JPH0587296B2 - - Google Patents
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- JPH0587296B2 JPH0587296B2 JP62331050A JP33105087A JPH0587296B2 JP H0587296 B2 JPH0587296 B2 JP H0587296B2 JP 62331050 A JP62331050 A JP 62331050A JP 33105087 A JP33105087 A JP 33105087A JP H0587296 B2 JPH0587296 B2 JP H0587296B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/122—Incoherent waves
- B01J19/123—Ultraviolet light
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
〔技術分野〕
本発明は、ジクロロジフルオロメタンやトリク
ロロフルオロメタン等のクロロフルオロメタンの
不均化及び分解方法に関するものである。 〔従来技術〕 クロロフルオロメタンは、大気中に放出された
場合の環境影響のためにその使用量及び生産量が
制限されているが、低温用冷媒、ウレタンフオー
ム用発泡剤、エアゾールの噴霧剤として重要であ
り、使用量及び生産量の削減は社会的、経済的活
動に大きな影響を与える。クロロフルオロメタン
の使用量及び生産量の削減の影響をできる限り小
さくし、さらに大気中への放出を防ぐためにはク
ロロフルオロメタンをほかの物質に変換あるいは
分解し除去することなどが必要である。 また、クロロフルオロメタンの不均化反応は、
高次フツ素化クロロフルオロメタンの製造法とし
ても用いられる。 これまでクロロフルオロメタンの不均化反応用
触媒としては、塩化アルミニウム等のフリーデル
クラフト系触媒（特公昭49−164号公報、特開昭
51−16602号各公報参照）、フツ化クロムを主体と
する触媒（特公昭46−34009号公報）、各種担体に
ニツケル塩あるいチタン塩を担持させた触媒（特
願昭51−6630号明細書）などが知られている。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしフリーデルクラフト系触媒は活性に十分
な持続性がない欠点を持ち、他の触媒は比較的高
温を必要とする欠点を持つ。また、これらはいず
れもクロロフルオロメタンの除去用触媒としての
利用は考えられていない。さらに、分解反応が促
進された場合、触媒表面へ炭素質が沈着すること
によつて触媒活性あるい活性持続性が低下する欠
点を持つ。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者は、クロロフルオロメタンの金属酸化
物による不均化及び分解反応について種々研究を
行つたところ、焼成した二酸化チタンによつてク
ロロフルオロメタンが室温付近の低温であつても
速やかに不均化及び分解すること及び400nm以下
の波長成分を含む光の照射によつて不均化及び分
解反応が一層進むことを見いだし、これをクロロ
フルオロメタンの不均化及び分解反応用触媒とし
て使用し得る点に着目して本発明をなすに至つ
た。光照射効果の理由ははつきりとはわからない
が、二酸化チタンが光触媒作用を持つことから、
クロロフルオロメタンが分解される一方、触媒表
面へクロロフルオロメタンの分解により沈着した
炭素質が光照射によつて酸化されて除去され、沈
着した炭素質による触媒活性あるいは活性持続性
の低下を防ぐことができるためと考えられる。 本発明の方法に従えば、トリクロロフルオロメ
タンを気体状で二酸化チタンに接触させることに
より、不均化反応により四塩化炭素、ジクロロジ
フルオロメタンを生成し、トリクロロフルオロメ
タンを直接にあるいは四塩化炭素などを経て二酸
化炭素に分解させることができる。 本発明における二酸化チタンは焼成して用いら
れる。乾燥空気中、100〜500℃の温度範囲好まし
くは200〜400℃で加熱後、100〜500℃の温度範囲
好しくは200〜400℃で真空排気し、その後真空あ
るいは乾燥雰囲気中に保存して用いる。保存には
100℃以上の高温を必要としない。 本発明において使用する二酸化チタンは50nm
以下の細かい粒径のものが望ましい。 〔発明の効果・用途〕 このようにして得られる二酸化チタン触媒は、
室温付近の温度においてもクロロフルオロメタン
の不均化反応または分解反応を速やかに進行さ
せ、反応温度をあげることによつて特にクロロフ
ルオロメタン分解反応の触媒作用が活性化され、
さらに400nm以下の波長成分を持つ光によつてク
ロロフルオロメタンの不均化及び分解反応の触媒
作用が活性化され、また400nm以下の波長成分を
持つ光により触媒活性が比較的長期にわたり保た
れる。 本発明により得られるクロロフルオロメタンの
不均化及び分解反応触媒は、クロロフルオロメタ
ンの除去用触媒として好適である。 次に実施例によつて本発明をさらに詳細に説明
する。 〔実施例〕 実施例 １ 市販の“Titanium Oxide P25”（日本アエロ
ジル株式会社製品）（平均粒径約21nm）0.05ｇを
閉鎖式循環反応装置（内容積0.51）に設置して十
分に真空排気したのち、前処理（乾燥空気雰囲気
下、温度350℃で２時間焼成後、温度350℃で１時
間真空排気し、真空排気しながら室温まで放冷）
を行つた。 このようにして得た触媒0.05ｇにトリクロロフ
ルオロメタン（158ppm，空気希釈）を温度35℃
で反応を行わしめたところ別紙第一表のごとき結
果を得た。反応開始直後より500W超高圧水銀ラ
