JPH0585733A - ランタンクロマイト薄膜の形成方法 - Google Patents
ランタンクロマイト薄膜の形成方法Info
- Publication number
- JPH0585733A JPH0585733A JP27700491A JP27700491A JPH0585733A JP H0585733 A JPH0585733 A JP H0585733A JP 27700491 A JP27700491 A JP 27700491A JP 27700491 A JP27700491 A JP 27700491A JP H0585733 A JPH0585733 A JP H0585733A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- substrate
- lanthanum
- thin film
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 特殊な基体を要することなく、少ないエネ
ルギーで、緻密で広範囲に均質なランタンクロマイト薄
膜を形成する。 【構成】 硝酸ランタンと硝酸クロムを１：１のモル
比でメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル、エチレングリコール、ジエチレングリコール及びグ
リセリンからなる群より選ばれた１種又は２種以上のア
ルコールに溶解してアルコール溶液を調製し、次いで前
記アルコール溶液に蟻酸、酢酸、プロピオン酸及び酪酸
からなる群より選ばれた１種又は２種以上のカルボン酸
を添加混合してコーティング溶液を調製する。このコ−
ティング溶液を耐熱性のある基体の表面に塗布して塗膜
を形成する。塗膜を形成した基体を乾燥熱処理してラン
タンとクロムの複合酸化物前駆体を生成し、この複合酸
化物前駆体を６００〜１０００℃の温度で焼成してラン
タンクロマイト薄膜を得る。
ルギーで、緻密で広範囲に均質なランタンクロマイト薄
膜を形成する。 【構成】 硝酸ランタンと硝酸クロムを１：１のモル
比でメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル、エチレングリコール、ジエチレングリコール及びグ
リセリンからなる群より選ばれた１種又は２種以上のア
ルコールに溶解してアルコール溶液を調製し、次いで前
記アルコール溶液に蟻酸、酢酸、プロピオン酸及び酪酸
からなる群より選ばれた１種又は２種以上のカルボン酸
を添加混合してコーティング溶液を調製する。このコ−
ティング溶液を耐熱性のある基体の表面に塗布して塗膜
を形成する。塗膜を形成した基体を乾燥熱処理してラン
タンとクロムの複合酸化物前駆体を生成し、この複合酸
化物前駆体を６００〜１０００℃の温度で焼成してラン
タンクロマイト薄膜を得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐熱性、導電性に優れ
た高導電性酸化物であるランタンクロマイトからなる薄
膜の形成方法に関する。更に詳しくは、薄膜状の抵抗発
熱体や高温での導電性材料として利用が見込まれるラン
タンクロマイト薄膜の形成方法に関するものである。
た高導電性酸化物であるランタンクロマイトからなる薄
膜の形成方法に関する。更に詳しくは、薄膜状の抵抗発
熱体や高温での導電性材料として利用が見込まれるラン
タンクロマイト薄膜の形成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ペロブスカイト型化合物のランタ
ンクロマイト（ＬａＣｒＯ3）は、Ｌａ2Ｏ3とＣｒ2Ｏ3
を１：１のモル比で混合した混合物を１５００℃以上の
温度で焼成、粉砕、混合を繰返す方法（A.M.Anthony et
al, "High Temp.Tech." Butterworths, London, p214
(1967)）や、Ｌａ2Ｏ3とＣｒ（ＯＨ）3から４００〜１
０００℃の温度で１００ＭＰａ程度の圧力下、水熱合成
する方法（宋、吉村、宗宮；材料科学, 19, 49 (198
2)）等により得られている。更に、電気化学的な手法を
用いたＬａＣｒＯ3皮膜の形成方法が提案されいる（金
