JPH0572396B2 - - Google Patents
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Description
発明の目的
チエナマイシンで代表されるカルバペネム誘導
体は強い抗菌活性を示すことが知られており、チ
エナマイシンが単離されて以来カルバペネム誘導
体の全合成が種々試みられている。これらの全合
成の一つの重要な工程は、6位水酸基の保護方法
である。従来はその保護基としてトリメチルシリ
ル基、t−ブチルジメチルシリル基、もしくは4
−ニトリベンジルオキシカルボニル基が用いられ
ている。しかしトリメチルシリル基は脱離しやす
く反応によつては水酸基の保護基としては適当で
はない。t−ブチルジメチルシリル基は高価であ
り実用性に乏しい。4−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル基は高価であることと脱保護は接触還元
法によらなければならず操作が煩雑である。そこ
で本発明者等は、t−ブチルジメチルシリル基程
度の安定性を有しかつカルバペネム誘導体の合成
において実用性を有する水酸基の保護基としての
シリル誘導体見出すべく鋭意努力した。その結果
所期の目的を達成するシリル誘導体を見出し本発
明を完成した。 発明の構成 本発明はヒドロキシエチル基を有する一般式(1)
を有するアゼチジノン誘導体に関するものであ
る。 本発明は一般式
体は強い抗菌活性を示すことが知られており、チ
エナマイシンが単離されて以来カルバペネム誘導
体の全合成が種々試みられている。これらの全合
成の一つの重要な工程は、6位水酸基の保護方法
である。従来はその保護基としてトリメチルシリ
ル基、t−ブチルジメチルシリル基、もしくは4
−ニトリベンジルオキシカルボニル基が用いられ
ている。しかしトリメチルシリル基は脱離しやす
く反応によつては水酸基の保護基としては適当で
はない。t−ブチルジメチルシリル基は高価であ
り実用性に乏しい。4−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル基は高価であることと脱保護は接触還元
法によらなければならず操作が煩雑である。そこ
で本発明者等は、t−ブチルジメチルシリル基程
度の安定性を有しかつカルバペネム誘導体の合成
において実用性を有する水酸基の保護基としての
シリル誘導体見出すべく鋭意努力した。その結果
所期の目的を達成するシリル誘導体を見出し本発
明を完成した。 発明の構成 本発明はヒドロキシエチル基を有する一般式(1)
を有するアゼチジノン誘導体に関するものであ
る。 本発明は一般式
【化】
を有する化合物である。一般式(1)におけるR1は
水素原子、トリアルキルシリル基−SiR8R9R10
[式中R8,R9,R10は同一もしくは異なるC1〜C4
のアルキル基を、たとえばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、もしくはt−ブチ
ルを示す。]、
水素原子、トリアルキルシリル基−SiR8R9R10
[式中R8,R9,R10は同一もしくは異なるC1〜C4
のアルキル基を、たとえばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、もしくはt−ブチ
ルを示す。]、
【式】基、
【式】基(式中R5はC1〜C4のアルキ
ル基を、たとえばメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチルもしくはt−ブチルを示す。
もしくはアラルキル基を、たとえばベンジル、4
−ニトリベンジル基を示す)、またはアルコキシ
置換フエニル基(たとえばメトキシフエニル、エ
トキシフエニル)を示す。 R2,R3は同一もしくは異なつてアルキル基
(C1〜C4のアルキル基を、たとえばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチルもしくはt
−ブチルを示す。)、アリール基(C6〜C10のアリ
ール基を、たとえばフエニル、もしくはナフチル
を示す。)、またはシクロアルキル基(C3〜C6の
シクロアルキル基を、たとえばシクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、もしくはシクロ
ヘキシルを示す。)を示す。 R4は、−OCOR6基(式中、R6はC1〜C4のアル
キル基を、たとえばメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチルもしくはt−ブチルを示
す。)、−SO2R7基(式中、R7はC1〜C4のアルキル
基を、たとえばメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチルもしくはt−ブチルを示す。も
しくはC6〜C10のアリール基を、たとえばフエニ
ル、もしくはナフチルを示す。)を示す。 一般式(1)を有する化合物は、種々の異性体が存
在するが一般式(1)は、その一つもしくは異性体の
混合物を示す。 一般式(1)を有する好適化合物は、R1が水素原
子、アルコキシ置換フエニル基、トリアルキルシ
リル基−SiR8R9R10(式中R8,R9,R10は同一も
しくは異なるC1〜C4のアルキル基を示す。)、
ソプロピル、ブチルもしくはt−ブチルを示す。
もしくはアラルキル基を、たとえばベンジル、4
−ニトリベンジル基を示す)、またはアルコキシ
置換フエニル基(たとえばメトキシフエニル、エ
トキシフエニル)を示す。 R2,R3は同一もしくは異なつてアルキル基
(C1〜C4のアルキル基を、たとえばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチルもしくはt
−ブチルを示す。)、アリール基(C6〜C10のアリ
ール基を、たとえばフエニル、もしくはナフチル
を示す。)、またはシクロアルキル基(C3〜C6の
シクロアルキル基を、たとえばシクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、もしくはシクロ
ヘキシルを示す。)を示す。 R4は、−OCOR6基(式中、R6はC1〜C4のアル
キル基を、たとえばメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチルもしくはt−ブチルを示
す。)、−SO2R7基(式中、R7はC1〜C4のアルキル
基を、たとえばメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチルもしくはt−ブチルを示す。も
しくはC6〜C10のアリール基を、たとえばフエニ
ル、もしくはナフチルを示す。)を示す。 一般式(1)を有する化合物は、種々の異性体が存
在するが一般式(1)は、その一つもしくは異性体の
混合物を示す。 一般式(1)を有する好適化合物は、R1が水素原
子、アルコキシ置換フエニル基、トリアルキルシ
リル基−SiR8R9R10(式中R8,R9,R10は同一も
しくは異なるC1〜C4のアルキル基を示す。)、
【式】基、
【式】基
(式中R5はメチル基、エチル基、4−ニトロベン
ジル基を示す。) R2,R3がC1〜C4のアルキル基、フエニル基、
もしくはシクロアルキル基を示す。 R4が−OCOR6基(式中R6はC1〜C4のアルキル
基を示す。)、−SO2R7基(式中R7はC1〜C4のアル
キル基もしくはフエニル基を示す。)である。 第1表に好適化合物を具体的に例示する。
ジル基を示す。) R2,R3がC1〜C4のアルキル基、フエニル基、
もしくはシクロアルキル基を示す。 R4が−OCOR6基(式中R6はC1〜C4のアルキル
基を示す。)、−SO2R7基(式中R7はC1〜C4のアル
キル基もしくはフエニル基を示す。)である。 第1表に好適化合物を具体的に例示する。
【表】
なお表中
PNB:4−ニトロベンジル基
Et:エチル基
Bu:ブチル基
But:トリメチルシリル基
を示す。
一般式(1)を有する化合物はA,BもしくはC法
により合成することができる。 A法
により合成することができる。 A法
【化】
式中R1,R2,R3,R4は、前述したものと同意
