/
m2、さらにカーボンブラックを含むハレーション防止層
を設け、その上に実施例１と同様の乳剤に対しパンクロ
増感した乳剤および硫化パラジウムゾル（実施例１）を
塗布し、平版印刷版の原版を作製した。この原版にヘリ
ウム・ネオン・レーザー・イメージセッターで露光を行
ない、表７に示すアルカリ処理液により３０℃で３０秒
間現像処理を行なった。
【００７２】
【表７】
【００７３】なお、表７のアルカリ処理液におけるハロ
ゲン化銀錯化剤は後述の表８に示すように用いた。
ゲン化銀錯化剤は後述の表８に示すように用いた。
【００７４】現像処理後、実施例１と同様の中和液で中
和し印刷版とした。表８に示すように、ハロゲン化銀錯
化剤を用いて現像処理された印刷版を２−１〜２−４と
する。以下実施例１と同様にして印刷を行ない、評価し
た。結果を表８に示す。
和し印刷版とした。表８に示すように、ハロゲン化銀錯
化剤を用いて現像処理された印刷版を２−１〜２−４と
する。以下実施例１と同様にして印刷を行ない、評価し
た。結果を表８に示す。
【００７５】
【表８】
【００７６】表８の結果から、化３で表される化合物を
含有する現像液で現像処理した印刷版２−３、２−４が
比較例に比し、チオシアン酸塩の前述したような欠点が
なく、インキ受容性が高く、著しい高耐刷力を有してい
ることがわかる。
含有する現像液で現像処理した印刷版２−３、２−４が
比較例に比し、チオシアン酸塩の前述したような欠点が
なく、インキ受容性が高く、著しい高耐刷力を有してい
ることがわかる。
【００７７】
【発明の効果】本発明によれば、インキ受容性が高く、
著しく高耐刷力の平版印刷版が得られる。また、処理液
による処理機器の腐食や廃液処理上の問題などもなく、
取扱い性にも優れる。
著しく高耐刷力の平版印刷版が得られる。また、処理液
による処理機器の腐食や廃液処理上の問題などもなく、
取扱い性にも優れる。
Claims (4)
- 【請求項１】 拡散転写処理液を用い、支持体上に少な
くともハロゲン化銀乳剤層および物理現像核層を有する
感光材料を、銀錯塩拡散転写法により平版印刷版とする
製版方法において、 前記処理液が、メソイオン化合物を少なくとも１種含有
することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 【請求項２】 前記メソイオン化合物が下記化１で表さ
れる化合物である請求項１に記載の平版印刷版の製版方
法。 【化１】 ［化１において、Ｚは炭素原子、窒素原子、酸素原子、
硫黄原子、またはセレン原子により構成される５もしく
は６員環を表し、Ｘ- は−０- 、−Ｓ- 、または−Ｎ-
Ｒ（ここでＲはアルキル基、シクロアルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基また
はヘテロ環基を表す）を表す。］ - 【請求項３】 上記化１で表される化合物が下記化２で
表される化合物である請求項２に記載の平版印刷版の製
版方法。 【化２】 ［化２において、Ｒ1 およびＲ2 は、それぞれ、アルキ
ル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アラルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表
す。但し、Ｒ2 は水素原子であってもよい。Ｙは−Ｏ
−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ3）−（ここでＲ3 はアルキル
基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、ア
シルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基またはス
ルファモイルアミノ基を表す）。Ｒ1 とＲ2、Ｒ2 とＲ3
はそれぞれ互いに結合して環を形成してもよい。］ - 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかに記載の平
版印刷版の製版方法に用いる拡散転写処理液。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3282251A JPH0594019A (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | 平版印刷版の製版方法およびこれに用いる拡散転写処理液 |
| EP92116839A EP0535678B1 (en) | 1991-10-02 | 1992-10-01 | Preparation of lithographic printing plate and diffusion transfer processing solution used therefor |
| US07/955,069 US5472822A (en) | 1991-10-02 | 1992-10-01 | Mesolonic compounds in the preparation of lithographic printing plate by diffusion transfer |
| DE69218095T DE69218095T2 (de) | 1991-10-02 | 1992-10-01 | Herstellung lithographischer Flachdruckplatten und Diffusionsübertragungsverarbeitungslösung dafür |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3282251A JPH0594019A (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | 平版印刷版の製版方法およびこれに用いる拡散転写処理液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0594019A true JPH0594019A (ja) | 1993-04-16 |
Family
ID=17650018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3282251A Pending JPH0594019A (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | 平版印刷版の製版方法およびこれに用いる拡散転写処理液 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5472822A (ja) |
| EP (1) | EP0535678B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0594019A (ja) |
| DE (1) | DE69218095T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0683060A (ja) * | 1991-12-19 | 1994-03-25 | Agfa Gevaert Nv | 銀塩拡散転写法による平版印刷版の製造法 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0549830B1 (en) * | 1991-12-19 | 1995-08-09 | Agfa-Gevaert N.V. | Method for making a lithographic printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
| EP0627665B1 (en) * | 1993-06-04 | 2003-01-08 | Agfa-Gevaert | A method for making a lithographic printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
| EP0628878B1 (en) * | 1993-06-09 | 1995-05-24 | Agfa-Gevaert N.V. | Method for obtaining a printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