野、常田、北崎、古市；表面技術, 40, 144 (1989)）。
この方法ではＬａ（ＮＯ3）3と（ＮＨ4）2Ｃｒ2Ｏ7の溶
液中でＰｔ試料を水素発生が起こる一定カソード電位に
分極し、試料上にまず中間体の皮膜を形成した後、その
皮膜を大気中で熱処理してＬａＣｒＯ3皮膜に転換して
いる。
ンクロマイト（ＬａＣｒＯ3）は、Ｌａ2Ｏ3とＣｒ2Ｏ3
を１：１のモル比で混合した混合物を１５００℃以上の
温度で焼成、粉砕、混合を繰返す方法（A.M.Anthony et
al, "High Temp.Tech." Butterworths, London, p214
(1967)）や、Ｌａ2Ｏ3とＣｒ（ＯＨ）3から４００〜１
０００℃の温度で１００ＭＰａ程度の圧力下、水熱合成
する方法（宋、吉村、宗宮；材料科学, 19, 49 (198
2)）等により得られている。更に、電気化学的な手法を
用いたＬａＣｒＯ3皮膜の形成方法が提案されいる（金
野、常田、北崎、古市；表面技術, 40, 144 (1989)）。
この方法ではＬａ（ＮＯ3）3と（ＮＨ4）2Ｃｒ2Ｏ7の溶
液中でＰｔ試料を水素発生が起こる一定カソード電位に
分極し、試料上にまず中間体の皮膜を形成した後、その
皮膜を大気中で熱処理してＬａＣｒＯ3皮膜に転換して
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、１５００℃で
焼成する方法及び水熱合成する方法は多くのエネルギー
を必要とする上、得られる化合物は粉末であるため、薄
膜を形成するには適しない不具合があった。また、電気
化学的な手法を用いたＬａＣｒＯ3皮膜の形成方法は基
体がＰｔやステンレス鋼等に限定され、しかも緻密で広
範囲に均質な皮膜が得がたい問題点があった。本発明の
目的は、特殊な基体を要することなく、少ないエネルギ
ーで、緻密で広範囲に均質なランタンクロマイト薄膜を
製造する方法を提供することにある。
焼成する方法及び水熱合成する方法は多くのエネルギー
を必要とする上、得られる化合物は粉末であるため、薄
膜を形成するには適しない不具合があった。また、電気
化学的な手法を用いたＬａＣｒＯ3皮膜の形成方法は基
体がＰｔやステンレス鋼等に限定され、しかも緻密で広
範囲に均質な皮膜が得がたい問題点があった。本発明の
目的は、特殊な基体を要することなく、少ないエネルギ
ーで、緻密で広範囲に均質なランタンクロマイト薄膜を
製造する方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の薄膜の形成方法は、先ず硝酸ランタンと硝
酸クロムを１：１のモル比でメタノール、エタノール、
プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、ジエ
チレングリコール及びグリセリンからなる群より選ばれ
た１種又は２種以上のアルコールに溶解してアルコール
溶液を調製し、次いで前記アルコール溶液に蟻酸、酢
酸、プロピオン酸及び酪酸からなる群より選ばれた１種
又は２種以上のカルボン酸を添加混合してコーティング
溶液を調製する。このコ−ティング溶液を耐熱性のある
基体の表面に塗布して塗膜を形成しする。塗膜を形成し
た基体を乾燥熱処理してランタンとクロムの複合酸化物
前駆体を生成し、この複合酸化物前駆体を６００〜１０
００℃の温度で焼成してランタンクロマイト薄膜を得
る。
に、本発明の薄膜の形成方法は、先ず硝酸ランタンと硝
酸クロムを１：１のモル比でメタノール、エタノール、
プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、ジエ
チレングリコール及びグリセリンからなる群より選ばれ
た１種又は２種以上のアルコールに溶解してアルコール
溶液を調製し、次いで前記アルコール溶液に蟻酸、酢
酸、プロピオン酸及び酪酸からなる群より選ばれた１種
又は２種以上のカルボン酸を添加混合してコーティング
溶液を調製する。このコ−ティング溶液を耐熱性のある
基体の表面に塗布して塗膜を形成しする。塗膜を形成し
た基体を乾燥熱処理してランタンとクロムの複合酸化物
前駆体を生成し、この複合酸化物前駆体を６００〜１０
００℃の温度で焼成してランタンクロマイト薄膜を得
る。
