JPH0585649A - 支持ローラの汚染を減少させる装置 - Google Patents
支持ローラの汚染を減少させる装置Info
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- JPH0585649A JPH0585649A JP4057515A JP5751592A JPH0585649A JP H0585649 A JPH0585649 A JP H0585649A JP 4057515 A JP4057515 A JP 4057515A JP 5751592 A JP5751592 A JP 5751592A JP H0585649 A JPH0585649 A JP H0585649A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
- G03C2001/7429—Cleaning means
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】ウェブ駆動装置がウェブの乾燥不十分な部分に
より汚染されるのを構造簡単で維持の容易な装置で処理
することで防ぐ。 【構成】ウエブ１が支持ローラ２１上を通過しこのウエ
ブ１の表面５が不均一に被覆された部分がこのローラ２
１を通過する少なくとも期間中にブラシがけされること
によって上記の不均一に被覆された部分を少なくとも部
分的に、除去するようにした不十分に乾燥された部分に
よってウエブ駆動装置が汚染されるのを防止するウエブ
処理装置。
より汚染されるのを構造簡単で維持の容易な装置で処理
することで防ぐ。 【構成】ウエブ１が支持ローラ２１上を通過しこのウエ
ブ１の表面５が不均一に被覆された部分がこのローラ２
１を通過する少なくとも期間中にブラシがけされること
によって上記の不均一に被覆された部分を少なくとも部
分的に、除去するようにした不十分に乾燥された部分に
よってウエブ駆動装置が汚染されるのを防止するウエブ
処理装置。
Description
【０００１】本発明はウエブの駆動装置がウエブの不十
分に乾燥された部分によって汚染されるのを防止するウ
エブ処理方法に関する。
分に乾燥された部分によって汚染されるのを防止するウ
エブ処理方法に関する。
【０００２】多数の製品を製造する場合、連続するウエ
ブに液体組成物が被覆される。この時、支持体の被覆面
は硬化および乾燥をおこなうために制御された温度と湿
度を受ける。処理中にウエブがたどらなければならない
特定の通路次第で、ウエブの被覆された表面は所定の通
路に沿ってウエブを案内するローラと接触することが必
要または予期される（expeditious ）。このような製法
において、ウエブはローラに接触する前に完全に乾燥さ
れているかまたは巻取られる前にインタローラ（inter
roller ）およびまたはインタウエブ（inter web）が
汚染するのを防止することが大切である。ウエブに完全
に乾いてない部分があると、ローラは汚染され、今度は
この汚れたローラが後に続いてくるウエブ部分を汚染す
ることになる。十分に乾いてないウエブ表面の部分が巻
取られると、この部分の上側にくる次のウエブの裏面に
付着する。このようにして大部分は汚染して使い物にな
らなくなる。
ブに液体組成物が被覆される。この時、支持体の被覆面
は硬化および乾燥をおこなうために制御された温度と湿
度を受ける。処理中にウエブがたどらなければならない
特定の通路次第で、ウエブの被覆された表面は所定の通
路に沿ってウエブを案内するローラと接触することが必
要または予期される（expeditious ）。このような製法
において、ウエブはローラに接触する前に完全に乾燥さ
れているかまたは巻取られる前にインタローラ（inter
roller ）およびまたはインタウエブ（inter web）が
汚染するのを防止することが大切である。ウエブに完全
に乾いてない部分があると、ローラは汚染され、今度は
この汚れたローラが後に続いてくるウエブ部分を汚染す
ることになる。十分に乾いてないウエブ表面の部分が巻
取られると、この部分の上側にくる次のウエブの裏面に
付着する。このようにして大部分は汚染して使い物にな
らなくなる。
【０００３】この汚染は被覆組成物が紙またはフイルム