義を示し、R2R3SiX2におけるXはハロゲン原子
(塩素もしくは臭素を示す。)を示す。 化合物(2)を溶媒(アセトニトリル、塩化メチレ
ン、クロロホルム、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、酢酸エチ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチル
エーテル、ベンゼン、またはトルエン)に溶かし
1〜1.5当量(化合物(2)とシリルハライドとの反
応で生じる酸を中和する量もしくはそれより少過
剰)の塩基(トリエチルアミン、トリプロピルア
ミン、トリブチルアミン、イミダゾールもしくは
1,5−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−
5などの有機塩基、または炭酸カリ、炭酸ナトリ
ウム、炭酸水素カリ、もしくは炭酸水素ナトリウ
ムなどの無機塩基)の存在下。−20°〜100℃で数
分〜30時間反応させる。反応液を常法に従つて処
理することによつて目的化合物(1)が得られる。 B法
義を示し、R2R3SiX2におけるXはハロゲン原子
(塩素もしくは臭素を示す。)を示す。 化合物(2)を溶媒(アセトニトリル、塩化メチレ
ン、クロロホルム、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、酢酸エチ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチル
エーテル、ベンゼン、またはトルエン)に溶かし
1〜1.5当量(化合物(2)とシリルハライドとの反
応で生じる酸を中和する量もしくはそれより少過
剰)の塩基(トリエチルアミン、トリプロピルア
ミン、トリブチルアミン、イミダゾールもしくは
1,5−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−
5などの有機塩基、または炭酸カリ、炭酸ナトリ
ウム、炭酸水素カリ、もしくは炭酸水素ナトリウ
ムなどの無機塩基)の存在下。−20°〜100℃で数
分〜30時間反応させる。反応液を常法に従つて処
理することによつて目的化合物(1)が得られる。 B法
【化】
【化】
式中R1,R2,R3,R4,R5,R6は前述したもの
と同意義を、R11はアルキル基(メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、もしくは
t−ブチルを示す。)、もしくは置換されていても
よいフエニル基(フエニル、トリルもしくはメト
キシフエニルを示す。)を示す。B法は、A法に
準じた方法によつて得られる化合物(3)を出発物質
として一般式(1)を有する化合物(4)〜(6)を得ること
ができる。 化合物(4)の製法 化合物(3)の溶媒(たとえば塩化メチレン、クロ
ロホルム、メタノール、エタノール、もしくは酢
酸)に溶かし1〜1.5当量の過酸(たとえば3−
クロル過安息香酸、過酢酸、もしくは過トリフル
オロ酢酸など)を溶媒(前述したものと同意義を
示す)に溶かし0℃〜50℃、好適には氷冷下で加
え、当該温度で1時間〜10時間攪拌する。反応液
を常法に従つて処理すると化合物(4)が得られる。
または化合物(3)を溶媒(たとえば酢酸、アセトニ
トリル、メタノール、もしくはエタノール、また
は塩化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、もし
くはトルエンなど、なお水に不溶性の塩化メチレ
ンなどを使用する場合は相関移動触媒、四級アン
モニウム塩、たとえばテトラブチルアンモニウム
ブロマイド、もしくはジベンジルエチルアンモニ
ウムブロマイドなどを用いる。)に溶かし1〜4
当量の過酸化水素水を0°〜50℃、好適には0°〜15
℃で加え室温で1〜10時間攪拌する。 反応液を常法に従つて処理すると化合物(4)が得
られる。 化合物(5)の製法 化合物(4)を溶媒(たとえばベンゼン、トルエ
ン、キシレン、テトラヒドロフラン、もしくはジ
オキサンなど)に溶かし1〜10当量のP(OR11)3
(式中R11は前述したものと同意義を示す。)と1
〜3当量のR6CO2H(式中R6は前述したものと同
意義を示す。)を加え、反応液を60〜150℃に1/2
〜10時間保つ、反応液を常法に従つて処理すると
化合物(6)が得られる。 化合物(6)の製法 化合物(5)を溶媒(たとえば塩化メチレン、クロ
ロホルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
エチルエーテル、メタノール、エタノール、アセ
トン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ベンゼン、もしくはトル
エンなど)に溶かし、触媒量〜5当量の塩基(た
とえば、トリエチルアミン、トリプロピルアミ
ン、トリブチルアミン、ピリジン、キノリン、も
しくはDBUなど)を加え0°〜100℃で数分〜20時
間反応させ、反応液を常法に従つて処理し化合物
(6)が得られる。 C法
と同意義を、R11はアルキル基(メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、もしくは
t−ブチルを示す。)、もしくは置換されていても
よいフエニル基(フエニル、トリルもしくはメト
キシフエニルを示す。)を示す。B法は、A法に
準じた方法によつて得られる化合物(3)を出発物質
として一般式(1)を有する化合物(4)〜(6)を得ること
ができる。 化合物(4)の製法 化合物(3)の溶媒(たとえば塩化メチレン、クロ
ロホルム、メタノール、エタノール、もしくは酢
酸)に溶かし1〜1.5当量の過酸(たとえば3−
クロル過安息香酸、過酢酸、もしくは過トリフル
オロ酢酸など)を溶媒(前述したものと同意義を
示す)に溶かし0℃〜50℃、好適には氷冷下で加
え、当該温度で1時間〜10時間攪拌する。反応液
を常法に従つて処理すると化合物(4)が得られる。
または化合物(3)を溶媒(たとえば酢酸、アセトニ
トリル、メタノール、もしくはエタノール、また
は塩化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、もし
くはトルエンなど、なお水に不溶性の塩化メチレ
ンなどを使用する場合は相関移動触媒、四級アン
モニウム塩、たとえばテトラブチルアンモニウム
ブロマイド、もしくはジベンジルエチルアンモニ
ウムブロマイドなどを用いる。)に溶かし1〜4
当量の過酸化水素水を0°〜50℃、好適には0°〜15
℃で加え室温で1〜10時間攪拌する。 反応液を常法に従つて処理すると化合物(4)が得
られる。 化合物(5)の製法 化合物(4)を溶媒(たとえばベンゼン、トルエ
ン、キシレン、テトラヒドロフラン、もしくはジ
オキサンなど)に溶かし1〜10当量のP(OR11)3
(式中R11は前述したものと同意義を示す。)と1
〜3当量のR6CO2H(式中R6は前述したものと同
意義を示す。)を加え、反応液を60〜150℃に1/2
〜10時間保つ、反応液を常法に従つて処理すると
化合物(6)が得られる。 化合物(6)の製法 化合物(5)を溶媒(たとえば塩化メチレン、クロ
ロホルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
エチルエーテル、メタノール、エタノール、アセ
トン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ベンゼン、もしくはトル
エンなど)に溶かし、触媒量〜5当量の塩基(た
とえば、トリエチルアミン、トリプロピルアミ
ン、トリブチルアミン、ピリジン、キノリン、も
しくはDBUなど)を加え0°〜100℃で数分〜20時
間反応させ、反応液を常法に従つて処理し化合物
(6)が得られる。 C法
【化】
式中R2,R3,R6,R7は前述したものと同意義
を示す。スルホニル体(7)をカルボン酸R6CO2Hの
ナトリウム塩と反応させると目的化合物(8)が得ら
れる。 本反応に使用する溶媒は酢酸エチル、t−ブタ
ノールがあげられる。 反応温度は0℃乃至50℃である。 反応時間は5乃至24時間である。 反応液を常法により処理すると目的化合物(8)が
