JPH057688B2 - - Google Patents
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- JPH057688B2 JPH057688B2 JP57046085A JP4608582A JPH057688B2 JP H057688 B2 JPH057688 B2 JP H057688B2 JP 57046085 A JP57046085 A JP 57046085A JP 4608582 A JP4608582 A JP 4608582A JP H057688 B2 JPH057688 B2 JP H057688B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
- G01J1/0407—Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings
- G01J1/0448—Adjustable, e.g. focussing
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/0204—Compact construction
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は撮影用又は結像用レンズが被写体を所
定の結像面に鮮明に結像する合焦状態にあるか否
かを精度良く検出し得る光センサに関するもので
ある。
定の結像面に鮮明に結像する合焦状態にあるか否
かを精度良く検出し得る光センサに関するもので
ある。
一般に、カメラ、テレビカメラあるいは内視鏡
等の光学機器を用いて、被写体あるいは被検体を
光学的に鮮明に観察あるいは撮影する場合、結像
(撮影)レンズ系を調節して合焦位置に設定しな
ければならないことがしばしばある。この場合結
像レンズ系が合焦位置にあるか否か、つまり被写
体が結像面に鮮明に結像されているか否かを検出
する手段として、光電変換機能を有する光センサ
が広く用いられている。
等の光学機器を用いて、被写体あるいは被検体を
光学的に鮮明に観察あるいは撮影する場合、結像
(撮影)レンズ系を調節して合焦位置に設定しな
ければならないことがしばしばある。この場合結
像レンズ系が合焦位置にあるか否か、つまり被写
体が結像面に鮮明に結像されているか否かを検出
する手段として、光電変換機能を有する光センサ
が広く用いられている。
例えば、特開昭56−128923号公報に開示されて
いるようにスプリツトプリズムを使用する手段に
おいては、少なくとも上下各2個以上の微小な光
センサを必要とし、一定レベル以上の精度を必要
とする場合には、前記光センサを多数配設すると
共に、それらの出力信号を比較して合焦点である
か否かを検出する回路系が複雑となり、特に生産
数の少ない製品においては、高価となるという問
題がある。
いるようにスプリツトプリズムを使用する手段に
おいては、少なくとも上下各2個以上の微小な光
センサを必要とし、一定レベル以上の精度を必要
とする場合には、前記光センサを多数配設すると
共に、それらの出力信号を比較して合焦点である
か否かを検出する回路系が複雑となり、特に生産
数の少ない製品においては、高価となるという問
題がある。
さらに特開昭56−125713号公報に開示されてい
るように、光源を点滅して被写体に投光し、消灯
区間における出力信号を点灯区間における出力信
号から差し引くことにより、上記光源以外の外光
の影響を軽減し、被写体が暗い場合、及び暗い撮
影光学系の場合においても、合焦か否かを検出で
きる合焦検出装置があるが、構成が複雑となるた
め、この装置を設けた装置が高価になるという問
題がある。
るように、光源を点滅して被写体に投光し、消灯
区間における出力信号を点灯区間における出力信
号から差し引くことにより、上記光源以外の外光
の影響を軽減し、被写体が暗い場合、及び暗い撮
影光学系の場合においても、合焦か否かを検出で
きる合焦検出装置があるが、構成が複雑となるた
め、この装置を設けた装置が高価になるという問
題がある。
本発明は上述した点にかんがみてなされたもの
で、被写体側に投光する開口部を受光面に形成し
た光センサにおいて、開口部に発光部を該発光部
の前端が受光面と略等しくするか突出させて側部
に遮光部材を形成して配設したり、発光部を開口
部の内側に設ける場合には開口部側壁に遮光部材
を配設することにより、暗電流成分を少なくして
合焦状態を精度良く検出し得る光センサを提供す
ることを目的とする。
で、被写体側に投光する開口部を受光面に形成し
た光センサにおいて、開口部に発光部を該発光部
の前端が受光面と略等しくするか突出させて側部
に遮光部材を形成して配設したり、発光部を開口
部の内側に設ける場合には開口部側壁に遮光部材
を配設することにより、暗電流成分を少なくして
合焦状態を精度良く検出し得る光センサを提供す
ることを目的とする。
以下、本発明を具体的に説明する。
第1図は本発明の第1実施例を示す。同図にお
いて、撮影用又は結像用レンズ1は被写体2を図
示しないフイルム面等所定の(位置の)結像面に
