JPH0554697B2 - - Google Patents
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- JPH0554697B2 JPH0554697B2 JP60261483A JP26148385A JPH0554697B2 JP H0554697 B2 JPH0554697 B2 JP H0554697B2 JP 60261483 A JP60261483 A JP 60261483A JP 26148385 A JP26148385 A JP 26148385A JP H0554697 B2 JPH0554697 B2 JP H0554697B2
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- chip
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はコンピユータ装置あるいは電子交換装
置等において用いられるICもしくはLSI等集積回
路の実装に関し、特にマルチチツプパツケージの
構造に関する。
置等において用いられるICもしくはLSI等集積回
路の実装に関し、特にマルチチツプパツケージの
構造に関する。
従来、この種のマルチチツプパツケージではポ
リイミド絶縁を有するセラミツク基板上にICを
実装接続する構造としてワイヤボンデイングもし
くはTAB(Tape Automatic Bonding)を利用
する方法がある(例えば「高性能実装のための
銅/ポリイミド材料システム(COPPER/
POLYIMIDE MATERIALS SYSTEM FOR
HIGH PERFORMANCE PACKAGING)」
0569−5503/84/0000−0073.1984 IEEE)。更に
は、ハンダ付け接続する構造がある(例えば「高
性能半導体実装のような薄膜モジユール(The
Thin−Film Module as a High−
Performance Semiconductor Package)」IBM
J.RES.DEVELOP.VOL26No.3MAY1982.)。
リイミド絶縁を有するセラミツク基板上にICを
実装接続する構造としてワイヤボンデイングもし
くはTAB(Tape Automatic Bonding)を利用
する方法がある(例えば「高性能実装のための
銅/ポリイミド材料システム(COPPER/
POLYIMIDE MATERIALS SYSTEM FOR
HIGH PERFORMANCE PACKAGING)」
0569−5503/84/0000−0073.1984 IEEE)。更に
は、ハンダ付け接続する構造がある(例えば「高
性能半導体実装のような薄膜モジユール(The
Thin−Film Module as a High−
Performance Semiconductor Package)」IBM
J.RES.DEVELOP.VOL26No.3MAY1982.)。
上述した従来のワイヤーボンデイングもしくは
TAB接続構造では、ICもしくはLSIチツプの外
形寸法より外側へリード端子を出して接続するた
め、実装効率が低下しかつ熱圧着もしくは超音波
を利用するため表面のポリイミド絶縁を変形破壊
し、信頼性を低下するという欠点がある。または
んだ付け接続構造では、接続パツドもしくは接続
バンプの大きさを50μ以下にはできない。このた
め高密度実装が不可能となる欠点がある。
TAB接続構造では、ICもしくはLSIチツプの外
形寸法より外側へリード端子を出して接続するた
め、実装効率が低下しかつ熱圧着もしくは超音波
を利用するため表面のポリイミド絶縁を変形破壊
し、信頼性を低下するという欠点がある。または
んだ付け接続構造では、接続パツドもしくは接続
バンプの大きさを50μ以下にはできない。このた
め高密度実装が不可能となる欠点がある。
本発明の目的は、セラミツク多層基板とICも
しくはLSI等の集積回路とをポリイミド絶縁層お
よび垂直配線によつて直接接続することにより、
高信頼性、高密度実装を可能にするマルチチツプ
パツケージを提供することにある。
しくはLSI等の集積回路とをポリイミド絶縁層お
よび垂直配線によつて直接接続することにより、
高信頼性、高密度実装を可能にするマルチチツプ
パツケージを提供することにある。
本発明によるマルチチツプパツケージは、セラ
ミツク多層基板と、該基板下面に接続する入出力
ピンと、前記基板上面に内部形成された多層回路
配線を有する第1のポリイミド絶縁層と、該第1
のポリイミド絶縁層の最上部に形成した第1の垂
直配線と、前記第1のポリイミド絶縁層および第
1の垂直配線にそれぞれ接合した第2のポリイミ
ド絶縁層および第2の垂直配線を有する複数の集
積回路とを有している。
ミツク多層基板と、該基板下面に接続する入出力
ピンと、前記基板上面に内部形成された多層回路
配線を有する第1のポリイミド絶縁層と、該第1
のポリイミド絶縁層の最上部に形成した第1の垂
直配線と、前記第1のポリイミド絶縁層および第
1の垂直配線にそれぞれ接合した第2のポリイミ
ド絶縁層および第2の垂直配線を有する複数の集
積回路とを有している。
次に本発明の実施例について図面を参照して説
明する。
明する。
図は本発明によるマルチチツプパツケージの一
実施例の構造を示した断面図である。
実施例の構造を示した断面図である。
セラミツク多層基板1は内部にタングステンW
もしくはモリブデンMoからなる電源系パターン
2を含むアルミナグリーンシート製の多層回路基
板であり、この多層基板1の下面にコバー材等か
らなる入出力ピン3が銀ロウ付けされている。多
層基板1の上面には信号系パターン4が内層され
たポリイミド絶縁層5が多層化されている。ここ
でパターン4はパターン幅10〜20μで選択的に金
メツキされ、ポリイミド絶縁層5に必要なヴイア
ホールを介して多層化されている。このポリイミ
ド絶縁層5の最上部にはパターン4に接続する垂
直配線6が形成されている。
もしくはモリブデンMoからなる電源系パターン
2を含むアルミナグリーンシート製の多層回路基
板であり、この多層基板1の下面にコバー材等か
らなる入出力ピン3が銀ロウ付けされている。多
層基板1の上面には信号系パターン4が内層され
たポリイミド絶縁層5が多層化されている。ここ