得られる。 本発明によつて得られる一般式(1)を有する化合
物はt−ブチルジメチルシリル基を除去する方法
と同様の方法又はより緩和な条件により脱シリル
化を行うことができる。従つて、本発明によつて
得られる一般式(1)を有する化合物は、カルバペネ
ム、または、6位にヒドロキシエチル基を有する
ペネム誘導体の合成の重要中間体となる。たとえ
ば化合物(8)から以下の反応式に従つて化合物(1)は
カルバペネム誘導体へ導ける。
を示す。スルホニル体(7)をカルボン酸R6CO2Hの
ナトリウム塩と反応させると目的化合物(8)が得ら
れる。 本反応に使用する溶媒は酢酸エチル、t−ブタ
ノールがあげられる。 反応温度は0℃乃至50℃である。 反応時間は5乃至24時間である。 反応液を常法により処理すると目的化合物(8)が
得られる。 本発明によつて得られる一般式(1)を有する化合
物はt−ブチルジメチルシリル基を除去する方法
と同様の方法又はより緩和な条件により脱シリル
化を行うことができる。従つて、本発明によつて
得られる一般式(1)を有する化合物は、カルバペネ
ム、または、6位にヒドロキシエチル基を有する
ペネム誘導体の合成の重要中間体となる。たとえ
ば化合物(8)から以下の反応式に従つて化合物(1)は
カルバペネム誘導体へ導ける。
【化】
【化】
【化】
【化】
上記式中、
PNZは4−ニトロベンジルオキシカルボニル
基、PNBは4−ニトロベンジル基を表す。 以下に実施例および参考例をあげ本発明を具体
的に説明する。 実施例 1 ビス−[(1R)−1−[(3R,4R)−4−アセトキ
シ−1−(2−メチル−1−メチルオキシカル
ボニル−1−プロペニル)−2−アゼチジノン
−3−イル]エチルオキシ]ジフエニルシラン
基、PNBは4−ニトロベンジル基を表す。 以下に実施例および参考例をあげ本発明を具体
的に説明する。 実施例 1 ビス−[(1R)−1−[(3R,4R)−4−アセトキ
シ−1−(2−メチル−1−メチルオキシカル
ボニル−1−プロペニル)−2−アゼチジノン
−3−イル]エチルオキシ]ジフエニルシラン
【化】
(3R,4R)−4−アセトキシ−3−((1R)−1
−ヒドロキシエチル)−1−(2−メチル−1−メ
チルオキシカルボニル−1−プロペニル)−2−
アゼチジノン(8.56g)をアセトニトリル(45
ml)に溶かし、氷冷下、ジクロロジフエニルシラ
ン(4.38g)、ついでトリエチルアミン(3.68g)
を加え30分間攪拌する。反応液のアセトニトリル
を留去し残留物を酢酸エチルに溶かし、水洗、乾
燥(MgSO4)後、濃縮する。残留物をシリカゲ
ルクロマトグラフイー(ヘキサン/酢酸エチル
系)により精製すると目的物11.04gが得られた。 NMR(CDCl3)δppm:1.33(6H,d,J=
6Hz),1.85(6H,s),2.00(6H,s),2.17(6H,
s),3.25(2H,dd,J=6,1.5Hz),3.49(6H,
s),4.2−4.7(2H,m),6.18(2H,d,J=
1.5Hz),7.1−7.7(10H,m) 実施例 2 ビス−[(1R)−1−[(3S,4S)−1−(4−メト
キシフエニル)−4−フエニルスルホニル−2
−アゼチジノン−3−イル]エチルオキシ]ジ
フエニルシラン
−ヒドロキシエチル)−1−(2−メチル−1−メ
チルオキシカルボニル−1−プロペニル)−2−
アゼチジノン(8.56g)をアセトニトリル(45
ml)に溶かし、氷冷下、ジクロロジフエニルシラ
ン(4.38g)、ついでトリエチルアミン(3.68g)
を加え30分間攪拌する。反応液のアセトニトリル
を留去し残留物を酢酸エチルに溶かし、水洗、乾
燥(MgSO4)後、濃縮する。残留物をシリカゲ
ルクロマトグラフイー(ヘキサン/酢酸エチル
系)により精製すると目的物11.04gが得られた。 NMR(CDCl3)δppm:1.33(6H,d,J=
6Hz),1.85(6H,s),2.00(6H,s),2.17(6H,
s),3.25(2H,dd,J=6,1.5Hz),3.49(6H,
s),4.2−4.7(2H,m),6.18(2H,d,J=
1.5Hz),7.1−7.7(10H,m) 実施例 2 ビス−[(1R)−1−[(3S,4S)−1−(4−メト
キシフエニル)−4−フエニルスルホニル−2
−アゼチジノン−3−イル]エチルオキシ]ジ
フエニルシラン
【化】
(3S,4R)−3−((1R)−1−ヒドロキシエチ
ル)−1−(4−メトキシフエニル)−4−フエニ
ルスルホニル−2−アゼチジノン(1.81g)をア
セトニトリル(10ml)に溶かし、氷冷下、ジクロ
ロフエニルシラン(0.64g)、ついでトリエチル
アミン(0.5g)を加え室温で5時間攪拌する。
反応液を実施例1と同様に処理し得られる残留物
をシリカゲルクロマトグラフイー(シクロヘキサ
ン/酢酸エチル=4/1)により精製すると、目
的物(1.44g)が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:1.18(6H,d,J=
6.5Hz),3.55(2H,dd,J=2,3Hz),3.92
(6H,s),4.2−4.4(2H,m),5.40(2H,d,J
=2Hz),5.9−6.9(28H,m) 実施例 3 ビス−[(1R)−1−[(3S,4R)−4−フエニル
スルホニル−2−アゼチジノン−3−イル]エ
チルオキシ]ジフエニルシラン
ル)−1−(4−メトキシフエニル)−4−フエニ
ルスルホニル−2−アゼチジノン(1.81g)をア
セトニトリル(10ml)に溶かし、氷冷下、ジクロ
ロフエニルシラン(0.64g)、ついでトリエチル
アミン(0.5g)を加え室温で5時間攪拌する。
反応液を実施例1と同様に処理し得られる残留物
をシリカゲルクロマトグラフイー(シクロヘキサ
ン/酢酸エチル=4/1)により精製すると、目
的物(1.44g)が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:1.18(6H,d,J=
6.5Hz),3.55(2H,dd,J=2,3Hz),3.92
(6H,s),4.2−4.4(2H,m),5.40(2H,d,J
=2Hz),5.9−6.9(28H,m) 実施例 3 ビス−[(1R)−1−[(3S,4R)−4−フエニル
スルホニル−2−アゼチジノン−3−イル]エ
チルオキシ]ジフエニルシラン
【化】
(3S,4R)−3−((1R)−1−ヒドロキシエチ
ル)−4−フエニルスルホニル−2−アゼチジノ
ン(1.02g)をN,N−ジメチルホルムアミド
(10ml)に溶かし、室温下、ジクロロフエニルシ
ラン(557mg)、ついでイミダゾール(627mg)を
加え室温で30分間攪拌する。反応液を参考例4と
同様に処理して得られる残留物をシリカゲルクロ
マトグラフイー(ヘキサン/酢酸エチル系)によ
り精製すると目的物(1.18g)が粉末として得ら
れた。 NMR(CDCl3)δppm:0.97(6H,d,J=
6Hz),3.2−3.6(2H,m),4.2−4.6(2H,m),
4.87(2H,d,J=2Hz),7.0(2H,s),6.8−
8.0(20H,m) 実施例 4 ビス−[(1R)−1−[(3S,4RS)−4−アセト
キシ−1−((1R)−2−メチル−1−メチルオ
キシカルボニル−2−プロペニル)−2−アゼ
チジノン−3−イル]エチルオキシ]ジフエニ
ルシラン
ル)−4−フエニルスルホニル−2−アゼチジノ
ン(1.02g)をN,N−ジメチルホルムアミド
(10ml)に溶かし、室温下、ジクロロフエニルシ
ラン(557mg)、ついでイミダゾール(627mg)を
加え室温で30分間攪拌する。反応液を参考例4と
同様に処理して得られる残留物をシリカゲルクロ
マトグラフイー(ヘキサン/酢酸エチル系)によ
り精製すると目的物(1.18g)が粉末として得ら
れた。 NMR(CDCl3)δppm:0.97(6H,d,J=
6Hz),3.2−3.6(2H,m),4.2−4.6(2H,m),
4.87(2H,d,J=2Hz),7.0(2H,s),6.8−
8.0(20H,m) 実施例 4 ビス−[(1R)−1−[(3S,4RS)−4−アセト
キシ−1−((1R)−2−メチル−1−メチルオ
キシカルボニル−2−プロペニル)−2−アゼ