といった種々の支持体に付与される場合の写真材料の製
造には特別な問題である。今日の競争の激しい社会環境
において必要な高い被覆速度を得るためには被覆作業が
連続的で中断のない製造法であることが必須条件であ
る。この製造法はウエブとその移送装置を停止させずに
ウエブの後端縁を別のウエブの先端縁に重ね合わせて接
合する複雑な装置を用いて得ることができる。この被覆
手順は接合部が被覆ステーションを通過する時に中断さ
れることがあり得る。一般に被覆工程が開始される時ま
たは乱される時には、被覆された表面は不均一になる
が、厚い層で被覆される。
といった種々の支持体に付与される場合の写真材料の製
造には特別な問題である。今日の競争の激しい社会環境
において必要な高い被覆速度を得るためには被覆作業が
連続的で中断のない製造法であることが必須条件であ
る。この製造法はウエブとその移送装置を停止させずに
ウエブの後端縁を別のウエブの先端縁に重ね合わせて接
合する複雑な装置を用いて得ることができる。この被覆
手順は接合部が被覆ステーションを通過する時に中断さ
れることがあり得る。一般に被覆工程が開始される時ま
たは乱される時には、被覆された表面は不均一になる
が、厚い層で被覆される。
【０００４】乾燥機は正常な被覆を所望の乾燥度まで乾
燥するに十分な能力を以て設計されているので、上記の
被覆工程における開始または乱れによるこの正常被覆よ
りも厚いウエブの被覆層は乾燥を不十分にすることが少
なくない。
燥するに十分な能力を以て設計されているので、上記の
被覆工程における開始または乱れによるこの正常被覆よ
りも厚いウエブの被覆層は乾燥を不十分にすることが少
なくない。
【０００５】この問題を軽減する二、三の公知の方法は
ウエブの表面から過剰な液分を吸い取る必要のある場
合、バキュームクリーナの作用をする吸込み装置を被覆
装置の近くに配置して用いることである。しかし、これ
には各作業を終える毎に吸込み管を清掃することによっ
て被覆材料の乾いてない部分がみじんもなく吸込み装置
の運動を妨げないことを保証できることが必要である。
ウエブの表面から過剰な液分を吸い取る必要のある場
合、バキュームクリーナの作用をする吸込み装置を被覆
装置の近くに配置して用いることである。しかし、これ
には各作業を終える毎に吸込み管を清掃することによっ
て被覆材料の乾いてない部分がみじんもなく吸込み装置
の運動を妨げないことを保証できることが必要である。
【０００６】ＥＰ０２５４３０６にはウエブの表面から
過剰な液を排出するのに多ロールのウエブ支持装置が記
載されている。この装置にはいくつかの大きな欠点があ
る。組になったローラが回転すると、ウエブの通路が変
わり僅かに長くなる。この通路長さとウエブに与える緊
張との両変化に対処するため、このウエブ処理装置は上
記の装置よりももっと複雑にしなければならない。吸取
りローラの外面は各１回の作業後にまたは少なくとも
二、三回の作業後に清掃または取替えが必要である。こ
うした欠点のためこの種の装置は近代的自動製造工場で
は望ましくない。
過剰な液を排出するのに多ロールのウエブ支持装置が記
載されている。この装置にはいくつかの大きな欠点があ
る。組になったローラが回転すると、ウエブの通路が変
わり僅かに長くなる。この通路長さとウエブに与える緊
張との両変化に対処するため、このウエブ処理装置は上
記の装置よりももっと複雑にしなければならない。吸取
りローラの外面は各１回の作業後にまたは少なくとも
二、三回の作業後に清掃または取替えが必要である。こ
うした欠点のためこの種の装置は近代的自動製造工場で
は望ましくない。
【０００７】以上に代って、乾燥機の能力を増加してウ
エブ上の過剰材料を処理することもできるが、これは非
能率的で正常な被覆の乾燥を過剰にすることになり得
る。
エブ上の過剰材料を処理することもできるが、これは非
能率的で正常な被覆の乾燥を過剰にすることになり得
る。
【０００８】本発明の目的はウエブ駆動装置がウエブの
不十分な乾燥部分により汚染されるのを防止する改良さ
れたウエブ処理方法を提供することにある。さらに別の
目的はこのような方法を実施するための構造が簡単で保
安の容易な装置を提供することにある。
不十分な乾燥部分により汚染されるのを防止する改良さ
れたウエブ処理方法を提供することにある。さらに別の