結像するよう構成されており、上記所定の結像面
と共役となる光軸3上の位置4には第1実施例の
光センサ5が配設されている。
いて、撮影用又は結像用レンズ1は被写体2を図
示しないフイルム面等所定の(位置の)結像面に
結像するよう構成されており、上記所定の結像面
と共役となる光軸3上の位置4には第1実施例の
光センサ5が配設されている。
上記光センサ5は板状のN形半導体6の上に薄
いP形半導体7層が形成され、このPN接合面に
はリード線8,8を介して電池9及び抵抗10の
直列回路が接続され、上記電池9によつてP形半
導体7層側が負となるように逆方向にバイアスさ
れており、上記PN接合面に光が入射されると、
その光量に応じてPN接合面間に光電流が流れ、
その光量は抵抗10両端の電圧を測定することに
より(又は抵抗10を流れる電流自体を測定して
も良い。)、合焦か否かを検出できるように構成さ
れている。
いP形半導体7層が形成され、このPN接合面に
はリード線8,8を介して電池9及び抵抗10の
直列回路が接続され、上記電池9によつてP形半
導体7層側が負となるように逆方向にバイアスさ
れており、上記PN接合面に光が入射されると、
その光量に応じてPN接合面間に光電流が流れ、
その光量は抵抗10両端の電圧を測定することに
より(又は抵抗10を流れる電流自体を測定して
も良い。)、合焦か否かを検出できるように構成さ
れている。
上記PN接合面の中央には透孔11が形成さ
れ、この透孔11には被写体2側に合焦検出用に
投光するためのLED等の発光部材12が嵌入す
るように埋設してある。
れ、この透孔11には被写体2側に合焦検出用に
投光するためのLED等の発光部材12が嵌入す
るように埋設してある。
上記発光部材12の(発光する発光部分の)前
端は受光面の先端面と面一か、又は受光面の前端
面より突出するよう形成され、又、発光部材12
の側部は絶縁性の遮光部材14で形成されてい
て、発光部材12から発光された光が直接受光面
側に漏れないように構成されている。
端は受光面の先端面と面一か、又は受光面の前端
面より突出するよう形成され、又、発光部材12
の側部は絶縁性の遮光部材14で形成されてい
て、発光部材12から発光された光が直接受光面
側に漏れないように構成されている。
上記発光部材12を透孔11に埋設したN形半
導体6板(層)の裏面は接着剤等で遮光を兼ねる
基板13に取り付けられている。上記基板13は
N形半導体6層を厚くすれば遮光膜を塗布したも
のでも代用できる。
導体6板(層)の裏面は接着剤等で遮光を兼ねる
基板13に取り付けられている。上記基板13は
N形半導体6層を厚くすれば遮光膜を塗布したも
のでも代用できる。
このように構成された第1実施例の光センサ5
の動作は次のようになる。
の動作は次のようになる。
上記のように配設された光学系において、図示
しないリード線等で供給された電力により、発光
部材12は発光し、この光は発光部材12前端か
らレンズ1を経て被写体2側に投光される。
しないリード線等で供給された電力により、発光
部材12は発光し、この光は発光部材12前端か
らレンズ1を経て被写体2側に投光される。
被写体2に投光された光は、その一部が該被写
体2で反射されて再びレンズ1を経て光センサ5
側に戻る。この場合被写体2に対してレンズ1が
合焦状態又は合焦位置Xoにあれば、上記の反射
光の結像位置は細い実線で示すように所定の結像
面と共役な位置4となるので、PN結合で形成さ
れた受光面には光が届かず、光センサ5のP形半
導体7及びN形半導体6間には殆ど電流が流れ
ず、暗電流成分のみとなるので、この時の抵抗1
0両端の出力端の電圧Voは第2図に示すように
殆ど零となる。
体2で反射されて再びレンズ1を経て光センサ5
側に戻る。この場合被写体2に対してレンズ1が
合焦状態又は合焦位置Xoにあれば、上記の反射
光の結像位置は細い実線で示すように所定の結像
面と共役な位置4となるので、PN結合で形成さ
れた受光面には光が届かず、光センサ5のP形半
導体7及びN形半導体6間には殆ど電流が流れ
ず、暗電流成分のみとなるので、この時の抵抗1
0両端の出力端の電圧Voは第2図に示すように
殆ど零となる。
一方、上記被写体2に対し、例えばレンズ1が
符号1′で示すように合焦位置Xoから前方(図示
では左方向)にずれている場合(その位置を
X′で示す)には、被写体2で反射された光は受
光面より前方の位置ですでに収束点となり、その
後拡開するので、拡開した光が受光面に達するこ
とになる。従つて、光センサ5のP形半導体7層
及びN形半導体6間には上記受光面に入射された
光量に応じた光電流が流れることになる。
符号1′で示すように合焦位置Xoから前方(図示
では左方向)にずれている場合(その位置を
X′で示す)には、被写体2で反射された光は受
光面より前方の位置ですでに収束点となり、その
後拡開するので、拡開した光が受光面に達するこ
とになる。従つて、光センサ5のP形半導体7層
及びN形半導体6間には上記受光面に入射された
光量に応じた光電流が流れることになる。
従つて、第2図に示すように上記合焦位置Xo