ンプ（フイルターにより310nm以下の波長の光を
カツト）を用い光照射を行うと反応は一層速やか
に進行した。 実施例 ２ 実施例１と同様にして得た触媒0.05ｇにトリク
ロロフルオロメタン（167ppm，空気希釈）を温
度70℃で実施例１と同様の閉鎖式循環反応装置を
用いて反応を行わしめたところ別紙第２表のごと
き結果を得た。 実施例 ３ 市販の二酸化チタン特級試薬（粒径数百nm〜
数μm）（関東化学社製品）0.5ｇを閉鎖式循環反
応装置（内容積0.51）に設置して十分に真空排気
した後、前処理（乾燥空気雰囲気下、温度350℃
で２時間焼成後、温度350℃で１時間真空排気し、
真空排気しながら室温まで放冷）を行つた。 このようにして得た触媒0.5ｇにトリクロロフ
ルオロメタン（156ppm，空気希釈）を温度35℃
で実施例１及び実施例２と同様の閉鎖式循環反応
装置を用いて反応を行わしめ、反応開始約32時間
後から500W超高圧水銀ランプ（フイルターによ
り、310nm以下の波長の光をカツト）を用い光照
射を行つた。 トリクロロフルオロメタンの不均化及び分解反
応が認められ、さらに光照射による反応の促進効
果が認められた。しかし、この実施例で得た触媒
0.5ｇの活性は、実施例１で得た触媒0.05ｇに比
べてかなり小さく、別紙第３表のごとき結果を得
た。このように、本発明において使用する二酸化
チタンは細かい粒径のものが望ましい。 比較例 １ 実施例１において、触媒として用いる二酸化チ
タンを焼成処理することなくそのまま用いた以外
は同様にして実験を行つた（但し、光照射なし）。
その結果を第４表に示す。
ロロフルオロメタン等のクロロフルオロメタンの
不均化及び分解方法に関するものである。 〔従来技術〕 クロロフルオロメタンは、大気中に放出された
場合の環境影響のためにその使用量及び生産量が
制限されているが、低温用冷媒、ウレタンフオー
ム用発泡剤、エアゾールの噴霧剤として重要であ
り、使用量及び生産量の削減は社会的、経済的活
動に大きな影響を与える。クロロフルオロメタン
の使用量及び生産量の削減の影響をできる限り小
さくし、さらに大気中への放出を防ぐためにはク
ロロフルオロメタンをほかの物質に変換あるいは
分解し除去することなどが必要である。 また、クロロフルオロメタンの不均化反応は、
高次フツ素化クロロフルオロメタンの製造法とし
ても用いられる。 これまでクロロフルオロメタンの不均化反応用
触媒としては、塩化アルミニウム等のフリーデル
クラフト系触媒（特公昭49−164号公報、特開昭
51−16602号各公報参照）、フツ化クロムを主体と
する触媒（特公昭46−34009号公報）、各種担体に
ニツケル塩あるいチタン塩を担持させた触媒（特
願昭51−6630号明細書）などが知られている。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしフリーデルクラフト系触媒は活性に十分
な持続性がない欠点を持ち、他の触媒は比較的高
温を必要とする欠点を持つ。また、これらはいず
れもクロロフルオロメタンの除去用触媒としての
利用は考えられていない。さらに、分解反応が促
進された場合、触媒表面へ炭素質が沈着すること
によつて触媒活性あるい活性持続性が低下する欠
点を持つ。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者は、クロロフルオロメタンの金属酸化
物による不均化及び分解反応について種々研究を
行つたところ、焼成した二酸化チタンによつてク
ロロフルオロメタンが室温付近の低温であつても
速やかに不均化及び分解すること及び400nm以下
の波長成分を含む光の照射によつて不均化及び分
解反応が一層進むことを見いだし、これをクロロ
フルオロメタンの不均化及び分解反応用触媒とし
て使用し得る点に着目して本発明をなすに至つ
た。光照射効果の理由ははつきりとはわからない
が、二酸化チタンが光触媒作用を持つことから、
クロロフルオロメタンが分解される一方、触媒表
面へクロロフルオロメタンの分解により沈着した
炭素質が光照射によつて酸化されて除去され、沈
着した炭素質による触媒活性あるいは活性持続性
の低下を防ぐことができるためと考えられる。 本発明の方法に従えば、トリクロロフルオロメ
タンを気体状で二酸化チタンに接触させることに
より、不均化反応により四塩化炭素、ジクロロジ
フルオロメタンを生成し、トリクロロフルオロメ
タンを直接にあるいは四塩化炭素などを経て二酸
化炭素に分解させることができる。 本発明における二酸化チタンは焼成して用いら
れる。乾燥空気中、100〜500℃の温度範囲好まし
くは200〜400℃で加熱後、100〜500℃の温度範囲
好しくは200〜400℃で真空排気し、その後真空あ
るいは乾燥雰囲気中に保存して用いる。保存には
100℃以上の高温を必要としない。 本発明において使用する二酸化チタンは50nm
以下の細かい粒径のものが望ましい。 〔発明の効果・用途〕 このようにして得られる二酸化チタン触媒は、
室温付近の温度においてもクロロフルオロメタン
の不均化反応または分解反応を速やかに進行さ
せ、反応温度をあげることによつて特にクロロフ
ルオロメタン分解反応の触媒作用が活性化され、
さらに400nm以下の波長成分を持つ光によつてク
ロロフルオロメタンの不均化及び分解反応の触媒
作用が活性化され、また400nm以下の波長成分を
持つ光により触媒活性が比較的長期にわたり保た
れる。 本発明により得られるクロロフルオロメタンの
不均化及び分解反応触媒は、クロロフルオロメタ
ンの除去用触媒として好適である。 次に実施例によつて本発明をさらに詳細に説明
する。 〔実施例〕 実施例 １ 市販の“Titanium Oxide P25”（日本アエロ
ジル株式会社製品）（平均粒径約21nm）0.05ｇを