目的はこのような方法を実施するための構造が簡単で保
安の容易な装置を提供することにある。
【０００９】ローラの汚染は支持体上を移動するウエブ
を通過させる工程と、ウエブの不完全乾燥の被覆された
部分を生み出す移動するウエブの不均一に被覆された部
分が上記支持体上を通過する時期を決定する工程と、少
なくとも上記不均一に被覆された部分を取除くようにこ
の不均一被覆部分が上記支持体上を通過する少なくとも
時間中にこの不均一被覆ウエブ部分の表面をブラシがけ
する工程とよりなる本発明の方法によって減少させるこ
とができる。
を通過させる工程と、ウエブの不完全乾燥の被覆された
部分を生み出す移動するウエブの不均一に被覆された部
分が上記支持体上を通過する時期を決定する工程と、少
なくとも上記不均一に被覆された部分を取除くようにこ
の不均一被覆部分が上記支持体上を通過する少なくとも
時間中にこの不均一被覆ウエブ部分の表面をブラシがけ
する工程とよりなる本発明の方法によって減少させるこ
とができる。
【００１０】ブラシがけの行動において、ブラシがけ装
置とブラシがけされる被覆との間に相対的な速度差があ
ることが必要である。
置とブラシがけされる被覆との間に相対的な速度差があ
ることが必要である。
【００１１】ウエブのブラシがけはウエブの移動に対し
逆流方向になされる。ウエブからブラシがけして除去さ
れる不均一被覆部分は連続的に排出される。
逆流方向になされる。ウエブからブラシがけして除去さ
れる不均一被覆部分は連続的に排出される。
【００１２】この上記方法を実施する際には、被覆ウエ
ブを支える装置と、ウエブの不完全に乾燥された被覆部
分を生み出す移動するウエブの不均一に被覆された部分
が上記の支持体上を通過する時期を検出する装置と、上
記の不均一に被覆された部分が上記支持体を通過する少
なくとも期間中に上記不均一に被覆されたウエブの部分
を少なくとも取除くブラシがけ装置とよりなる装置が用
いられる。
ブを支える装置と、ウエブの不完全に乾燥された被覆部
分を生み出す移動するウエブの不均一に被覆された部分
が上記の支持体上を通過する時期を検出する装置と、上
記の不均一に被覆された部分が上記支持体を通過する少
なくとも期間中に上記不均一に被覆されたウエブの部分
を少なくとも取除くブラシがけ装置とよりなる装置が用
いられる。
【００１３】この装置におけるブラシがけはウエブの移
動に対し逆流方向におこなわれる。除去された不均一被
覆部分は連続して排出装置によって除去される。ブラシ
がけ装置はウエブの全幅に亘って延びウエブの移動に対
し逆流方向に回転する円筒形ブラシにすることができ
る。
動に対し逆流方向におこなわれる。除去された不均一被
覆部分は連続して排出装置によって除去される。ブラシ
がけ装置はウエブの全幅に亘って延びウエブの移動に対
し逆流方向に回転する円筒形ブラシにすることができ
る。
【００１４】このウエブから排出されブラシに付着した
不均一被覆部分を取除くために、ブラシの毛に接触する
位置にナイフを配置することができる。この除去された
不均一被覆部分は連続的に排出される。
不均一被覆部分を取除くために、ブラシの毛に接触する
位置にナイフを配置することができる。この除去された
不均一被覆部分は連続的に排出される。
【００１５】最後に、本発明の装置の動作を自動化する
ために、ウエブのこの不完全乾燥被覆部分が支持装置を
通過するのを表示する信号を発生しブラシがけ装置をウ
エブに接触させるための装置を設けることができよう。
ために、ウエブのこの不完全乾燥被覆部分が支持装置を
通過するのを表示する信号を発生しブラシがけ装置をウ
エブに接触させるための装置を設けることができよう。
【００１６】本発明を以下に添付の図面を参考に例とし
て説明する。
て説明する。
【００１７】図１について述べると、ウエブ処理装置を
極めて簡単化した形の図である。図で解るとおり、ウエ
ブ１は供給ロール２から巻戻されブロック３で示す公知
のウエブ処理装置を介して駆動される。この装置３は駆
動装置（driving forces ）、ウエブ１を案内し方向づ
ける装置、横方向ウエブ位置およびウエブの緊張を制御
する装置を含む。この装置３もまた一方のウエブの後端
縁を別のウエブの前端縁へウエブおよびその移送装置を
停止させずに接合する公知の装置（図示せず）を含む。