【０００５】以下、本発明を記述する。先ず硝酸ランタ
ンと硝酸クロムを１：１のモル比でメタノール、エタノ
ール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール及びグリセリンからなる群よ
り選ばれた１種又は２種以上のアルコールに溶解してア
ルコール溶液を調製する。原料にセラミック特性或いは
焼結性を向上させるための添加剤を加えてもよい。アル
コール溶液の濃度は薄膜の厚みに応じて決められるが、
０．０２〜５．００モル／Ｌが好ましい。０．０２モル
／Ｌ未満であると希薄すぎて成膜が難しく、５．００モ
ル／Ｌを越えると溶解上問題がある。アルコールは原料
の硝酸ランタンと硝酸クロムの溶媒として用いられる。
またメタノール、プロパノール、ブタノールのような１
価アルコールは後述するコーティング溶液塗布時の基体
の濡れ性を向上させる機能があり、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、グリセリンのような２価又
は３価のアルコールはそのアルコールの構成元素がラン
タン又はクロムの金属元素に配位してアルコール溶液を
安定化させ、成膜性を向上させる機能がある。次いで前
記アルコール溶液に蟻酸、酢酸、プロピオン酸及び酪酸
からなる群から選ばれた１種又は２種以上のカルボン酸
を添加混合してコーティング溶液を調製する。カルボン
酸はそのカルボン酸の構成元素がランタン又はクロムの
金属元素に配位してアルコール溶液を安定化させ、成膜
性を向上させるように作用する。この作用は前記２価又
は３価のアルコールのそれよりも更に大きい。硝酸ラン
タンと硝酸クロムとを合計した原料に対するカルボン酸
のモル比は０．２〜５．０の範囲内にあることが望まし
い。０．２より少ない場合には、アルコール溶液の安定
化効果が不十分になり、５．０を越えると塗膜の再溶解
が生じて塗膜面が粗くなり易い。
ンと硝酸クロムを１：１のモル比でメタノール、エタノ
ール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール及びグリセリンからなる群よ
り選ばれた１種又は２種以上のアルコールに溶解してア
ルコール溶液を調製する。原料にセラミック特性或いは
焼結性を向上させるための添加剤を加えてもよい。アル
コール溶液の濃度は薄膜の厚みに応じて決められるが、
０．０２〜５．００モル／Ｌが好ましい。０．０２モル
／Ｌ未満であると希薄すぎて成膜が難しく、５．００モ
ル／Ｌを越えると溶解上問題がある。アルコールは原料
の硝酸ランタンと硝酸クロムの溶媒として用いられる。
またメタノール、プロパノール、ブタノールのような１
価アルコールは後述するコーティング溶液塗布時の基体
の濡れ性を向上させる機能があり、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、グリセリンのような２価又
は３価のアルコールはそのアルコールの構成元素がラン
タン又はクロムの金属元素に配位してアルコール溶液を
安定化させ、成膜性を向上させる機能がある。次いで前
記アルコール溶液に蟻酸、酢酸、プロピオン酸及び酪酸
からなる群から選ばれた１種又は２種以上のカルボン酸
を添加混合してコーティング溶液を調製する。カルボン
酸はそのカルボン酸の構成元素がランタン又はクロムの
金属元素に配位してアルコール溶液を安定化させ、成膜
性を向上させるように作用する。この作用は前記２価又
は３価のアルコールのそれよりも更に大きい。硝酸ラン
タンと硝酸クロムとを合計した原料に対するカルボン酸
のモル比は０．２〜５．０の範囲内にあることが望まし
い。０．２より少ない場合には、アルコール溶液の安定
化効果が不十分になり、５．０を越えると塗膜の再溶解
が生じて塗膜面が粗くなり易い。
【０００６】コーティング溶液は耐熱性のある基体の表
面に塗布される。基体は次に述べる焼成温度に耐えるも
のであればよく、金、銀、白金等の金属や、これらの金
属の少なくとも１種を主成分とする合金や、ガラス、炭
素、けい素、シリカ、アルミナ、マグネシア、ジルコニ
ア、チタニア、チタン酸ストロンチウム、窒化硼素、窒
化けい素、炭化硼素、炭化けい素等のセラミックス等を
用いることができる。基体の形状は、繊維状、フィルム