閉鎖式循環反応装置（内容積0.51）に設置して十
分に真空排気したのち、前処理（乾燥空気雰囲気
下、温度350℃で２時間焼成後、温度350℃で１時
間真空排気し、真空排気しながら室温まで放冷）
を行つた。 このようにして得た触媒0.05ｇにトリクロロフ
ルオロメタン（158ppm，空気希釈）を温度35℃
で反応を行わしめたところ別紙第一表のごとき結
果を得た。反応開始直後より500W超高圧水銀ラ
ンプ（フイルターにより310nm以下の波長の光を
カツト）を用い光照射を行うと反応は一層速やか
に進行した。 実施例 ２ 実施例１と同様にして得た触媒0.05ｇにトリク
ロロフルオロメタン（167ppm，空気希釈）を温
度70℃で実施例１と同様の閉鎖式循環反応装置を
用いて反応を行わしめたところ別紙第２表のごと
き結果を得た。 実施例 ３ 市販の二酸化チタン特級試薬（粒径数百nm〜
数μm）（関東化学社製品）0.5ｇを閉鎖式循環反
応装置（内容積0.51）に設置して十分に真空排気
した後、前処理（乾燥空気雰囲気下、温度350℃
で２時間焼成後、温度350℃で１時間真空排気し、
真空排気しながら室温まで放冷）を行つた。 このようにして得た触媒0.5ｇにトリクロロフ
ルオロメタン（156ppm，空気希釈）を温度35℃
で実施例１及び実施例２と同様の閉鎖式循環反応
装置を用いて反応を行わしめ、反応開始約32時間
後から500W超高圧水銀ランプ（フイルターによ
り、310nm以下の波長の光をカツト）を用い光照
射を行つた。 トリクロロフルオロメタンの不均化及び分解反
応が認められ、さらに光照射による反応の促進効
果が認められた。しかし、この実施例で得た触媒
0.5ｇの活性は、実施例１で得た触媒0.05ｇに比
べてかなり小さく、別紙第３表のごとき結果を得
た。このように、本発明において使用する二酸化
チタンは細かい粒径のものが望ましい。 比較例 １ 実施例１において、触媒として用いる二酸化チ
タンを焼成処理することなくそのまま用いた以外
は同様にして実験を行つた（但し、光照射なし）。
その結果を第４表に示す。
【表】
【表】
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 二酸化チタンにクロロフルオロメタンを接触
させてその不均化及び分解反応を行うに当り、該
二酸化チタンとしてあらかじめ焼成処理された二
酸化チタンを用いることを特徴とするクロロフル
オロメタンの不均化及び分解方法。 ２ 二酸化チタンにクロロフルオロメタンを接触
させてその不均化及び分解反応を行うに当り、該
二酸化チタンとしてあらかじめ焼成処理された二
酸化チタンを用いるとともに、該反応を光の照射
下で行うことを特徴とするクロロフルオロメタン
の不均化及び分解方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62331050A JPH0286844A (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | クロロフルオロメタンの不均化及び分解方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62331050A JPH0286844A (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | クロロフルオロメタンの不均化及び分解方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0286844A JPH0286844A (ja) | 1990-03-27 |
| JPH0587296B2 true JPH0587296B2 (ja) | 1993-12-16 |
Family
ID=18239285
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62331050A Granted JPH0286844A (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | クロロフルオロメタンの不均化及び分解方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0286844A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0634953A4 (en) * | 1992-12-11 | 1995-03-15 | Wisconsin Alumni Res Found | DECOMPOSITION OF ORGANIC COMPOUNDS IN THE GAS PHASE. |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01143630A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-06 | Ebara Res Co Ltd | フロンの処理方法 |
-
1987
- 1987-12-25 JP JP62331050A patent/JPH0286844A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01143630A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-06 | Ebara Res Co Ltd | フロンの処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0286844A (ja) | 1990-03-27 |
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