ウエブ１はブロック４で全体に示す在来設計の被覆冷却
ステーションを通り駆動される。
極めて簡単化した形の図である。図で解るとおり、ウエ
ブ１は供給ロール２から巻戻されブロック３で示す公知
のウエブ処理装置を介して駆動される。この装置３は駆
動装置（driving forces ）、ウエブ１を案内し方向づ
ける装置、横方向ウエブ位置およびウエブの緊張を制御
する装置を含む。この装置３もまた一方のウエブの後端
縁を別のウエブの前端縁へウエブおよびその移送装置を
停止させずに接合する公知の装置（図示せず）を含む。
ウエブ１はブロック４で全体に示す在来設計の被覆冷却
ステーションを通り駆動される。
【００１８】ウエブ１は表面５と裏面６とを有する。ウ
エブが被覆部４を通過中に液層（または複数の液層）は
ウエブの表面５に被覆される。しかしこの表面５は普通
は処理工程の始りと終りでは均一な厚さの一層また複数
層で被覆されるが接合部が通過する時、即ち何等かの乱
れが起る時には一般に被覆は不均一になり表面５は局部
的にもっと重いまたは厚い層で被覆される。このような
不均一部分が不完全乾燥のウエブ被覆部分を生み出し、
少なくとも部分的にウエブ１の不均一に被覆された部分
を取除くブロック２０で示す装置と連結する制御装置７
によって検出される。次に、ウエブ１はブロック８で示
す在来の乾燥調整装置を通って進み、再び装置３と同一
機能を備えた二、三のウエブ処理装置９を通り、最後
に、巻取りロール１０の周りに巻取られる。ウエブ処理
装置９は再びウエブおよびその移送装置を停止させるこ
となく巻取りロールの取替えを可能にする。
エブが被覆部４を通過中に液層（または複数の液層）は
ウエブの表面５に被覆される。しかしこの表面５は普通
は処理工程の始りと終りでは均一な厚さの一層また複数
層で被覆されるが接合部が通過する時、即ち何等かの乱
れが起る時には一般に被覆は不均一になり表面５は局部
的にもっと重いまたは厚い層で被覆される。このような
不均一部分が不完全乾燥のウエブ被覆部分を生み出し、
少なくとも部分的にウエブ１の不均一に被覆された部分
を取除くブロック２０で示す装置と連結する制御装置７
によって検出される。次に、ウエブ１はブロック８で示
す在来の乾燥調整装置を通って進み、再び装置３と同一
機能を備えた二、三のウエブ処理装置９を通り、最後
に、巻取りロール１０の周りに巻取られる。ウエブ処理
装置９は再びウエブおよびその移送装置を停止させるこ
となく巻取りロールの取替えを可能にする。
【００１９】図２はブラシがけ装置２０の詳細図であ
る。被覆手順が開始され、付与された層がウエブ１の表
面５に不均一に被覆されたと仮定する。制御装置７は装
置全体のプロセスコンピュータであるが、この制御装置
によって被覆手順の開始が検出される。ブラシがけ装置
２０と被覆装置４との間のウエブ速度およびウエブ長さ
を知ると、制御装置７は被覆された材料の不均一部分が
支持ローラ２１に達する時間を計算する。制御装置７は
ウエブの全幅に亘って延びる円筒形ブラシでできている
ブラシ２２の回転開始を命令する。ブラシ２２はウエブ
の移動に対し逆流方向に回転していて、図３に示される
ごとくウエブ１とは接触していない位置に配置されてい
る。同時に、ボックス２４内の空気が公知の換気装置２
５で排出される。ウエブの不均一被覆部分が支持ローラ
２１に達する数秒前に、制御装置７は回転ブラシ２２を
ローラ２１の方へ移るように命令する。そうすると、ブ
ラシ２２はウエブ１がブラシの毛内に１乃至４ｍｍ押し
入るように配置される。
る。被覆手順が開始され、付与された層がウエブ１の表
面５に不均一に被覆されたと仮定する。制御装置７は装
置全体のプロセスコンピュータであるが、この制御装置
によって被覆手順の開始が検出される。ブラシがけ装置
２０と被覆装置４との間のウエブ速度およびウエブ長さ
を知ると、制御装置７は被覆された材料の不均一部分が
支持ローラ２１に達する時間を計算する。制御装置７は
ウエブの全幅に亘って延びる円筒形ブラシでできている
ブラシ２２の回転開始を命令する。ブラシ２２はウエブ
の移動に対し逆流方向に回転していて、図３に示される
ごとくウエブ１とは接触していない位置に配置されてい
る。同時に、ボックス２４内の空気が公知の換気装置２
５で排出される。ウエブの不均一被覆部分が支持ローラ
２１に達する数秒前に、制御装置７は回転ブラシ２２を