チジノン−3−イル]エチルオキシ]ジフエニ
ルシラン
【化】
ビス−[(1R)−1−((6S)−ペニシラン酸メチ
ルエステル−1−オキサイド−6−イル)エチル
オキシ]ジフエニルシラン(30g)をトルエン
(300ml)に溶かし、亜リン酸トリメチル(19.85
ml)、酢酸(7.04ml)を加え、2時間熱還流する。
反応液に酢酸エチルを加え、水、重曹水、飽和食
塩水、水の順で洗い、乾燥(MgSO4)、溶媒を留
去して得られる油状物をシリカゲルクロマトグラ
フイー(ヘキサン/酢酸エチル=2/1)により
精製すると目的物(18.17g)が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:1.2−1.7(6H,m),1.7
−1.9(9H,m),1.98(3H,s),3.1−3.5(2H,
m),3.58(3H,s),3.67(3H,s),4.2−5.2
(6H,m),6.2−6.7(2H,m),7.2−7.8(10H,
m) 実施例 5 ビス−[(1R)−1−[(3S,4RS)−4−アセト
キシ−1−((1R)−2−メチル−1−メチルオ
キシカルボニル−2−プロペニル)−2−アゼ
チジノン]エチルオキシ]ジフエニルシラン
ルエステル−1−オキサイド−6−イル)エチル
オキシ]ジフエニルシラン(30g)をトルエン
(300ml)に溶かし、亜リン酸トリメチル(19.85
ml)、酢酸(7.04ml)を加え、2時間熱還流する。
反応液に酢酸エチルを加え、水、重曹水、飽和食
塩水、水の順で洗い、乾燥(MgSO4)、溶媒を留
去して得られる油状物をシリカゲルクロマトグラ
フイー(ヘキサン/酢酸エチル=2/1)により
精製すると目的物(18.17g)が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:1.2−1.7(6H,m),1.7
−1.9(9H,m),1.98(3H,s),3.1−3.5(2H,
m),3.58(3H,s),3.67(3H,s),4.2−5.2
(6H,m),6.2−6.7(2H,m),7.2−7.8(10H,
m) 実施例 5 ビス−[(1R)−1−[(3S,4RS)−4−アセト
キシ−1−((1R)−2−メチル−1−メチルオ
キシカルボニル−2−プロペニル)−2−アゼ
チジノン]エチルオキシ]ジフエニルシラン
【化】
ビス−[(1R)−1−((3S,4RS)−4−アセト
キシ−1−((1R)−2−メチル−1−メチルオキ
シカルボニル−2−プロペニル)−2−アゼチジ
ノン−3−イル]エチルオキシ]ジフエニルシラ
ン(4.81g)を塩化メチレン(50ml)に溶かし、
トリエチルアミン(2.68ml)を加え、室温で1.5
時間攪拌する。反応液を飽和塩化アンモニウム水
で洗い、乾燥(MgSO4)、溶媒を留去すると目的
物(4.66g)が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:1.2−1.6(6H,m),1.8
−1.9(9H,m),2.02(3H,s),2.18(6H,s),
3.2−3.6(2H,m),3.51(3H,s),3.71(3H,
s),4.2−4.7(2H,m),6.1−6.3(2H,m),7.1
−7.7(10H,m) IRνKBr naxcm-1:1775,1755,1725,1630 なお実施例4と5は連続して行うことができ
る。すなわちビス−[(1R)−1−((6S)−ペニシ
ラン酸メチルエステル−1−オキサイド−6−イ
ル)エチルオキシ]ジフエニルシラン(14.53g)
をトルエン(145ml)に溶かし、亜リン酸トリメ
チル(9.39ml)、酢酸(3.42ml)を加え、2時間
加熱還流する。反応液を冷却し、トリエチルアミ
ン(11.1ml)を加え、70〜80℃に1時間加熱す
る。反応液に酢酸エチルを加え、重曹水、飽和食
塩水、水の順に洗い、乾燥(MgSO4)、溶媒を留
去した残留物をシリカゲルクロマトグラフイー
(ヘキサン/酢酸エチル=2/1)により精製す
ると目的物(10.83g)が得られた。 実施例 6 ビス−[(1R)−1−((3S,4RS)−4−アセト
キシ−1−(2−メチル−1−メチルオキシカ
ルボニル−2−プロペニル)−2−アゼチジノ
ン−3−イル]エチルオキシ]ジエチルシラン
キシ−1−((1R)−2−メチル−1−メチルオキ
シカルボニル−2−プロペニル)−2−アゼチジ
ノン−3−イル]エチルオキシ]ジフエニルシラ
ン(4.81g)を塩化メチレン(50ml)に溶かし、
トリエチルアミン(2.68ml)を加え、室温で1.5
時間攪拌する。反応液を飽和塩化アンモニウム水
で洗い、乾燥(MgSO4)、溶媒を留去すると目的
物(4.66g)が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:1.2−1.6(6H,m),1.8
−1.9(9H,m),2.02(3H,s),2.18(6H,s),
3.2−3.6(2H,m),3.51(3H,s),3.71(3H,
s),4.2−4.7(2H,m),6.1−6.3(2H,m),7.1
−7.7(10H,m) IRνKBr naxcm-1:1775,1755,1725,1630 なお実施例4と5は連続して行うことができ
る。すなわちビス−[(1R)−1−((6S)−ペニシ
ラン酸メチルエステル−1−オキサイド−6−イ
ル)エチルオキシ]ジフエニルシラン(14.53g)
をトルエン(145ml)に溶かし、亜リン酸トリメ
チル(9.39ml)、酢酸(3.42ml)を加え、2時間
加熱還流する。反応液を冷却し、トリエチルアミ
ン(11.1ml)を加え、70〜80℃に1時間加熱す
る。反応液に酢酸エチルを加え、重曹水、飽和食
塩水、水の順に洗い、乾燥(MgSO4)、溶媒を留
去した残留物をシリカゲルクロマトグラフイー
(ヘキサン/酢酸エチル=2/1)により精製す
ると目的物(10.83g)が得られた。 実施例 6 ビス−[(1R)−1−((3S,4RS)−4−アセト
キシ−1−(2−メチル−1−メチルオキシカ
ルボニル−2−プロペニル)−2−アゼチジノ
ン−3−イル]エチルオキシ]ジエチルシラン
【式】
ビス−[(1R)−1−((6S)−ペニシラン酸メチ
ルエステル−1−オキサイド−6−イル)エチル
オキシ]ジエチルシラン(16.11g)、亜リン酸ト
リメチル(11.98ml)、酢酸(4.36ml)、トルエン
(160ml)、トリエチルアミン(14.2ml)を用いて、
実施例5の連続法と同様に反応、処理すると目的
物(2.87g)が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:0.3−12(10H,m),1.2
−1.5(6H,m),1.9(6H,s),2.04(3.6H,s),
2.08(2.4H,s),2.20(6H,s),3.1−3.6(2H,
m),3.76(6H,s),4.1−4.7(2H,m),6.2−
6.5(2H,m) 実施例 7 ビス−[(1R)−1−[(3S,4RS)−4−アセト
キシ−1−(2−メチル−1−メチルオキシカ
ルボニル−1−プロペニル)−2−アゼチジノ
ン−3−イル]エチルオキシ]シクロヘキシル
メチルシラン
ルエステル−1−オキサイド−6−イル)エチル
オキシ]ジエチルシラン(16.11g)、亜リン酸ト
リメチル(11.98ml)、酢酸(4.36ml)、トルエン
(160ml)、トリエチルアミン(14.2ml)を用いて、
実施例5の連続法と同様に反応、処理すると目的
物(2.87g)が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:0.3−12(10H,m),1.2
−1.5(6H,m),1.9(6H,s),2.04(3.6H,s),
2.08(2.4H,s),2.20(6H,s),3.1−3.6(2H,
m),3.76(6H,s),4.1−4.7(2H,m),6.2−
6.5(2H,m) 実施例 7 ビス−[(1R)−1−[(3S,4RS)−4−アセト
キシ−1−(2−メチル−1−メチルオキシカ
ルボニル−1−プロペニル)−2−アゼチジノ
ン−3−イル]エチルオキシ]シクロヘキシル
メチルシラン
【式】