より、はるかに大きな出力電圧V′となる。
より、はるかに大きな出力電圧V′となる。
上記とは逆にレンズ1が合焦位置から後方にず
れた場合には、集光点は受光面より後方位置とな
るので、この場合にも受光面に光が届き、その光
量に応じた光電流が流れることとなる。
れた場合には、集光点は受光面より後方位置とな
るので、この場合にも受光面に光が届き、その光
量に応じた光電流が流れることとなる。
従つて、第2図に示すように合焦位置Xoの時、
光センサ5の出力端間は暗電流と呼ばれる最小
(極小)の光電流値における出力電圧Voとなり、
この合焦状態からずれると、受光面を照らす光量
に応じた(暗電流値より大きい)電流が流れ、抵
抗10両端には合焦状態から前後にわずかにずれ
た場合にも合焦状態における出力電圧Voより、
はるかに大きな出力電圧が出力されることとな
る。
光センサ5の出力端間は暗電流と呼ばれる最小
(極小)の光電流値における出力電圧Voとなり、
この合焦状態からずれると、受光面を照らす光量
に応じた(暗電流値より大きい)電流が流れ、抵
抗10両端には合焦状態から前後にわずかにずれ
た場合にも合焦状態における出力電圧Voより、
はるかに大きな出力電圧が出力されることとな
る。
このように発光部材12が受光面の前端部と等
しいか又は前方に突出して側部に遮光部材14を
形成してあるので、被写体2側に投光される以前
に受光面に光が漏れて暗電流成分を嵩上げして合
焦状態か否かの検出を困難にする原因を解消して
ある。従つて合焦検出を精度よく行うことができ
る。
しいか又は前方に突出して側部に遮光部材14を
形成してあるので、被写体2側に投光される以前
に受光面に光が漏れて暗電流成分を嵩上げして合
焦状態か否かの検出を困難にする原因を解消して
ある。従つて合焦検出を精度よく行うことができ
る。
第3図は第2実施例を示す。
同図において、第2実施例の光センサ21は、
N形半導体6板に薄いP形半導体7層を形成した
PN接合面の中央にはN形半導体6板側に拡開す
る透孔22がN形半導体6板側をエツチング面と
してエツチング処理等によつて形成されている。
この透孔22側周面には絶縁膜(図示略)を塗布
してPN接合面の短絡を防止して、又は透孔22
側周面に露呈する部分がN形半導体6板のみとな
るよう形成し、透孔22側周面及びN形半導体6
板裏面には金属を蒸着等して形成した遮光膜23
が形成されている。
N形半導体6板に薄いP形半導体7層を形成した
PN接合面の中央にはN形半導体6板側に拡開す
る透孔22がN形半導体6板側をエツチング面と
してエツチング処理等によつて形成されている。
この透孔22側周面には絶縁膜(図示略)を塗布
してPN接合面の短絡を防止して、又は透孔22
側周面に露呈する部分がN形半導体6板のみとな
るよう形成し、透孔22側周面及びN形半導体6
板裏面には金属を蒸着等して形成した遮光膜23
が形成されている。
上記N形半導体6板は遮光膜23を設けた裏面
側を遮光を兼ねる基板25に接着剤等で取付けら
れている。
側を遮光を兼ねる基板25に接着剤等で取付けら
れている。
上記側周面に遮光膜23を設けた透孔22の内
側の基板25上にはLED等の発光部材12が収
容されている。
側の基板25上にはLED等の発光部材12が収
容されている。
このように構成された光センサ21において
は、透孔22を形成したPN接合素子の取り付け
基板25に発光部材12を収容し、この発光部材
12の光が被写体2に投光される際、直接発光部
材12から受光面にもれて暗電流成分が大きくな
らないように、透孔22側周面を覆うように金属
蒸着等による遮光膜23が形成されている。
は、透孔22を形成したPN接合素子の取り付け
基板25に発光部材12を収容し、この発光部材
12の光が被写体2に投光される際、直接発光部
材12から受光面にもれて暗電流成分が大きくな
らないように、透孔22側周面を覆うように金属
蒸着等による遮光膜23が形成されている。
この第2実施例の動作は、第1実施例とほぼ同
様となる。従つて第1実施例と同様に合焦検出を
精度良く行うことができる。
様となる。従つて第1実施例と同様に合焦検出を
精度良く行うことができる。
この第2実施例において、透孔22は受光面と
なる前面側の径が後端側より小さく形成されてい
るのは、合焦点を精度良く検出するためのもので
あつて、第1実施例の場合よりも合焦検出する場
合の精度を向上できる可能性を有する。第1実施
例のようにPN接合素子の前面と裏面側との径を
等しくする実施例も本発明の範疇に入るものであ
る。
なる前面側の径が後端側より小さく形成されてい
るのは、合焦点を精度良く検出するためのもので
あつて、第1実施例の場合よりも合焦検出する場
合の精度を向上できる可能性を有する。第1実施
例のようにPN接合素子の前面と裏面側との径を
等しくする実施例も本発明の範疇に入るものであ
る。
尚、上記第2実施例における遮光膜23として
は、金属の蒸着によるものでなく、遮光塗料を塗
布しても良い。この場合、絶縁性塗料であれば、
透孔22側部にP形半導体7及びN形半導体6が
露呈している場合にも直接塗布できることにな
る。