ローラ２１の方へ移るように命令する。そうすると、ブ
ラシ２２はウエブ１がブラシの毛内に１乃至４ｍｍ押し
入るように配置される。
【００２０】不均一被覆部分がローラ２１に達すると、
これらの部分は正常より重いまたは厚い部分がウエブ１
から取除かれるようにブラシがけが始っている。もし不
均一被覆部分が少しでもウエブに付着していると、ブラ
シがけ処理ではなくてこれらの部分の厚みは乾燥装置８
によって十分に乾燥できる規模にまで減少される。
これらの部分は正常より重いまたは厚い部分がウエブ１
から取除かれるようにブラシがけが始っている。もし不
均一被覆部分が少しでもウエブに付着していると、ブラ
シがけ処理ではなくてこれらの部分の厚みは乾燥装置８
によって十分に乾燥できる規模にまで減少される。
【００２１】金属性のナイフ刃２３がブラシの毛内に２
ｍｍに達しない深さに対し配置されている。このナイフ
刃はブラシ２２の毛に付着する十分に乾燥していない被
覆部分を取除くことを任務としている。
ｍｍに達しない深さに対し配置されている。このナイフ
刃はブラシ２２の毛に付着する十分に乾燥していない被
覆部分を取除くことを任務としている。
【００２２】ブラシ２０およびナイフ刃２３はブラシと
ナイフ刃とを本装置の残余の装置とを分離するボックス
２４内に配置されている。このボックス２４内にはウエ
ブの表面５に不均一被覆を形成した粒子が充満してお
り、空気は通常の空気排出装置２５によって連続的に吸
い出されている。ボックス２４および空気排出装置２５
は空気排出装置を通って排出される粒子以外には如何な
る粒子もボックス２４と支持体上のウエブ１との間の区
域には残らないように構成されている。
ナイフ刃とを本装置の残余の装置とを分離するボックス
２４内に配置されている。このボックス２４内にはウエ
ブの表面５に不均一被覆を形成した粒子が充満してお
り、空気は通常の空気排出装置２５によって連続的に吸
い出されている。ボックス２４および空気排出装置２５
は空気排出装置を通って排出される粒子以外には如何な
る粒子もボックス２４と支持体上のウエブ１との間の区
域には残らないように構成されている。
【００２３】ブラシ２２がウエブ１と接触してから若干
時間をおいて、例えば１０秒後に、制御装置７はウエブ
１からブラシが後退してウエブ１との接触がおこなわれ
ない位置につくように命令する。ブラシ２２は回転を止
め５秒後に空気の排出が終る。正常な被覆手順で被覆が
おこなわれる間ブラシは図３に示すごとくウエブから後
退している。
時間をおいて、例えば１０秒後に、制御装置７はウエブ
１からブラシが後退してウエブ１との接触がおこなわれ
ない位置につくように命令する。ブラシ２２は回転を止
め５秒後に空気の排出が終る。正常な被覆手順で被覆が
おこなわれる間ブラシは図３に示すごとくウエブから後
退している。
【００２４】次のデータは上記装置を示す。ブラシの全
直径は１３０ｍｍ、滑らかなナイロン毛は０．１５乃至
１．５ｍｍの直径と毛の長さ２２ｍｍを有す、ブラシ密
度は毛の植設締付け端で測って約４５０本／ｃｍ2 、ブ
ラシ速度は９００ｒｐｍ、ウエブ速度は１００ｍ／ｍｉ
ｎ。
直径は１３０ｍｍ、滑らかなナイロン毛は０．１５乃至
１．５ｍｍの直径と毛の長さ２２ｍｍを有す、ブラシ密
度は毛の植設締付け端で測って約４５０本／ｃｍ2 、ブ
ラシ速度は９００ｒｐｍ、ウエブ速度は１００ｍ／ｍｉ
ｎ。
【００２５】本発明は叙上の実施例に限定されるもので
はない。ウエブ処理装置のさらに下流においてブラシが
け装置を配置することもできる。例えばブラシがけ装置
２０を乾燥調整装置８に配置することができる。但し被
覆されたウエブの表面５がいずれかのロールに接触する
かまたは巻取りが終る以前に限る。完全に乾燥されてい
ない部分のみが取除きできるようにブラシがけ装置２０
を乾燥調整装置８より後に配置することすらできる。
はない。ウエブ処理装置のさらに下流においてブラシが
け装置を配置することもできる。例えばブラシがけ装置
２０を乾燥調整装置８に配置することができる。但し被
覆されたウエブの表面５がいずれかのロールに接触する
かまたは巻取りが終る以前に限る。完全に乾燥されてい
ない部分のみが取除きできるようにブラシがけ装置２０
を乾燥調整装置８より後に配置することすらできる。