ビス−[(1R)−1−((6S)−ペニシラン酸メチ
ルエステル−1−オキシド−6−イル)エチルオ
キシ]シクロヘキシルメチルシラン(15.31g)、
亜リン酸トリメチル(10.71ml)、酢酸(3.90ml)、
トルエン(155ml)、トリエチルアミン(12.66
ml)、を用いて実施例5の連続法と同様に反応、
処理すると目的物(7.01g)が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:0.14(3H,s),0.4−
2.0(17H,m),1.92(6H,s),2.02(3.8H,s),
2.08(2.2H,s),2.20(6H,s),3.1−3.6(2H,
m),3.72(6H,s),4.0−4.7(2H,m),6.1−
6.4(2H,m) 実施例 8 ビス−[(1R)−1−((3S,4RS)−4−アセト
キシ−2−アゼチジノン−3−イル)エチルオ
キシ]ジフエニルシラン
ルエステル−1−オキシド−6−イル)エチルオ
キシ]シクロヘキシルメチルシラン(15.31g)、
亜リン酸トリメチル(10.71ml)、酢酸(3.90ml)、
トルエン(155ml)、トリエチルアミン(12.66
ml)、を用いて実施例5の連続法と同様に反応、
処理すると目的物(7.01g)が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:0.14(3H,s),0.4−
2.0(17H,m),1.92(6H,s),2.02(3.8H,s),
2.08(2.2H,s),2.20(6H,s),3.1−3.6(2H,
m),3.72(6H,s),4.0−4.7(2H,m),6.1−
6.4(2H,m) 実施例 8 ビス−[(1R)−1−((3S,4RS)−4−アセト
キシ−2−アゼチジノン−3−イル)エチルオ
キシ]ジフエニルシラン
【式】
ビス−[(1R)−1−[(3S,4RS)−4−アセト
キシ−1−(2−メチル−1−メチルオキシカル
ボニル−1−プロペニル)−2−アゼチジノン−
3−イル]エチルオキシ]ジフエニルシラン(3
g)をアセトン(60ml)に溶かし、酢酸(0.45
ml)を加え、氷冷下、過マンガン酸カリウム
(2.27g)の水溶液(45ml)を加え4時間攪拌す
る。ついで10%亜硫酸ナトリウム水(10.1ml)を
加え4時間攪拌する。反応液に酢酸エチルを加え
有機層を重曹水、飽和食塩水の順で洗う、乾燥
(MgSO4)、溶媒を留去すると目的物(2.01g)
が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:1.1−1.7(6H,m),
1.83と2.07(6H,各s),3.1−3.6(2H,m),4.2
−4.7(2H,m),5.6−5.9(2H,m),6.78と6.85
(2H,br,s),7.1−7.7(10H,m) 実施例 9 ビス−[(1R)−1−((3R,4R)−4−アセトキ
シ−2−アゼチジノン−3−イル)エチルオキ
シ]ジフエニルシラン
キシ−1−(2−メチル−1−メチルオキシカル
ボニル−1−プロペニル)−2−アゼチジノン−
3−イル]エチルオキシ]ジフエニルシラン(3
g)をアセトン(60ml)に溶かし、酢酸(0.45
ml)を加え、氷冷下、過マンガン酸カリウム
(2.27g)の水溶液(45ml)を加え4時間攪拌す
る。ついで10%亜硫酸ナトリウム水(10.1ml)を
加え4時間攪拌する。反応液に酢酸エチルを加え
有機層を重曹水、飽和食塩水の順で洗う、乾燥
(MgSO4)、溶媒を留去すると目的物(2.01g)
が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:1.1−1.7(6H,m),
1.83と2.07(6H,各s),3.1−3.6(2H,m),4.2
−4.7(2H,m),5.6−5.9(2H,m),6.78と6.85
(2H,br,s),7.1−7.7(10H,m) 実施例 9 ビス−[(1R)−1−((3R,4R)−4−アセトキ
シ−2−アゼチジノン−3−イル)エチルオキ
シ]ジフエニルシラン
【化】
ビス−[(1R)−1−[(3S,4R)−4−アセトキ
シ−1−(2−メチル−1−メチルオキシカルボ
ニル−1−プロペニル)−2−アゼチジノン−3
−イル]エチルオキシ]ジフエニルシラン(10.3
g)をアセトン(30ml)に溶かし、氷冷下、過マ
ンガン酸カリウム(14.3g)と酢酸(3.0g)の
水溶液(300ml)を加える。30分間攪拌後10%亜
硫酸ナトリウム水溶液でPH7.5〜8.0に保ち4時間
攪拌する。反応液に酢酸エチルを加え、有機層を
重曹水、飽和食塩水の順で洗う、乾燥(MgSO4)
後溶媒を留去して得られる残留物をシリカゲルク
ロマトグラフイー(ヘキサン/酢酸エチル系)に
より精製すると目的物(1.61g)が粉末として得
られた。 NMR(CDCl3)δppm:1.22(6H,d,J=
6Hz),2.04(6H,s),3.18(2H,dd,J=6,
1.5Hz),4.2−4.6(2H,m),5.81(2H,d,J=
5Hz),6.93(2H,br,s),7.1−7.7(10H,m) 実施例 10 ビス−[(1R)−1−((3R,4RS)−4−アセト
キシ−2−アゼチジノン−3−イル)エチルオ
キシ]ジエチルシラン
シ−1−(2−メチル−1−メチルオキシカルボ
ニル−1−プロペニル)−2−アゼチジノン−3
−イル]エチルオキシ]ジフエニルシラン(10.3
g)をアセトン(30ml)に溶かし、氷冷下、過マ
ンガン酸カリウム(14.3g)と酢酸(3.0g)の
水溶液(300ml)を加える。30分間攪拌後10%亜
硫酸ナトリウム水溶液でPH7.5〜8.0に保ち4時間
攪拌する。反応液に酢酸エチルを加え、有機層を
重曹水、飽和食塩水の順で洗う、乾燥(MgSO4)
後溶媒を留去して得られる残留物をシリカゲルク
ロマトグラフイー(ヘキサン/酢酸エチル系)に
より精製すると目的物(1.61g)が粉末として得
られた。 NMR(CDCl3)δppm:1.22(6H,d,J=
6Hz),2.04(6H,s),3.18(2H,dd,J=6,
1.5Hz),4.2−4.6(2H,m),5.81(2H,d,J=
5Hz),6.93(2H,br,s),7.1−7.7(10H,m) 実施例 10 ビス−[(1R)−1−((3R,4RS)−4−アセト
キシ−2−アゼチジノン−3−イル)エチルオ
キシ]ジエチルシラン
【化】
ビス−[(1R)−1−[(3S,4RS)−4−アセト
キシ−1−(2−メチル−1−メチルオキシカル
ボニル−1−プロペニル)−2−アゼチジノン−
3−イル]ジエチルシラン(2.89g)、アセトン
(60ml)酢酸(0.5ml)、過マンガン酸カリウム
(1.98g)、水(45ml)、10%亜硫酸ナトリウム水
(11ml)を用いて実施例8と同様に反応、処理す
ると目的物(1.51g)が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:0.3−1.2(10H,m),
1.2−1.6(6H,m),2.08(3H,s),2.12(3H,
s),3.1−3.5(2H,m),4.1−4.6(2H,m),5.7
−6.0(2H,m),7.27(1H,br.s),7.36(1H,br.
s) 実施例 11 ビス−[(1R)−1−((3R,4RS)−4−アセト
キシ−2−アゼチジノン−3−イル)エチルオ
キシ]シクロヘキシルメチルシラン
キシ−1−(2−メチル−1−メチルオキシカル
ボニル−1−プロペニル)−2−アゼチジノン−
3−イル]ジエチルシラン(2.89g)、アセトン
(60ml)酢酸(0.5ml)、過マンガン酸カリウム
(1.98g)、水(45ml)、10%亜硫酸ナトリウム水
(11ml)を用いて実施例8と同様に反応、処理す
ると目的物(1.51g)が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:0.3−1.2(10H,m),
1.2−1.6(6H,m),2.08(3H,s),2.12(3H,
s),3.1−3.5(2H,m),4.1−4.6(2H,m),5.7
−6.0(2H,m),7.27(1H,br.s),7.36(1H,br.