| EP0628877B1 (en) * | 1993-06-09 | 1995-03-08 | Agfa-Gevaert N.V. | Method for obtaining a printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
| EP0629918B1 (en) * | 1993-06-15 | 1998-04-08 | Agfa-Gevaert N.V. | A method for making a lithographic printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
| US5620829A (en) * | 1993-06-15 | 1997-04-15 | Agfa-Gevaert, N.V. | Method for making a lithographic printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
| EP0644461B1 (en) * | 1993-09-21 | 1997-04-23 | Agfa-Gevaert N.V. | A method for making a lithographic printing plate |
| EP0655652B1 (en) * | 1993-11-29 | 1999-02-17 | Agfa-Gevaert N.V. | A method for lithographic printing using a plate prepared according to the silver salt diffusion transfer process and a dampening solution |
| EP0677790A1 (en) * | 1994-03-25 | 1995-10-18 | Agfa-Gevaert N.V. | A method for making lithographic printing plates according to the silver salt diffusion transfer process |
| DE69422625T2 (de) * | 1994-10-24 | 2000-07-13 | Agfa Gevaert Nv | Verfahren zur Verarbeitung eines photographischen Silberhalogenidmaterials |
| JP3359464B2 (ja) * | 1995-02-07 | 2002-12-24 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀カラー写真感光材料及び画像形成方法 |
| DE69500071T2 (de) * | 1995-03-21 | 1997-05-07 | Agfa Gevaert Nv | Satz zur Herstellung einer Verarbeitungsflüssigkeit zur Verwendung zum Herstellen einer lithographischen Druckplatte nach dem Silbersalz-Diffusionübertragungsverfahren |
| JP3816234B2 (ja) * | 1998-04-01 | 2006-08-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 処理部材およびそれを用いる画像形成方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4047955A (en) * | 1975-04-01 | 1977-09-13 | Polaroid Corporation | (Dialkylamino)alkyloxosulfonium alkanesulfonylmethylide silver halide solvent |
| US4003910A (en) * | 1975-08-18 | 1977-01-18 | Polaroid Corporation | Meso-ionic se- and s-containing tetrazoles |
| JPS55146452A (en) * | 1979-05-02 | 1980-11-14 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Lithographic printing material and processing solution for it |
| US4378424A (en) * | 1980-12-12 | 1983-03-29 | Eastman Kodak Company | Mesoionic 1,2,4-triazolium-3-thiolates as silver halide stabilizers and fixing agents |
| JPS60144737A (ja) * | 1984-01-09 | 1985-07-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラ−拡散転写法用写真感光材料 |
| US5037726A (en) * | 1987-12-08 | 1991-08-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for forming a direct positive image from a material comprising a nucleation accelerator |
| JP2775517B2 (ja) * | 1989-12-04 | 1998-07-16 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 |
| EP0533182B1 (en) * | 1991-09-20 | 1999-11-24 | Eastman Kodak Company | Method using triazolium thiolate baths for silver halide development acceleration |
| US5200294A (en) * | 1991-12-19 | 1993-04-06 | Agfa-Gevaert, N.V. | Method for making a lithographic printing plate according to the silver salt diffusion transfer process |
-
1991
- 1991-10-02 JP JP3282251A patent/JPH0594019A/ja active Pending
-
1992
- 1992-10-01 DE DE69218095T patent/DE69218095T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-10-01 US US07/955,069 patent/US5472822A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-10-01 EP EP92116839A patent/EP0535678B1/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0683060A (ja) * | 1991-12-19 | 1994-03-25 | Agfa Gevaert Nv | 銀塩拡散転写法による平版印刷版の製造法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69218095T2 (de) | 1997-06-19 |
| EP0535678A1 (en) | 1993-04-07 |
| DE69218095D1 (de) | 1997-04-17 |
| US5472822A (en) | 1995-12-05 |
| EP0535678B1 (en) | 1997-03-12 |
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