【００２６】ブラシがけ装置はまたプラスチック以外の
材料で造られた毛で覆ったブラシ状ローラとすることも
できる。この場合のローラは発泡構造体、プラッシ材料
その他不均一被覆部分をウエブから排出させることがで
きる任意の材料で被覆することができる。このような材
料がどの手段によっても連続的に掃除できるならばこれ
は大きな利点である。
材料で造られた毛で覆ったブラシ状ローラとすることも
できる。この場合のローラは発泡構造体、プラッシ材料
その他不均一被覆部分をウエブから排出させることがで
きる任意の材料で被覆することができる。このような材
料がどの手段によっても連続的に掃除できるならばこれ
は大きな利点である。
【図１】ウエブ処理装置の概略図である。
【図２】ウエブ処理装置の動作位置にあるブラシがけ装
置の好ましき実施例の概略図である。
置の好ましき実施例の概略図である。
【図３】ウエブ処理装置の非動作位置にあるブラシがけ
装置の好ましき実施例の概略図である。
装置の好ましき実施例の概略図である。
１ ウエブ ２ 供給ロール ３ ウエブ処理装置 ４ 被覆冷却装置 ５ ウエブ１の表面 ６ ウエブ１の裏面 ７ 制御装置 ８ 乾燥調整装置 ９ ウエブ処理装置 １０ 巻取りロール ２０ ブラシがけ装置 ２１ 支持ロール ２２ 円筒形ブラシ ２３ ナイフ刃 ２４ ボックス ２５ 通風機
Claims (9)
- 【請求項１】 移動するウエブを支持体を通過させる工
程と、ウエブの不完全乾燥の被覆された部分を生み出す
移動するウエブの不均一に被覆された部分が上記支持体
上を通過する時期を決定する工程と、上記不均一に被覆
された部分を少なくとも部分的に除去するように不均一
に被覆された部分が上記支持体上を通過する少なくとも
時間中に該不均一被覆ウエブ部分の表面をブラシがけす
る工程とよりなる被覆されたウエブが不完全に乾燥され
た被覆部分を有する被覆されたウエブ部分処理装置にお
ける支持ローラの汚染を減少する方法。 - 【請求項２】 前記ブラシがけがウエブの移動に対し逆
流方向におこなわれる請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 ブラシがけされてウエブから取除かれた
前記不均一に被覆された部分が連続的に排出される請求
項１に記載の方法。 - 【請求項４】 ウエブ（１）に対する支持装置（２１）
と、該ウエブ（１）の不完全乾燥の被覆された部分を生
み出す移動する不均一に被覆された部分が上記支持装置
（２１）を通過する時期を検出する装置と、少なくとも
上記ウエブ（１）の不均一に被覆された部分が上記支持
装置（２１）を通過する間に該不均一に被覆された部分
を少なくとも部分的に除去するブラシがけ装置（２２）
とよりなる被覆されたウエブ処理装置における支持ロー
ラの汚染を減少する装置。 - 【請求項５】 前記ブラシがけ装置（２２）がウエブ移
動に対し逆流方向に移動することになっている請求項４
に記載の装置。 - 【請求項６】 ブラシがけされてウエブから取除かれた
前記不均一に被覆された部分が連続的に排出される請求
項４に記載の装置。 - 【請求項７】 前記ブラシがけ装置（２２）が前記ウエ
ブ（１）の全幅に亘って延びる円筒形ブラシである請求
項４に記載の装置。 - 【請求項８】 前記ブラシ（２２）がウエブの移動に対
し逆流方向に回転する請求項７に記載の装置。 - 【請求項９】 ナイフ（２３）が前記ブラシ（２２）の
毛に接触して配置されることによって前記ウエブ（１）
から排出されブラシ（２２）に付着した不均一に被覆さ
れた部分を除去し、該除去された部分を連続的に排出す
る装置（２５）が設けられた請求項８に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP91200362A EP0499720B1 (en) | 1991-02-20 | 1991-02-20 | A system for reducing interroller and/or interweb contamination |
| NL91200362.1 | 1991-02-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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