s) 実施例 11 ビス−[(1R)−1−((3R,4RS)−4−アセト
キシ−2−アゼチジノン−3−イル)エチルオ
キシ]シクロヘキシルメチルシラン
【化】
ビス−[(1R)−1−[(3S,4RS)−4−アセト
キシ−1−(2−メチル−1−メチルオキシカル
ボニル−1−プロペニル)−2−アゼチジノン−
3−イル]エチルオキシ]シクロヘキシルメチル
シラン(6.91g)、アセトン(144ml)酢酸(1.14
ml)、過マンガン酸カリウム(4.5g)、水(105
ml)、10%亜硫酸ナトリウム水(25ml)を用いて
実施例8と同様に反応、処理すると目的物(2.73
g)が得た。 NMR(CDCl3)δppm:0.11(3H,s),1.1−
1.9(17H,m),2.12(3H,s),2.15(3H,s),
3.2−3.5(2H,m),4.2−4.5(2H,m),5.8−5.9
(2H,m),6.6−6.9(2H,m) 実施例 12 ビス−[(1R)−1−((3R,4RS)−4−アセト
キシ−1−トリメチルシリル−2−アゼチジノ
ン−3−イル)エチルオキシ]ジフエニルシラ
ン
キシ−1−(2−メチル−1−メチルオキシカル
ボニル−1−プロペニル)−2−アゼチジノン−
3−イル]エチルオキシ]シクロヘキシルメチル
シラン(6.91g)、アセトン(144ml)酢酸(1.14
ml)、過マンガン酸カリウム(4.5g)、水(105
ml)、10%亜硫酸ナトリウム水(25ml)を用いて
実施例8と同様に反応、処理すると目的物(2.73
g)が得た。 NMR(CDCl3)δppm:0.11(3H,s),1.1−
1.9(17H,m),2.12(3H,s),2.15(3H,s),
3.2−3.5(2H,m),4.2−4.5(2H,m),5.8−5.9
(2H,m),6.6−6.9(2H,m) 実施例 12 ビス−[(1R)−1−((3R,4RS)−4−アセト
キシ−1−トリメチルシリル−2−アゼチジノ
ン−3−イル)エチルオキシ]ジフエニルシラ
ン
【化】
ビス−[(1R)−1−[(3S,4RS)−4−アセト
キシ−2−アゼチジノン−3−イル)エチルオキ
シ]ジフエニルシラン(1.97g)を塩化メチレン
(40ml)に溶かし、氷冷下、クロロトリメチルシ
ラン(1.89ml)、トリエチルアミン(2.3ml)を加
え、室温で1時間攪拌する。反応液の溶媒を留去
し残留物にヘキサンを加え不溶物を濾去する。濾
液の溶媒を留去すると目的物(2.2g)が得られ
た。 NMR(CDCl3)δppm:0.27(18H,s),1.1−
1.7(6H,m),1.83と1.85(3H,各s),2.06(3H,
s),3.1−3.8(2H,m),4.1−4.8(2H,m),6.1
−6.4(2H,m),7.2−7.9(10H,m) 実施例 13 ビス−[(1R)−1−((3R,4R)−4−(2−エ
チルヘキサノイルオキシ)−2−アゼチジノン
−3−イル)エチルオキシ]ジフエニルシラン
キシ−2−アゼチジノン−3−イル)エチルオキ
シ]ジフエニルシラン(1.97g)を塩化メチレン
(40ml)に溶かし、氷冷下、クロロトリメチルシ
ラン(1.89ml)、トリエチルアミン(2.3ml)を加
え、室温で1時間攪拌する。反応液の溶媒を留去
し残留物にヘキサンを加え不溶物を濾去する。濾
液の溶媒を留去すると目的物(2.2g)が得られ
た。 NMR(CDCl3)δppm:0.27(18H,s),1.1−
1.7(6H,m),1.83と1.85(3H,各s),2.06(3H,
s),3.1−3.8(2H,m),4.1−4.8(2H,m),6.1
−6.4(2H,m),7.2−7.9(10H,m) 実施例 13 ビス−[(1R)−1−((3R,4R)−4−(2−エ
チルヘキサノイルオキシ)−2−アゼチジノン
−3−イル)エチルオキシ]ジフエニルシラン
【化】
ビス−[(1R)−1−[(3S,4R)−4−フエニル
スルホニル−2−アゼチジノン−3−イル)エチ
ルオキシ]ジフエニルシラン(698mg)をt−ブ
タノール(5ml)に溶かし、室温で2−エチルヘ
キサン酸ナトリウム塩(315mg)加え一晩攪拌す
る。溶媒を留去し得られる残留物を酢酸エチルに
溶かし、水、飽和食塩水の順に洗い、乾燥
(MgSO4)、溶媒を留去して得られる残留物をシ
リカゲルクロマトグラフイー(シクロヘキサン/
酢酸エチル=1/1)により精製すると目的物
(270mg)が油状物として得られた。 NMR(CDCl3)δppm:0.5−1.8(28H,m),
2.2−2.3(2H,m),3.26(2H,d,J=5Hz),
4.3−4.7(2H,m),5.99(2H,s),7.0−7.8
(12H,m) 参考例 1 (3S,4R)−3−((1R)−1−ヒドロキシエチ
ル)−4−フエニルチオカルボニルメチル−2
−アゼチジノン
スルホニル−2−アゼチジノン−3−イル)エチ
ルオキシ]ジフエニルシラン(698mg)をt−ブ
タノール(5ml)に溶かし、室温で2−エチルヘ
キサン酸ナトリウム塩(315mg)加え一晩攪拌す
る。溶媒を留去し得られる残留物を酢酸エチルに
溶かし、水、飽和食塩水の順に洗い、乾燥
(MgSO4)、溶媒を留去して得られる残留物をシ
リカゲルクロマトグラフイー(シクロヘキサン/
酢酸エチル=1/1)により精製すると目的物
(270mg)が油状物として得られた。 NMR(CDCl3)δppm:0.5−1.8(28H,m),
2.2−2.3(2H,m),3.26(2H,d,J=5Hz),
4.3−4.7(2H,m),5.99(2H,s),7.0−7.8
(12H,m) 参考例 1 (3S,4R)−3−((1R)−1−ヒドロキシエチ
ル)−4−フエニルチオカルボニルメチル−2
−アゼチジノン
【化】
ビス−[(1R)−1−((3S,4R)−4−フエニル
チオカルボニルメチル−2−アゼチジノン−3−
イル)エチルオキシ]ジフエニルシラン(610mg)
をアセトリトリル(6ml)に溶かし、氷冷下、三
弗化ホウ素エチルエーテルコンプレツクス(536
mg)加え、室温で1時間攪拌する。反応液に重曹
(360g)と水を加え、15分間攪拌する。反応液に
酢酸エチル(60ml)を加え、20%食塩水、水で洗
う。乾燥(MgSO4)、溶媒留去後得られる残留物
をシリカゲルクロマトグラフイー(酢酸エチル)
により精製すると目的物が白色結晶として得られ
た。 NMR(Acetone d6)δppm:1.21(3H,d,J
=6Hz),2.7−3.2(3H,m),3.8−4.3(3H,m),
7.2(1H,br)7.43(5H,s) なお脱シリル化剤としてテトラブチルアンモニ
ウムフルオリドもしくはフツ化カリウムを用いて
も同様の目的物が得られる。 参考例 2 (5R,6S)−6−((1R)−1−ヒドロキシエチ
ル)−2−[(3S)−1−[N−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)アセトイミドイル]ピ
ロリジン−3−イルチオ]−2−カルバペネム
−3−カルボン酸 4−ニトロベンジルエステ
ル
チオカルボニルメチル−2−アゼチジノン−3−
イル)エチルオキシ]ジフエニルシラン(610mg)
をアセトリトリル(6ml)に溶かし、氷冷下、三
弗化ホウ素エチルエーテルコンプレツクス(536
mg)加え、室温で1時間攪拌する。反応液に重曹
(360g)と水を加え、15分間攪拌する。反応液に
酢酸エチル(60ml)を加え、20%食塩水、水で洗
う。乾燥(MgSO4)、溶媒留去後得られる残留物
をシリカゲルクロマトグラフイー(酢酸エチル)
により精製すると目的物が白色結晶として得られ
た。 NMR(Acetone d6)δppm:1.21(3H,d,J
=6Hz),2.7−3.2(3H,m),3.8−4.3(3H,m),
7.2(1H,br)7.43(5H,s) なお脱シリル化剤としてテトラブチルアンモニ
ウムフルオリドもしくはフツ化カリウムを用いて
も同様の目的物が得られる。 参考例 2 (5R,6S)−6−((1R)−1−ヒドロキシエチ
ル)−2−[(3S)−1−[N−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)アセトイミドイル]ピ
ロリジン−3−イルチオ]−2−カルバペネム
−3−カルボン酸 4−ニトロベンジルエステ
ル
【化】
ビス−[(1R)−1−((5R,6S)−3−(4−ニ
トロベンジルオキシカルボニル)−2−[(3S)−
1−[N−(4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)アセトイミドイル]ピロリジン−3−イルチ
オ)−2−カルバペネム−6−イル]エチルオキ
シ]ジフエニルシラン(220mg)をアセトニトリ
ル(4.5ml)に溶かし、室温で酢酸(170μ1)とフ
ツ化カリウム(172mg)の水溶液(2.25ml)を加
え1時間攪拌する。生じた結晶を濾取し、水、酢
酸エチルで洗うと目的物(119mg)が無色粉末と
して得られた。 NMR(DMSO d6)δppm:1.14(3H,d,J=
6Hz),2.18(3H,s),1.6−2.6(2H,m),3.0−
4.5(10H,m),5.0(1H,br),4.07(2H,s),
5.20と5.33(各1H,ABq,J=13.5Hz),7.46