は、金属の蒸着によるものでなく、遮光塗料を塗
布しても良い。この場合、絶縁性塗料であれば、
透孔22側部にP形半導体7及びN形半導体6が
露呈している場合にも直接塗布できることにな
る。
以上述べた各実施例において、透孔11,22
の形状は円状又は角状等あるいはスリツト状等で
も良い。
の形状は円状又は角状等あるいはスリツト状等で
も良い。
尚、本発明は暗い被写体2に対しては、合焦検
出を行う場合発光部材12から被写体2側に投光
し、該被写体2側に反射された光を光センサ5,
21で受光し、受光面に届く光量を測定すること
により、合焦検出を行うことができるのみに限ら
ず、明るい被写体2に対しては発光部材12から
投光しないで(もちろん投光して上述のように合
焦検出を行つても良い)、被写体2周囲の外光を
用い、その光が受光面に届く光量を測定して合焦
検出を行つても良い。
出を行う場合発光部材12から被写体2側に投光
し、該被写体2側に反射された光を光センサ5,
21で受光し、受光面に届く光量を測定すること
により、合焦検出を行うことができるのみに限ら
ず、明るい被写体2に対しては発光部材12から
投光しないで(もちろん投光して上述のように合
焦検出を行つても良い)、被写体2周囲の外光を
用い、その光が受光面に届く光量を測定して合焦
検出を行つても良い。
又、発光部材12から被写体2側に投光を行つ
て合焦か否かを検出する場合には、可視領域の
LEDの発光素子でも良いし、可視領域以外、例
えば赤外領域の発光素子を用いれば、暗電流成分
の原因になる一部の外光の影響を軽減できてより
有利である。
て合焦か否かを検出する場合には、可視領域の
LEDの発光素子でも良いし、可視領域以外、例
えば赤外領域の発光素子を用いれば、暗電流成分
の原因になる一部の外光の影響を軽減できてより
有利である。
この場合受光する光センサ5,21として、上
記の波長の光に対する感光特性の優れたものが望
ましいことは当然である。
記の波長の光に対する感光特性の優れたものが望
ましいことは当然である。
又、上述における各実施例において、PN接合
面によつて受光面が形成してあるが、この例に限
らず三極構造のフオトトランジスタ又はCdS,
CdSe等照射される光によつて抵抗値の異る光半
導体ならば本発明に適用できる。
面によつて受光面が形成してあるが、この例に限
らず三極構造のフオトトランジスタ又はCdS,
CdSe等照射される光によつて抵抗値の異る光半
導体ならば本発明に適用できる。
尚、発光部材12を発光させる場合、特定の周
波数でパルス状に発光させ、受光する側でその周
波数成分のみを取り出すように交流結合とすれ
ば、外光による影響を軽減できる。
波数でパルス状に発光させ、受光する側でその周
波数成分のみを取り出すように交流結合とすれ
ば、外光による影響を軽減できる。
以上述べたように本発明によれば、合焦検出用
発光部材を受光面に形成した孔部に、発光部材の
発光部が受光面に等しいか若しくは前方に突出さ
せて側部に遮光部材を形成して配設するか、孔部
内側に発光部材を配設するようにしてあるので、
発光部材からの光が直接受光面に漏れることが防
止されて、暗電流成分を少なくし、合焦検出を精
度良く行うことができるという利点を有する。
発光部材を受光面に形成した孔部に、発光部材の
発光部が受光面に等しいか若しくは前方に突出さ
せて側部に遮光部材を形成して配設するか、孔部
内側に発光部材を配設するようにしてあるので、
発光部材からの光が直接受光面に漏れることが防
止されて、暗電流成分を少なくし、合焦検出を精
度良く行うことができるという利点を有する。
第1図及び第2図は本発明に係り、第1図は第
1実施例を示す説明図、第2図は第1実施例を用
いて合焦検出する際のレンズの位置とその場合に
おける出力特性を示す特性図、第3図は第2実施
例を示す説明図である。 1……レンズ、2……被写体、3……光軸、
5,21……光センサ、6……N形半導体、7…
…P形半導体、10……抵抗、11,22……透
孔、12……発光部材、13,25……基板、2
3……遮光膜。
1実施例を示す説明図、第2図は第1実施例を用
いて合焦検出する際のレンズの位置とその場合に
おける出力特性を示す特性図、第3図は第2実施
例を示す説明図である。 1……レンズ、2……被写体、3……光軸、
5,21……光センサ、6……N形半導体、7…
…P形半導体、10……抵抗、11,22……透
孔、12……発光部材、13,25……基板、2
3……遮光膜。
Claims (1)
- 1 撮影用又は結像用レンズによつて、被写体の
光学像が所定の結像面に鮮明に結像されるか否か
を、被写体側から孔部を設けた受光面に届く光量
によつて検出する場合に用いられる光センサにお
いて、発光部材の発光部が受光面と同一側に面す
るように、受光面に等しいか若しくは突出して側
部に遮光部材を形成した前記発光部材の発光部を
前記孔部に配設するか、又は側周面に遮光部材を
形成した孔部内側に前記発光部材の発光部を配設
することにより、前記発光部材の光が直接受光面
に漏れないようにしたことを特徴とする光セン
