JPH056835U - ガス置換装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 加熱炉から塵芥を除去すると共に、加熱炉に
て加熱加工される基板に塵芥が付着することを防止す
る。 【構成】 基板６を加熱加工する加熱炉７内の上部左側
端部には、Ｎ₂ ガスａを噴射するブローノズル８が、Ｎ
₂ ガスａが基板６に対して平行に流れるように、基板６
に対して斜め上方に配置されている。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、ＬＣＤ等の基板に対し加熱加工を行う加熱炉内のガスを置換するガ ス置換装置に関するものであり、特に、置換ガスを噴射するブローノズルの配置 に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

一般に、ＬＣＤ等の基板を製造する工程において、加熱炉内で基板に対し加熱 加工を行う工程がある。基板を加熱する場合、加熱炉内に含まれる塵芥が基板に 付着しないように、この塵芥を除去する必要がある。そこで、加熱炉内の塵芥を 除去するために、フィルタ等により濾過されたガスを炉内に送込み、炉内の塵芥 を含んだガスを排気して、ガスの置換を行うガス置換装置が、従来より、提案さ れている。

【０００３】 ここで、ガス置換装置の従来例を、図３を参照して説明する。

【０００４】 図において、加熱炉１は中空であり、その断面形状は上側が長方形、下側が下 辺の方が上辺より短い台形となっている。加熱炉１のほぼ中央には、板状のヒー タ４が配設され、その上面にはヒータ４からの熱を均一に分散させる均熱板５が 設けられている。この均熱板５上に基板６が載置され、基板６は均熱板５によっ て加熱される。

【０００５】 ガス置換装置は、上記の加熱炉１内のガスを置換するものであり、塵芥を含ま ないＮ₂ ガスａを噴射するブローノズル２と、加熱炉１内のガスを排気する排気 口３とを備えている。

【０００６】 このうち、ブローノズル２は、加熱炉１内部の上方に設置されており、Ｎ₂ ガ スａを基板６に対して垂直に噴射する。一方、排気口３は加熱炉１の下面中央に 形成されており、塵芥を含んだガスを加熱炉１の外部に排気する。

【０００７】

【考案が解決しようとする課題】

ところで、上記従来例においては、基板６中央の上方にブローノズル３が設置 されているため、次のような問題点が存在した。

【０００８】 すなわち、図４に示すように、ブローノズル３から噴射されるＮ₂ ガスａが基 板６に対して垂直に当たると、Ｎ₂ ガスａは上方に一旦はね返り、噴射されるＮ 2 ガスａと衝突して渦巻流となって、基板６の上方に滞留する。

【０００９】 このＮ₂ ガスａの滞留と共に、加熱炉１内の塵芥もまた、その部分に止まる。 そのため、基板６に塵芥が付着する可能性は高い。しかも、加熱炉１は基板製造 工程の一部であるため、残留した塵芥は最終工程でしか判別することができない 。そのため、全行程での歩留まりが悪く、問題となっていた。

【００１０】 以上のように、従来のガス置換装置においては、塵芥の除去が十分に行われな かった。本考案は、以上の問題点を解消するために提案されたものであり、その 目的は、加熱炉内の塵芥を確実に除去するガス置換装置を提供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】

以上の課題を解決するために、本考案のガス置換装置は、基板に加熱加工を行 う加熱炉内に、フィルタ等により濾過されたガスを噴射するブローノズルと、加 熱炉内の塵芥を含んだガスを排気する排気口とが設置され、前記ガスが基板に対 して平行に流れるように、ブローノズルが基板に対して斜め上方に配置されるこ とを構成上の特徴とする。

【００１２】

【作用】

以上のような構成を有する本考案において、ブローノズルが基板に対して斜め 上方からフィルタ等により濾過されたガスを噴射する。ブローノズルから噴射さ れたガスは、基板に斜め方向から当たることによって層流となる。そのため、ブ ローノズルから噴射されたガスは滞留することなく、基板に対して平行に流れる 。このガスの層流が、基板に付着している塵芥を除去すると共に、基板に塵芥が 付着することを防止する。最後に、排気口が塵芥を含んだガスを吸込み、加熱炉 の外部に排気する。

【００１３】

【実施例】

進んで、以上述べた本考案のガス置換装置の一実施例を図１に基づいて説明す る。図１は本実施例の正面図である。なお、上記従来例と同一の部材に関しては 同一符号を付し、説明は省略する。

【００１４】 図において、加熱炉７にはヒータ４及び均熱板５が配設され、均熱板５上に基 板６が載置される。本実施例のガス置換装置は、加熱炉７内のガスを置換するも のであり、加熱炉７にはフィルタ（図示せず）により濾過されたＮ₂ ガスａを噴 射するブローノズル８と、加熱炉７内のガスを排気する排気口９とが設置されて いる。

【００１５】 ブローノズル８は、金属製のパイプに一定の間隔で小径の穴を軸方向に明けた 構成を有しており、加熱炉７内部の図中左側上方に設置されている。このブロー ノズル８から噴射されるＮ₂ ガスａの噴射角度は約４５度下方である。