(2H,d,J=9Hz)7.58(2H,d,J=9Hz),
8.09(4H,d,J=9Hz) 参考例 3 ビス−[(1R)−1−((6S)−ペニシラン酸メチ
ルエステル−6−イル)エチルオキシ]ジメチ
ルシラン
トロベンジルオキシカルボニル)−2−[(3S)−
1−[N−(4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)アセトイミドイル]ピロリジン−3−イルチ
オ)−2−カルバペネム−6−イル]エチルオキ
シ]ジフエニルシラン(220mg)をアセトニトリ
ル(4.5ml)に溶かし、室温で酢酸(170μ1)とフ
ツ化カリウム(172mg)の水溶液(2.25ml)を加
え1時間攪拌する。生じた結晶を濾取し、水、酢
酸エチルで洗うと目的物(119mg)が無色粉末と
して得られた。 NMR(DMSO d6)δppm:1.14(3H,d,J=
6Hz),2.18(3H,s),1.6−2.6(2H,m),3.0−
4.5(10H,m),5.0(1H,br),4.07(2H,s),
5.20と5.33(各1H,ABq,J=13.5Hz),7.46
(2H,d,J=9Hz)7.58(2H,d,J=9Hz),
8.09(4H,d,J=9Hz) 参考例 3 ビス−[(1R)−1−((6S)−ペニシラン酸メチ
ルエステル−6−イル)エチルオキシ]ジメチ
ルシラン
【式】
(6S)−6−((1R)−1−ヒドロキシエチル)
ペニシラン酸メチルエステル(25.9g)をアセト
ニトリル(130ml)に溶かし、氷水にて冷却する。
ジクロロジメチルシラン(6.6ml)、ついでトリエ
チルアミン(15.3ml)を加え30分間攪拌する。反
応液に冷水を加え酢酸エチルで抽出する。有機層
を水洗、乾燥(MgSO4)、留去すると目的物
(32.1g)が粉末として得られた。 NMR(CDCl3)δppm:0.14(6H,s),1.27
(6H,s,J=6Hz),1.42(6H,s),1.60(6H,
s),3.40(2H,dd,J=6,2Hz),3.70(6H,
s),4.0−4.6)2H,m),4.37(2H,s),5.20
(2H,d,J=2Hz) 参考例 4 ビス−[(1R)−1−((6S)−6−ブロモペニシ
ラン酸メチルエステル−6−イル)エチルオキ
シ]ジフエニルシラン
ペニシラン酸メチルエステル(25.9g)をアセト
ニトリル(130ml)に溶かし、氷水にて冷却する。
ジクロロジメチルシラン(6.6ml)、ついでトリエ
チルアミン(15.3ml)を加え30分間攪拌する。反
応液に冷水を加え酢酸エチルで抽出する。有機層
を水洗、乾燥(MgSO4)、留去すると目的物
(32.1g)が粉末として得られた。 NMR(CDCl3)δppm:0.14(6H,s),1.27
(6H,s,J=6Hz),1.42(6H,s),1.60(6H,
s),3.40(2H,dd,J=6,2Hz),3.70(6H,
s),4.0−4.6)2H,m),4.37(2H,s),5.20
(2H,d,J=2Hz) 参考例 4 ビス−[(1R)−1−((6S)−6−ブロモペニシ
ラン酸メチルエステル−6−イル)エチルオキ
シ]ジフエニルシラン
【式】
(6S)−6−ブロモ−6−((1R)−1−ヒドロ
キシエチル)ペニシラン酸メチルエステル(3.4
g)をN,N−ジメチルホルムアミド(34ml)に
溶かし、氷水にて冷却する。ジクロロジフエニル
シラン(1.2ml)、ついでイミダゾール(1.5g)
を加え、30分間攪拌する。反応液に冷水を加え、
酢酸エチルで抽出する。有機層を水洗、乾燥
(MgSO4)留去する。残留物にメタノールを加え
析出する目的物の結晶(4.1g)が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:1.20(6H,s),1.30
(6H,d,J=6Hz),1.35(6H,s),3.66(6H,
s),4.30(2H,m),4.35(2H,s),5.40(2H,
s),7.0−7.8(10H,m) 参考例 5 ビス−[(1R)−1−((6S)−ペニシラン酸メチ
ルエステル−6−イル)エチルオキシ]ジフエ
ニルシラン
キシエチル)ペニシラン酸メチルエステル(3.4
g)をN,N−ジメチルホルムアミド(34ml)に
溶かし、氷水にて冷却する。ジクロロジフエニル
シラン(1.2ml)、ついでイミダゾール(1.5g)
を加え、30分間攪拌する。反応液に冷水を加え、
酢酸エチルで抽出する。有機層を水洗、乾燥
(MgSO4)留去する。残留物にメタノールを加え
析出する目的物の結晶(4.1g)が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:1.20(6H,s),1.30
(6H,d,J=6Hz),1.35(6H,s),3.66(6H,
s),4.30(2H,m),4.35(2H,s),5.40(2H,
s),7.0−7.8(10H,m) 参考例 5 ビス−[(1R)−1−((6S)−ペニシラン酸メチ
ルエステル−6−イル)エチルオキシ]ジフエ
ニルシラン
【式】
(6S)−6−((1R)−1−ヒドロキシエチル)
ペニシラン酸メチルエステル(10g)をアセトニ
トリル(50ml)に溶かし、氷冷下、ジクロロジフ
エニルシラン(4.4ml)を加え室温で1.5時間攪拌
する。反応液に水を加えた酢酸エチルで抽出す
る。有機層を水、飽和食塩水の順に洗い、乾燥
(MgSO4)、留去し残留物をシリカゲルクロマト
グラフイー(ヘキサン/酢酸エチル=2/1)に
より精製し目的物(13.5g)が得られた。 IR νKBr naxcm-1:1755,1750 NMR(CDCl3)δppm:1.27(6H,d,J=
6Hz),1.43(6H,s),1.61(6H,s),3.31(2H,
dd,J=6,2Hz),3.72(6H,s),4.2−4.6
(2H,m),4.42(2H,s),5.19(2H,d,J=
2Hz),7.2−7.7(10H,m) 参考例 6 ビス−[(1R)−1−((6S)−ペニシラン酸メチ
ルエステル−6−イル)エチルオキシ]ジエチ
ルシラン
ペニシラン酸メチルエステル(10g)をアセトニ
トリル(50ml)に溶かし、氷冷下、ジクロロジフ
エニルシラン(4.4ml)を加え室温で1.5時間攪拌
する。反応液に水を加えた酢酸エチルで抽出す
る。有機層を水、飽和食塩水の順に洗い、乾燥
(MgSO4)、留去し残留物をシリカゲルクロマト
グラフイー(ヘキサン/酢酸エチル=2/1)に
より精製し目的物(13.5g)が得られた。 IR νKBr naxcm-1:1755,1750 NMR(CDCl3)δppm:1.27(6H,d,J=
6Hz),1.43(6H,s),1.61(6H,s),3.31(2H,
dd,J=6,2Hz),3.72(6H,s),4.2−4.6
(2H,m),4.42(2H,s),5.19(2H,d,J=
2Hz),7.2−7.7(10H,m) 参考例 6 ビス−[(1R)−1−((6S)−ペニシラン酸メチ
ルエステル−6−イル)エチルオキシ]ジエチ
ルシラン
【式】
(6S)−6−((1R)−1−ヒドロキシエチル)
ペニシラン酸メチルエステル(15g)、アセトニ
トリル(200ml)、ジクロロジエチルシラン(476
ml)、トリエチルアミン(9.66ml)を用いて参考
例5と同様に反応、処理すると目的物(17.25g)
が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:0.3−1.2(10H,m),
1.31(6H,d,J=6Hz),1.46(6H,s),1.62
(6H,s),3.23(2H,dd,J=6,2Hz),3.71
(6H,s),4.1−4.6(2H,m),4.41(2H,s),
5.25(2H,d,J=2Hz) 参考例 7 ビス−[(1R)−1−((6S)−ペニシラン酸メチ
ルエステル−6−イル)エチルオキシ]シクロ
ヘキシルメチルシラン
ペニシラン酸メチルエステル(15g)、アセトニ
トリル(200ml)、ジクロロジエチルシラン(476
ml)、トリエチルアミン(9.66ml)を用いて参考
例5と同様に反応、処理すると目的物(17.25g)
が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:0.3−1.2(10H,m),
1.31(6H,d,J=6Hz),1.46(6H,s),1.62
(6H,s),3.23(2H,dd,J=6,2Hz),3.71
(6H,s),4.1−4.6(2H,m),4.41(2H,s),
5.25(2H,d,J=2Hz) 参考例 7 ビス−[(1R)−1−((6S)−ペニシラン酸メチ
ルエステル−6−イル)エチルオキシ]シクロ
ヘキシルメチルシラン
【式】
(6S)−6−((1R)−1−ヒドロキシエチル)
ペニシラン酸メチルエステル(15g)、アセトニ
トリル(300ml)、シクロヘキシルジクロロメチル
シラン(5.73ml)、トリエチルアミン(9.66ml)
を用いて参考例5と同様に反応、処理すると目的
物(17.9g)が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:0.32(3H,s),0.5−
1.9(11H,m),1.29(6H,d,J=6Hz),1.44