状、板状、バルク状等いずれの形状であってもよい。塗
布前に基体の表面を研磨して平滑にし、更に洗浄して油
分等を除去しておくことが望ましい。塗布の方法として
は、スクリーン印刷法によりコーティング溶液を基体に
塗る方法の他に、コーティング溶液を噴霧するスプレー
コーティング法、コーティング溶液中に基体を浸漬した
後引上げるディップコーティング法、基体をスピンさせ
て塗膜の厚みの均一化と薄膜化をはかるスピンコーティ
ング法等がある。膜厚の均一性の観点からスピンコーテ
ィング法が望ましい。
面に塗布される。基体は次に述べる焼成温度に耐えるも
のであればよく、金、銀、白金等の金属や、これらの金
属の少なくとも１種を主成分とする合金や、ガラス、炭
素、けい素、シリカ、アルミナ、マグネシア、ジルコニ
ア、チタニア、チタン酸ストロンチウム、窒化硼素、窒
化けい素、炭化硼素、炭化けい素等のセラミックス等を
用いることができる。基体の形状は、繊維状、フィルム
状、板状、バルク状等いずれの形状であってもよい。塗
布前に基体の表面を研磨して平滑にし、更に洗浄して油
分等を除去しておくことが望ましい。塗布の方法として
は、スクリーン印刷法によりコーティング溶液を基体に
塗る方法の他に、コーティング溶液を噴霧するスプレー
コーティング法、コーティング溶液中に基体を浸漬した
後引上げるディップコーティング法、基体をスピンさせ
て塗膜の厚みの均一化と薄膜化をはかるスピンコーティ
ング法等がある。膜厚の均一性の観点からスピンコーテ
ィング法が望ましい。
【０００７】基体表面に形成された塗膜は、室温〜２０
０℃の温度で乾燥される。乾燥した基体上の塗膜はその
溶媒を除去するために３００〜５００℃で熱処理され
る。これによりランタンとクロムの複合酸化物前駆体が
生成される。この前駆体を大気圧下、６００〜１０００
℃で焼成すると、基体上にランタンクロマイト薄膜が形
成される。上記塗膜の形成から熱処理までの工程を反復
することによって厚みを増大でき、反復回数を調整すれ
ば所望の厚みのランタンクロマイト薄膜が得られる。上
記アルコール溶液の濃度、コーティング溶液の粘度、基
体の引上げ速度、噴霧量等によって変化するが、塗膜の
形成から熱処理までを一回で行うことにより焼成後にサ
ブミクロン厚の薄膜を形成することができ、上記塗膜の
積層数を増やすことにより数ミクロン厚の薄膜も得られ
る。
０℃の温度で乾燥される。乾燥した基体上の塗膜はその
溶媒を除去するために３００〜５００℃で熱処理され
る。これによりランタンとクロムの複合酸化物前駆体が
生成される。この前駆体を大気圧下、６００〜１０００
℃で焼成すると、基体上にランタンクロマイト薄膜が形
成される。上記塗膜の形成から熱処理までの工程を反復
することによって厚みを増大でき、反復回数を調整すれ
ば所望の厚みのランタンクロマイト薄膜が得られる。上
記アルコール溶液の濃度、コーティング溶液の粘度、基
体の引上げ速度、噴霧量等によって変化するが、塗膜の
形成から熱処理までを一回で行うことにより焼成後にサ
ブミクロン厚の薄膜を形成することができ、上記塗膜の
積層数を増やすことにより数ミクロン厚の薄膜も得られ
る。
【０００８】
【作用】アルコールに溶解可能な硝酸ランタンと硝酸ク
ロムを等モル量アルコールに溶解し、更にカルボン酸を
添加することにより溶液は安定化し、コーティング溶液
の成膜性が向上する。このコーティング溶液を基体に塗
布乾燥すると、基体表面に溶質がサブミクロン以下の塗
膜を形成するため、均一で極薄の塗膜が得られる。溶液
条件、塗布条件又は塗膜の積層数を制御することによ
り、サブミクロン〜数ミクロン厚のランタンクロマイト
を基体表面に得る。
ロムを等モル量アルコールに溶解し、更にカルボン酸を
添加することにより溶液は安定化し、コーティング溶液
の成膜性が向上する。このコーティング溶液を基体に塗
布乾燥すると、基体表面に溶質がサブミクロン以下の塗
膜を形成するため、均一で極薄の塗膜が得られる。溶液
条件、塗布条件又は塗膜の積層数を制御することによ
り、サブミクロン〜数ミクロン厚のランタンクロマイト
を基体表面に得る。
【０００９】
【発明の効果】以上述べたように、従来法では得られた
化合物が粉末で皮膜形成に不適であったり、電解法では