サ。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4608582A JPS58162833A (ja) | 1982-03-23 | 1982-03-23 | 光センサ |
US06/475,292 US4556787A (en) | 1982-03-23 | 1983-03-14 | Photosensor for optical observing or photographing devices |
AT83301507T ATE16858T1 (de) | 1982-03-23 | 1983-03-18 | Einrichtung zur scharfstellung. |
DE8383301507T DE3361379D1 (en) | 1982-03-23 | 1983-03-18 | Focus state detecting device |
EP83301507A EP0089822B1 (en) | 1982-03-23 | 1983-03-18 | Focus state detecting device |
Applications Claiming Priority (1)
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JP4608582A JPS58162833A (ja) | 1982-03-23 | 1982-03-23 | 光センサ |
Publications (2)
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JPS58162833A JPS58162833A (ja) | 1983-09-27 |
JPH057688B2 true JPH057688B2 (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=12737145
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP4608582A Granted JPS58162833A (ja) | 1982-03-23 | 1982-03-23 | 光センサ |
Country Status (1)
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JP (1) | JPS58162833A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010127694A (ja) * | 2008-11-26 | 2010-06-10 | Rarugo:Kk | 太陽電池を応用した糖度計及び農作物の収穫用の工具並びに音声録音装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50147342A (ja) * | 1974-05-15 | 1975-11-26 | ||
JPS5286345A (en) * | 1976-01-13 | 1977-07-18 | Yamakawa Denshi Kk | Projector and light receiver |
JPS542104A (en) * | 1977-06-07 | 1979-01-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Face run-out detector of rotating bodies |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS472144U (ja) * | 1971-01-23 | 1972-08-24 |
-
1982
- 1982-03-23 JP JP4608582A patent/JPS58162833A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50147342A (ja) * | 1974-05-15 | 1975-11-26 | ||
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JPS542104A (en) * | 1977-06-07 | 1979-01-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Face run-out detector of rotating bodies |
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JP2010127694A (ja) * | 2008-11-26 | 2010-06-10 | Rarugo:Kk | 太陽電池を応用した糖度計及び農作物の収穫用の工具並びに音声録音装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58162833A (ja) | 1983-09-27 |
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