JPH0582412A - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
- Publication number
- JPH0582412A JPH0582412A JP3120626A JP12062691A JPH0582412A JP H0582412 A JPH0582412 A JP H0582412A JP 3120626 A JP3120626 A JP 3120626A JP 12062691 A JP12062691 A JP 12062691A JP H0582412 A JPH0582412 A JP H0582412A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- vertical direction
- wafer
- projection lens
- semiconductor manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】光学系およびステージの配列方向を変更するこ
とによって、レチクルマスク、縮小投影レンズ、ウェ
ハ、ステージの各面へのごみの付着を軽減し、かつステ
ージと駆動シャフトの間の遊びをなくす。 【構成】レチクルマスク６，縮小投影レンズ７，ウェハ
８，ステージ９の各表面が鉛直方向に対して平行になる
ように配列され、かつステージ９を駆動させるＸ方向お
よびＹ方向ステージ１３，１２の駆動シャフト１４が鉛
直方向に対して４５°の傾斜を持たせている。
とによって、レチクルマスク、縮小投影レンズ、ウェ
ハ、ステージの各面へのごみの付着を軽減し、かつステ
ージと駆動シャフトの間の遊びをなくす。 【構成】レチクルマスク６，縮小投影レンズ７，ウェハ
８，ステージ９の各表面が鉛直方向に対して平行になる
ように配列され、かつステージ９を駆動させるＸ方向お
よびＹ方向ステージ１３，１２の駆動シャフト１４が鉛
直方向に対して４５°の傾斜を持たせている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造装置に関し、
特にリソグラフィ技術に用いられる縮小投影露光装置に
関する。
特にリソグラフィ技術に用いられる縮小投影露光装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の半導体製造装置、特に縮小投影露
光装置の光学系及びステージは、図３の分解斜視図に示
すように鉛直方向に配列されている。水銀ランプ１より
放出された光は、楕円ミラー２により集光され、ダイク
ロイックミラー１０により露光波長の光とそれ以外の波
長の光（照明用）とに分光される。露光波長の光はシャ
ッタ３、光を平行に整えるフライアイインテグレータ
４，ミラー１１を介してコンデンサレンズ５で集光した
後、レチクルマスク６に照射される。レチクルマスク６
を通過した光は縮小投影レンズ７により縮小され、ステ
ージ９上のウェハ８に投影される。また、ステージ９
は、Ｙ方向ステージ１２およびＸ方向ステージ１３の各
駆動シャフト１４により、ウェハ８上の任意の露光した
い位置に移動する。
光装置の光学系及びステージは、図３の分解斜視図に示
すように鉛直方向に配列されている。水銀ランプ１より
放出された光は、楕円ミラー２により集光され、ダイク
ロイックミラー１０により露光波長の光とそれ以外の波
長の光（照明用）とに分光される。露光波長の光はシャ
ッタ３、光を平行に整えるフライアイインテグレータ
４，ミラー１１を介してコンデンサレンズ５で集光した
後、レチクルマスク６に照射される。レチクルマスク６
を通過した光は縮小投影レンズ７により縮小され、ステ
ージ９上のウェハ８に投影される。また、ステージ９
は、Ｙ方向ステージ１２およびＸ方向ステージ１３の各
駆動シャフト１４により、ウェハ８上の任意の露光した
い位置に移動する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この従来の半導体製造
装置では、レチクルマスク、縮小投影レンズ、ウェハ、
ステージは鉛直方向に対して主面が垂直な状態に配置さ
れ、浮遊塵や搬送系，駆動系により発生したごみが付着
し易い。その為、レチクルマスク、縮小投影レンズ、ウ
ェハにおいてはごみがマスクとなってパターンに欠陥が
生じたり、ステージにおいてはごみの付着によりウェハ
面が平坦でなくなり、焦点が合わなくなるという問題点
があった。また、ステージと駆動シャフトの間に遊びが
あり、ステージの移動距離にずれが生じるため、それを
補正する機構を設けなければならないという問題点があ
った。
装置では、レチクルマスク、縮小投影レンズ、ウェハ、
ステージは鉛直方向に対して主面が垂直な状態に配置さ
れ、浮遊塵や搬送系，駆動系により発生したごみが付着
し易い。その為、レチクルマスク、縮小投影レンズ、ウ
ェハにおいてはごみがマスクとなってパターンに欠陥が
生じたり、ステージにおいてはごみの付着によりウェハ
面が平坦でなくなり、焦点が合わなくなるという問題点
があった。また、ステージと駆動シャフトの間に遊びが
あり、ステージの移動距離にずれが生じるため、それを
補正する機構を設けなければならないという問題点があ
った。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体製造装置
は、光学系及びステージが鉛直方向に対し直角方向に配
列され、レチクルマスク、縮小投影レンズ、ウェハ、ス
テージの各表面は鉛直方向に対して平行になるように配
置され、かつステージを駆動させるＸ及びＹ方向ステー
ジの各シャフトが鉛直方向に対して４５°の傾斜を持っ
て配置されている。
は、光学系及びステージが鉛直方向に対し直角方向に配
列され、レチクルマスク、縮小投影レンズ、ウェハ、ス
テージの各表面は鉛直方向に対して平行になるように配
置され、かつステージを駆動させるＸ及びＹ方向ステー
ジの各シャフトが鉛直方向に対して４５°の傾斜を持っ
て配置されている。
【０００５】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図１は本発明の一実施例の分解斜視図である。水銀
ランプ１より放出された光は楕円ミラー２により集光さ
れ、シャッター３および光を平行に整えるフライアイイ
ンテグレータ４を介してコンデンサレンズ５で集光した
後、レチクルマスク６に照射される。レチクルマスク６
を通過した光は縮小投影レンズ７により縮小され、ステ