でパターン4はパターン幅10〜20μで選択的に金
メツキされ、ポリイミド絶縁層5に必要なヴイア
ホールを介して多層化されている。このポリイミ
ド絶縁層5の最上部にはパターン4に接続する垂
直配線6が形成されている。
そしてこの垂直配線6に結合する様に複数の
ICチツプ7に形成された垂直配線8と、ポリイ
ミド絶縁層5に接着しているICチツプ7に形成
されたポリミイド絶縁層9がある。
ICチツプ7に形成された垂直配線8と、ポリイ
ミド絶縁層5に接着しているICチツプ7に形成
されたポリミイド絶縁層9がある。
ここでICチツプ7に形成された垂直配線8は
材質が金からなり大きさは20〜30μ□である。ま
たポリイミド絶縁層9は接着する前はポリイミド
樹脂の脱水閉環反応の中間段階(反キユアー状
態)になつている。同様にセラミツク多層基板1
側の垂直配線6も材質は金で大きさは20〜30μ□
であり、またポリイミド絶縁層5の最上層は接着
する前の状態で反キユアーになつている。
材質が金からなり大きさは20〜30μ□である。ま
たポリイミド絶縁層9は接着する前はポリイミド
樹脂の脱水閉環反応の中間段階(反キユアー状
態)になつている。同様にセラミツク多層基板1
側の垂直配線6も材質は金で大きさは20〜30μ□
であり、またポリイミド絶縁層5の最上層は接着
する前の状態で反キユアーになつている。
ここでICチツプ7側のポリイミド絶縁層9お
よび垂直配線8とセラミツク多層基板1側のポリ
イミド絶縁層5および垂直配線6は圧力が2Kg/
mm2、温度が400℃、時間が1時間のN2雰囲気で接
合される。ポリイミド絶縁層5および9はそれぞ
れ完全にキユアーされ、かつ垂直配線6および8
は金−金熱圧着接合される。ここで金−金熱圧着
されるわけであるが、ワイヤーボンデイングや
TAB接続の様に局部的に圧力がかからず、ICチ
ツプ7のポリイミド絶縁層9の面で当るため絶縁
層の変形や破壊は無い。
よび垂直配線8とセラミツク多層基板1側のポリ
イミド絶縁層5および垂直配線6は圧力が2Kg/
mm2、温度が400℃、時間が1時間のN2雰囲気で接
合される。ポリイミド絶縁層5および9はそれぞ
れ完全にキユアーされ、かつ垂直配線6および8
は金−金熱圧着接合される。ここで金−金熱圧着
されるわけであるが、ワイヤーボンデイングや
TAB接続の様に局部的に圧力がかからず、ICチ
ツプ7のポリイミド絶縁層9の面で当るため絶縁
層の変形や破壊は無い。
以上説明したように、本発明はセラミツク多層
基板上のポリイミド絶縁および垂直配線と、IC
チツプ上のポリミイド絶縁および垂直配線とを直
接接合することにより、50μ以下の微少接続を可
能にし、実装密度を上げることができると同時
に、高信頼性のマルチチツプパツケージを形成で
きる効果がある。
基板上のポリイミド絶縁および垂直配線と、IC
チツプ上のポリミイド絶縁および垂直配線とを直
接接合することにより、50μ以下の微少接続を可
能にし、実装密度を上げることができると同時
に、高信頼性のマルチチツプパツケージを形成で
きる効果がある。
図は本発明によるマルチチツプパツケージの一
実施例の構造を示した断面図である。 1……セラミツク多層基板、2……電源系パタ
ーン、3……入出力ピン、4……信号系パター
ン、5,9……ポリイミド絶縁層、6,8……垂
直配線、7……ICチツプ。
実施例の構造を示した断面図である。 1……セラミツク多層基板、2……電源系パタ
ーン、3……入出力ピン、4……信号系パター
ン、5,9……ポリイミド絶縁層、6,8……垂
直配線、7……ICチツプ。
Claims (1)
- 1 セラミツク層基板と、該基板下面に接続する
入出力ピンと、前記基板上面に内部形成された多
層回路配線を有する第1のポリイミド絶縁層と、
該第1のポリイミド絶縁層の最上部に形成した第
1の垂直配線と、前記第1のポリイミド絶縁層お
よび第1の垂直配線にそれぞれ接合した第2のポ
リイミド絶縁層および第2の垂直配線を有する複
数の集積回路とを含むことを特徴とするマルチチ
ツプパツケージ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60261483A JPS62122258A (ja) | 1985-11-22 | 1985-11-22 | マルチチツプパツケ−ジ |
US07/259,319 US4874721A (en) | 1985-11-11 | 1988-10-18 | Method of manufacturing a multichip package with increased adhesive strength |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60261483A JPS62122258A (ja) | 1985-11-22 | 1985-11-22 | マルチチツプパツケ−ジ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPS62122258A JPS62122258A (ja) | 1987-06-03 |
JPH0554697B2 true JPH0554697B2 (ja) | 1993-08-13 |
Family
ID=17362530
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60261483A Granted JPS62122258A (ja) | 1985-11-11 | 1985-11-22 | マルチチツプパツケ−ジ |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPS62122258A (ja) |
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1985
- 1985-11-22 JP JP60261483A patent/JPS62122258A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPS62122258A (ja) | 1987-06-03 |
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