特殊な基体を要し、緻密で広範囲に均質な皮膜が形成さ
れなかったものが、本発明によれば、化学的な手法によ
りランタン及びクロムの構成成分を溶液化し、この溶液
を熱処理して溶媒を脱離させて薄膜にするため、厚みが
１μｍ以下の緻密で広範囲に均質な薄膜を簡単な操作で
効率良く製造することができる優れた効果を奏する。本
発明で得られたランタンクロマイト薄膜は高融点、高電
気伝導性、高温での酸化や腐食に対する高い抵抗性等か
ら、各種の高温用電極材料、導電端子、抵抗発熱体等と
しての用途を期待することができる。
化合物が粉末で皮膜形成に不適であったり、電解法では
特殊な基体を要し、緻密で広範囲に均質な皮膜が形成さ
れなかったものが、本発明によれば、化学的な手法によ
りランタン及びクロムの構成成分を溶液化し、この溶液
を熱処理して溶媒を脱離させて薄膜にするため、厚みが
１μｍ以下の緻密で広範囲に均質な薄膜を簡単な操作で
効率良く製造することができる優れた効果を奏する。本
発明で得られたランタンクロマイト薄膜は高融点、高電
気伝導性、高温での酸化や腐食に対する高い抵抗性等か
ら、各種の高温用電極材料、導電端子、抵抗発熱体等と
しての用途を期待することができる。
【００１０】
【実施例】次に本発明の具体的態様を示すために、本発
明の実施例を説明する。以下に述べる実施例は本発明の
技術的範囲を限定するものではない。 ＜実施例１＞硝酸ランタン６水和物８．２３ｇと硝酸ク
ロム９水和物８．００ｇと、添加剤として硝酸カルシウ
ム４水和物０．２４ｇをイソプロピルアルコール１００
ｍＬとエチレングリコール１００ｍＬのアルコール混合
溶液に溶解した。この溶液に更にイソ酪酸２．６４ｇを
添加して均一に混合した。この混合液をコーティング溶
液として用い、アルミナ基板の表面にディッピング法に
より塗布した。即ち静置した上記コーティング溶液にア
ルミナ基板を浸漬し、２４ｍｍ／秒の速度で鉛直方向に
引上げた。基板表面に形成された塗膜を１５０℃の温度
で乾燥した後、５００℃で熱処理した。上記コーティン
グ工程、乾燥工程及び熱処理工程を６回繰返し行った
後、更に大気圧下、８００℃で２時間焼成したところ、
基板の表面にサブミクロン厚のＣａ添加のランタンクロ
マイト（ＬａＣｒＯ3）の薄膜が得られた。この例では
添加剤として硝酸カルシウム４水和物に基づくカルシウ
ムを用いたので、抵抗値の低いＮＴＣサーミスタに適し
た薄膜が得られた。 ＜実施例２＞硝酸ランタン６水和物４．３３ｇと硝酸ク
ロム９水和物４．００ｇと、添加剤として硼酸０．０２
ｇをエタノール５０ｍＬとエチレングリコール１００ｍ
Ｌのアルコール混合溶液に溶解した。この溶液に更に酢
酸０．６０ｇを添加して均一に混合してコーティング溶
液を調製した。このコーティング溶液を実施例１のコー
ティング溶液の代わりに使用し、そして焼成温度を７０
０℃としたことを除いては、実施例１と同じ工程を繰り
返した。その結果、アルミナ基板の表面にサブミクロン
厚のＢ添加のランタンクロマイト（ＬａＣｒＯ3）の薄
膜が得られた。この例では、添加剤の硼酸が焼結助剤と
して機能し、焼成温度を実施例１よりも１００℃低下さ
せることができた。
明の実施例を説明する。以下に述べる実施例は本発明の
技術的範囲を限定するものではない。 ＜実施例１＞硝酸ランタン６水和物８．２３ｇと硝酸ク
ロム９水和物８．００ｇと、添加剤として硝酸カルシウ
ム４水和物０．２４ｇをイソプロピルアルコール１００
ｍＬとエチレングリコール１００ｍＬのアルコール混合
溶液に溶解した。この溶液に更にイソ酪酸２．６４ｇを
添加して均一に混合した。この混合液をコーティング溶
液として用い、アルミナ基板の表面にディッピング法に
より塗布した。即ち静置した上記コーティング溶液にア
ルミナ基板を浸漬し、２４ｍｍ／秒の速度で鉛直方向に
引上げた。基板表面に形成された塗膜を１５０℃の温度
で乾燥した後、５００℃で熱処理した。上記コーティン
グ工程、乾燥工程及び熱処理工程を６回繰返し行った
後、更に大気圧下、８００℃で２時間焼成したところ、
基板の表面にサブミクロン厚のＣａ添加のランタンクロ
マイト（ＬａＣｒＯ3）の薄膜が得られた。この例では
添加剤として硝酸カルシウム４水和物に基づくカルシウ
ムを用いたので、抵抗値の低いＮＴＣサーミスタに適し