【００１６】 一方、排気口９は加熱炉７の下面中央に形成されており、塵芥を含んだガスを 加熱炉７の外部に排気する。

【００１７】 以上のような構成を有する本考案において、基板製造工程が起動されると、ブ ローノズル８は、均熱板５上に塵芥が付着しないように、ウォーミングアップ中 から連続的にＮ₂ ガスａを噴射する。ブローノズル８から噴射されたＮ₂ ガスａ は、基板６に対して約４５度の角度で斜め上方から当たり、いわゆる層流となっ て基板６上を流れる。しかも、Ｎ₂ ガスａは上方から吹き下ろされるため、塵芥 を含んだガスが均熱板５によって暖められて上昇気流となるが、その下方に潜り 込むようになり、塵芥を含むガスより遮断することができる。

【００１８】 従って、Ｎ₂ ガスａは滞留することなく、基板６の図中左側縁部から図中右側 方向に向って、基板６に平行にスムーズに流れる。これにより、基板６に付着し ている塵芥を除去することができると同時に、基板６に塵芥が付着することを防 止できる。

【００１９】 更に、基板６上を図中右方向に向って流れるＮ₂ ガスａは、基板６の図中右側 縁部を通過し、加熱炉７の図中右側内壁面に沿って下降する。更に、Ｎ₂ ガスａ は底面にぶつかると底面に沿って図中左方向に移動し、排気口９に達する。

【００２０】 また、ブローノズル８から噴射されたＮ₂ ガスａの一部は、加熱炉７の図中左 側内壁面に沿って下降し、底面にぶつかると底面に沿って図中右方向に移動し、 排気口９に達する。

【００２１】 この様にして、左右から排気口９に達したＮ₂ ガスａは、加熱炉７内の塵芥を 多く含んでいる。このＮ₂ ガスａが塵芥と共に排気口９に吸込まれ、加熱炉７の 外部に排気されて、加熱炉７内のガスの置換が行われる。

【００２２】 以上のように、本実施例によれば、ブローノズル８から噴射されたＮ₂ ガスａ が滞留するがことなく、基板６上を平行に流れて、加熱炉７内から塵芥を除去で き、且つ基板６に塵芥が付着することがない。その結果、基板６の歩留まりが良 く、ガス置換装置としての信頼性を確保することができる。

【００２３】 ところで、本考案のガス置換装置の他の実施例としては、次のようなものがあ る。

【００２４】 すなわち、図２に示すように、加熱炉１０には、ヒータ４及び均熱板５が平行 に２列載置されており、均熱板５に基板６が載置されている。また、加熱炉１０ の中央には、Ｎ₂ ガスａを噴射する２つのブローノズル１１（図中右側），ブロ ーノズル１２（図中左側）が配置されている。ブローノズル１１は図中右斜め下 方に、ブローノズル１２は図中左斜め下方に、それぞれ向いている。

【００２５】 以上のような構成を有する実施例において、ブローノズル１１，１２から噴射 されるＮ₂ ガスａは、基板６に対して斜め上方から当たり、いわゆる層流となっ て、左右対称的に基板６上を流れ、基板６の塵芥を除去し、且つ基板６への塵芥 付着を防ぐ。

【００２６】 更に、基板６上を流れるＮ₂ ガスａは、基板６の外側の側縁部を通過し、加熱 炉１０の内壁面に沿って下降する。そして、Ｎ₂ ガスａは底面にぶつかると底面 に沿って中央方向に移動して、左右から排気口９に達する。最終的にＮ₂ ガスａ は排気口９に吸込まれて、加熱炉１０の塵芥と共に、加熱炉１０の外部へ排気さ れる。

【００２７】 この様にして、ブローノズル１１，１２から噴射されたＮ₂ ガスａは、２列に 並べられた基板６から同時に塵芥を除去することができる。

【００２８】 なお、本考案のガス置換装置は、以上のような実施例に限定されるものではな く、各部材の形状、寸法及び設置数並びに排気口の配置等は適宜変更可能であり 、また、置換ガスとしては、Ｈｅ、Ａｒ等の不活性ガスを使用しても良い。

【００２９】

【考案の効果】

以上述べたように、本考案のガス置換装置によれば、基板に対して斜め上方か らガスを噴射するようにブローノズルを加熱炉に配置し、ブローノズルからのガ スが基板に対して平行に流れるように排気口を加熱炉に形成するという簡単な構 成によって、ブローノズルから噴射されたガスが滞留することなく、基板に対し て平行に流れるため、加熱炉内から塵芥を除去し、且つ基板に対する塵芥の付着 を防止でき、基板の歩留まりが向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案のガス置換装置の一実施例の正面図。

【図２】本考案のガス置換装置の他の実施例の正面図。

【図３】従来のガス置換装置の正面図。

【図４】従来のガス置換装置の要部拡大図。

【符号の説明】

１ 加熱炉 ４ ヒータ ５ 均熱板 ６ 基板 ７ 加熱炉 ８，１１，１２ブローノズル ９ 排気口 １０ 加熱炉 ａ Ｎ₂ ガス

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 【請求項１】 ＬＣＤ等の基板に対し加熱加工を行う加
   熱炉内のガスを置換するガス置換装置において、 前記加熱炉内にはフィルタ等により濾過されたガスを噴
   射するブローノズルと、前記加熱炉内の塵芥を含んだガ
   スを排気する排気口とを設置され、 前記ガスが前記基板に対して平行に流れるように、前記
   ブローノズルが前記基板に対して斜め上方に配置される
   ことを特徴とするガス置換装置。