(6H,s),1.61(6H,s),3.1−3.4(2H,m),
3.70(6H,s),4.1−4.6(2H,m),4.41(2H,
m),5.2−5.3(2H,m)
ペニシラン酸メチルエステル(15g)、アセトニ
トリル(300ml)、シクロヘキシルジクロロメチル
シラン(5.73ml)、トリエチルアミン(9.66ml)
を用いて参考例5と同様に反応、処理すると目的
物(17.9g)が得られた。 NMR(CDCl3)δppm:0.32(3H,s),0.5−
1.9(11H,m),1.29(6H,d,J=6Hz),1.44
(6H,s),1.61(6H,s),3.1−3.4(2H,m),
3.70(6H,s),4.1−4.6(2H,m),4.41(2H,
m),5.2−5.3(2H,m)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1一般式 【化】 [式中、R1は水素原子、トリアルキルシリル
基、アルコキシ置換フエニル基、
【式】基、【式】基を (R5はアルキル基、アラルキル基を示す)、R2,
R3はアルキル基、アリール基、シクロアルキル
基を、R4は−OCOR6基(R6はアルキル基を示
す)、−SO2R7基(R7はアルキル基、アリール基
を示す)]を有するアゼチジノン誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60079747A JPS61236785A (ja) | 1985-04-15 | 1985-04-15 | アゼチジノン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60079747A JPS61236785A (ja) | 1985-04-15 | 1985-04-15 | アゼチジノン誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61236785A JPS61236785A (ja) | 1986-10-22 |
JPH0572396B2 true JPH0572396B2 (ja) | 1993-10-12 |
Family
ID=13698816
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60079747A Granted JPS61236785A (ja) | 1985-04-15 | 1985-04-15 | アゼチジノン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61236785A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CZ435990A3 (cs) * | 1989-09-08 | 1999-11-17 | Glaxo S.P.A. | Kyselina 10-(1-hydroxyethyl)-11-oxo-1-azatricyklo/7,2,0,03,8/-undec-2en-2-karboxylová a její deriváty, způsob jejich výroby, použití pro výrobu farmaceutických prostředků a farmaceutické prostředky s jejich obsahem |
Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPS5452092A (en) * | 1977-09-15 | 1979-04-24 | Merck & Co Inc | Chienamycin sulfoxide and oo*nn and carboxylic derivatives of sulfone |
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JPS56154458A (en) * | 1980-03-27 | 1981-11-30 | Merck & Co Inc | Manufacture of 1-carbapenem and intermediate derived from trithio-ortho-acetate |
JPS572290A (en) * | 1980-06-03 | 1982-01-07 | Sankyo Co Ltd | Production of penem-3-carboxylic derivative |
JPS574968A (en) * | 1980-03-27 | 1982-01-11 | Merck & Co Inc | Manufacture of 1-carbapenems derived from 4-arylazetidinone and intermediate therefor |
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JPS57200392A (en) * | 1981-06-03 | 1982-12-08 | Sankyo Co Ltd | Penem-3-carboxylic acid derivative and its preparation |
JPS588084A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-18 | Takeda Chem Ind Ltd | (6r)−置換−(5r)−ペネム−3−カルボン酸誘導体およびその製造法 |
JPS5843978A (ja) * | 1981-09-10 | 1983-03-14 | Sankyo Co Ltd | ペネム−3−カルボン酸誘導体およびその製法 |
JPS5855490A (ja) * | 1981-09-25 | 1983-04-01 | Sankyo Co Ltd | ペネム−3−カルボン酸誘導体 |
JPS58105992A (ja) * | 1981-12-18 | 1983-06-24 | Sankyo Co Ltd | ペネム誘導体 |
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JPS5921693A (ja) * | 1982-07-08 | 1984-02-03 | ヘキスト・ユ−・ケイ・リミテツド | 抗菌性ペネム誘導体 |
JPS5936677A (ja) * | 1982-08-20 | 1984-02-28 | Shionogi & Co Ltd | カルバペネム化合物 |
-
1985
- 1985-04-15 JP JP60079747A patent/JPS61236785A/ja active Granted
Patent Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPS56154458A (en) * | 1980-03-27 | 1981-11-30 | Merck & Co Inc | Manufacture of 1-carbapenem and intermediate derived from trithio-ortho-acetate |
JPS574968A (en) * | 1980-03-27 | 1982-01-11 | Merck & Co Inc | Manufacture of 1-carbapenems derived from 4-arylazetidinone and intermediate therefor |
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JPS57176988A (en) * | 1981-04-09 | 1982-10-30 | Sankyo Co Ltd | Penam-3-carboxylic acid derivative and its preparation |
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JPS5843978A (ja) * | 1981-09-10 | 1983-03-14 | Sankyo Co Ltd | ペネム−3−カルボン酸誘導体およびその製法 |
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JPS595189A (ja) * | 1982-07-01 | 1984-01-12 | Sankyo Co Ltd | カルバペネム−3−カルボン酸誘導体およびペネム−3−カルボン酸誘導体ならびにそれらの製法 |
JPS5921693A (ja) * | 1982-07-08 | 1984-02-03 | ヘキスト・ユ−・ケイ・リミテツド | 抗菌性ペネム誘導体 |
JPS5936677A (ja) * | 1982-08-20 | 1984-02-28 | Shionogi & Co Ltd | カルバペネム化合物 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61236785A (ja) | 1986-10-22 |
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