た薄膜が得られた。 ＜実施例２＞硝酸ランタン６水和物４．３３ｇと硝酸ク
ロム９水和物４．００ｇと、添加剤として硼酸０．０２
ｇをエタノール５０ｍＬとエチレングリコール１００ｍ
Ｌのアルコール混合溶液に溶解した。この溶液に更に酢
酸０．６０ｇを添加して均一に混合してコーティング溶
液を調製した。このコーティング溶液を実施例１のコー
ティング溶液の代わりに使用し、そして焼成温度を７０
０℃としたことを除いては、実施例１と同じ工程を繰り
返した。その結果、アルミナ基板の表面にサブミクロン
厚のＢ添加のランタンクロマイト（ＬａＣｒＯ3）の薄
膜が得られた。この例では、添加剤の硼酸が焼結助剤と
して機能し、焼成温度を実施例１よりも１００℃低下さ
せることができた。
Claims (2)
- 【請求項１】 硝酸ランタンと硝酸クロムを１：１のモ
ル比でメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、エチレングリコール、ジエチレングリコール及び
グリセリンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の
アルコールに溶解してアルコール溶液を調製し、 前記アルコール溶液に蟻酸、酢酸、プロピオン酸及び酪
酸からなる群より選ばれた１種又は２種以上のカルボン
酸を添加混合してコーティング溶液を調製し、 前記コ−ティング溶液を耐熱性のある基体の表面に塗布
して塗膜を形成し、 前記塗膜を形成した基体を乾燥熱処理してランタンとク
ロムの複合酸化物前駆体を生成し、 前記複合酸化物前駆体を６００〜１０００℃の温度で焼
成するランタンクロマイト薄膜の形成方法。 - 【請求項２】 前記コ−ティング溶液を基体表面にディ
ッピング法又はスピンコーティング法により塗布する請
求項１記載のランタンクロマイト薄膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27700491A JPH0585733A (ja) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | ランタンクロマイト薄膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27700491A JPH0585733A (ja) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | ランタンクロマイト薄膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0585733A true JPH0585733A (ja) | 1993-04-06 |
Family
ID=17577423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27700491A Withdrawn JPH0585733A (ja) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | ランタンクロマイト薄膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0585733A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4422624B4 (de) * | 1994-06-28 | 2009-07-09 | Siemens Ag | Verfahren zum Aufbringen einer Schutzschicht auf einen metallischen chromhaltigen Körper |
-
1991