ージ９上のウェハ８に投影される。また、ステージ９
は、Ｙ方向ステージ１２およびＸ方向ステージ１３の各
駆動シャフト１４によりウェハ８上の任意の露光したい
位置に移動する。本実施例は、各構成部分を鉛直方向に
対し直角方向に配列する。また、駆動シャフト１４は鉛
直方向に対し４５度傾斜させて設けてある。その結果、
レチクルマスク６，縮小投影レンズ７，ウェハ８，ステ
ージ９の各表面が鉛直方向に対し平行となるため、降下
塵が付着しにくい。さらに、ステージ９の表面が鉛直方
向に対して平行で、かつＸ，Ｙ方向ステージ１３および
１２の各駆動シャフト１４が鉛直方向に対し４５°傾斜
しているため、ステージ９はその自重により駆動シャフ
ト１４に密着し、遊びによる位置ずれを生じない。
る。図１は本発明の一実施例の分解斜視図である。水銀
ランプ１より放出された光は楕円ミラー２により集光さ
れ、シャッター３および光を平行に整えるフライアイイ
ンテグレータ４を介してコンデンサレンズ５で集光した
後、レチクルマスク６に照射される。レチクルマスク６
を通過した光は縮小投影レンズ７により縮小され、ステ
ージ９上のウェハ８に投影される。また、ステージ９
は、Ｙ方向ステージ１２およびＸ方向ステージ１３の各
駆動シャフト１４によりウェハ８上の任意の露光したい
位置に移動する。本実施例は、各構成部分を鉛直方向に
対し直角方向に配列する。また、駆動シャフト１４は鉛
直方向に対し４５度傾斜させて設けてある。その結果、
レチクルマスク６，縮小投影レンズ７，ウェハ８，ステ
ージ９の各表面が鉛直方向に対し平行となるため、降下
塵が付着しにくい。さらに、ステージ９の表面が鉛直方
向に対して平行で、かつＸ，Ｙ方向ステージ１３および
１２の各駆動シャフト１４が鉛直方向に対し４５°傾斜
しているため、ステージ９はその自重により駆動シャフ
ト１４に密着し、遊びによる位置ずれを生じない。
【０００６】図２は本発明の他の実施例の分解斜視図で
ある。動作は前記実施例と同じであるが、２枚のミラー
１１を用い、光路をコの字型に折り曲げることによって
装置床面積の増大を防いでいる。
ある。動作は前記実施例と同じであるが、２枚のミラー
１１を用い、光路をコの字型に折り曲げることによって
装置床面積の増大を防いでいる。
【０００７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、光学系
及びステージを鉛直方向に対し直角方向に配列し、レチ
クルマスク、縮小投影レンズ、ウェハ、ステージの各表
面が鉛直方向に対して平行になるように配置することに
より、ごみの付着を軽減できるという効果を有する。ま
た、ステージと駆動シャフトの遊びをなくすことによっ
て、それを補正する機構が不要となるという効果を有す
る。
及びステージを鉛直方向に対し直角方向に配列し、レチ
クルマスク、縮小投影レンズ、ウェハ、ステージの各表
面が鉛直方向に対して平行になるように配置することに
より、ごみの付着を軽減できるという効果を有する。ま
た、ステージと駆動シャフトの遊びをなくすことによっ
て、それを補正する機構が不要となるという効果を有す
る。
【図１】本発明の一実施例の分解斜視図である。
【図２】本発明の他の実施例の分解斜視図である。
【図３】従来の露光装置の分解斜視図である。
１ 水銀ランプ ２ 楕円ミラー ３ シャッタ ４ フライアイインテグレータ ５ コンデンサレンズ ６ レチクルマスク ７ 縮小投影レンズ ８ ウェハ ９ ステージ １０ ダイクロイックミラー １１ ミラー １２ Ｙ方向ステージ １３ Ｘ方向ステージ １４ 駆動シャフト
Claims (1)
- 【請求項１】 リソグラフィ技術に用いられる半導体製
造装置において、その光学系及びステージが鉛直方向に
対し直角方向に並ぶように配列され、レチクルマスク、
縮小投影レンズ、ウェハ、ステージの各表面が鉛直方向
に対して平行になるように配置され、ステージを駆動さ
せるＸ及びＹ方向ステージの各シャフトが鉛直方向に対
して４５°の傾斜を持って配置されていることを特徴と
する半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3120626A JP2665073B2 (ja) | 1991-05-27 | 1991-05-27 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3120626A JP2665073B2 (ja) | 1991-05-27 | 1991-05-27 | 半導体製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0582412A true JPH0582412A (ja) | 1993-04-02 |
| JP2665073B2 JP2665073B2 (ja) | 1997-10-22 |
Family
ID=14790885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3120626A Expired - Fee Related JP2665073B2 (ja) | 1991-05-27 | 1991-05-27 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2665073B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07222557A (ja) * | 1994-02-08 | 1995-08-22 | Shizuji Katano | ゲル状食品及びゾル状食品 |
-
1991
- 1991-05-27 JP JP3120626A patent/JP2665073B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07222557A (ja) * | 1994-02-08 | 1995-08-22 | Shizuji Katano | ゲル状食品及びゾル状食品 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2665073B2 (ja) | 1997-10-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970610 |
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