- 1991-09-27 JP JP27700491A patent/JPH0585733A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4422624B4 (de) * | 1994-06-28 | 2009-07-09 | Siemens Ag | Verfahren zum Aufbringen einer Schutzschicht auf einen metallischen chromhaltigen Körper |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3548801B2 (ja) | 特定の金属種に特定の配位子を配位させた金属錯体を含む溶液組成物、希土類超電導膜製造用溶液組成物、特定金属錯体の非結晶固形物、特定の金属種に特定の配位子を配位させた金属錯体を含む溶液の製造方法、希土類超電導膜製造用溶液の製造方法、及び超電導薄膜の形成方法。 | |
| JP2004523086A (ja) | ゾル−ゲルコーティングの施された炭酸塩形燃料電池用のカソード側ハードウエア | |
| JPH0585733A (ja) | ランタンクロマイト薄膜の形成方法 | |
| JP7345778B2 (ja) | 電子部品の製造方法 | |
| JP3161471B2 (ja) | チタン酸バリウム薄膜の製造方法 | |
| KR102335014B1 (ko) | 고체 산화물 연료전지용 전극 재료 및 그의 제조방법 | |
| Liu et al. | Thick layer deposition of lead perovskites using diol-based chemical solution approach | |
| JP3161477B2 (ja) | マンガンコバルト酸化物薄膜の形成方法 | |
| JPH0517157A (ja) | ランタンクロマイト薄膜の形成方法 | |
| Gaudon et al. | Synthesis and characterization of La1− xSrxMnO3 thin films from polymeric precursors | |
| KR100805455B1 (ko) | 플라즈마 용사법을 이용한 에스오에프씨 금속 접속자의 제조방법 | |
| JP3548802B2 (ja) | 特定の金属種に特定の配位子を配位させた金属錯体を含む溶液組成物、希土類超電導膜製造用溶液組成物、特定金属錯体の非結晶固形物、特定の金属種に特定の配位子を配位させた金属錯体を含む溶液の製造方法、希土類超電導膜製造用溶液の製造方法、及び超電導薄膜の製造方法。 | |
| JP3166790B2 (ja) | マンガンコバルト酸化物薄膜の形成方法 | |
| Zhu et al. | Microstructures and electrical properties of La0. 8Sr0. 2MnO3 films synthesized by sol–gel method | |
| JP3175746B2 (ja) | サーミスタ薄膜の形成方法 | |
| Savaniu et al. | Sol–gel preparation and characterisation of dense proton conducting Sr3CaZr0. 5Ta1. 5O8. 75 thin films | |
| JP3209235B2 (ja) | マンガンコバルト酸化物薄膜の形成方法 | |
| JP3183303B2 (ja) | マンガンコバルト酸化物薄膜の形成方法 | |
| JPH025507A (ja) | セラミックコンデンサ | |
| JPH02221121A (ja) | 強誘電性薄膜の製造方法 | |
| JP2010521803A (ja) | 多孔質導電性基板材料を誘電体で被膜する方法 | |
| Noh et al. | Effect of sintering temperature on structural and dielectric properties of (Ba 0.54 Sr 0.36 Ca 0.10) TiO 3 thick films | |
| JP2000128645A (ja) | ゾル・ゲルバインダ―溶液及びそれによる溶液析出法 | |
| JPH0672720A (ja) | マンガンコバルト銅酸化物薄膜の形成方法 | |
| JPH0832608B2 (ja) | 基板に密着したセラミツク薄膜の製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981203 |