JPH0551342A - 鎖状テルペン類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 下記一般式（Ｉ） 【化１】 〔上記式中、Ｒ¹ はホルミル基、−ＣＨ（ＯＲ³)₂ （Ｒ
³ は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）または−ＣＨ
（ＣＮ）（ＯＲ⁴)（Ｒ⁴ は水素原子、１−アルコキシア
ルキル基またはトリメチルシリル基を示す。）を示し、
Ｒ² は水素原子、１−アルコキシアルキル基または−Ｓ
ｉＲ⁵ Ｒ⁶ Ｒ⁷ （Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ およびＲ⁷ はそれぞれ炭素
数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のフェニル基
を示す。）を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。〕で表わ
される鎖状テルペン類。 【効果】 本発明の化合物より、毒性の高いセレンを使
用する末端位メチル基の酸化工程を経ることなく、抗発
癌プロモーター作用及び抗腫瘍作用を有するザルコフィ
トールＡを合成できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は新規な鎖状テルペン類に
関する。詳しくは、本発明の化合物は抗発癌プロモータ
ー作用（Ｃａｎｃｅｒ Ｓｕｒｖｅｙｓ，２，５４０
（１９８３）；代謝、ｖｏｌ２５臨時増刊号癌’８８，
３（１９８８）．）及び抗腫瘍作用（特公昭６３−２０
２１３号公報）を有するザルコフィトールＡまたは類似
の効果の期待されるその立体異性体製造のための重要な
中間体である鎖状テルペン類に関する。

【０００２】

【従来の技術及びその課題】下記（II）式

【０００３】

【化２】

【０００４】で表わされるザルコフィトールＡは、その
１４員環中に１つの共役二重結合を含む計４つの二重結
合を有するセンブラン型ジテルペンアルコールである。
従来、ザルコフィトールＡの合成法は本発明者らによる
ものが唯一報告されているのみであった（特願平３−４
８６３３号公報；Ｔｅｔｒａｈｅｄｏｎ Ｌｅｔｔｅｒ
ｓ，３１，３３１７（１９９０）参照）。この製造ルー
トによって、ザルコフィトールＡを工業的に製造しよう
とする場合、収率、選択性共に低い上に、毒性の高いセ
レン化合物を使用する必要のある、末端位メチル基の酸
化工程を避けて通れないという大きな課題があった。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、工業的に
より有利な方法によって光学活性ザルコフィトールＡを
大量かつ安価に製造、供給することを目的として鋭意検
討した結果、本発明の鎖状テルペン類が上記の問題点を
解決できる新規な製造ルートにおける有用な中間体であ
ることを見い出し本発明に到達した。即ち、本発明の要
旨は、 下記一般式（Ｉ）

【０００６】

【化３】

【０００７】〔上記式中、Ｒ¹ はホルミル基、−ＣＨ
（ＯＲ³)₂ （Ｒ³ は炭素数１〜４のアルキル基を示
す。）または−ＣＨ（ＣＮ）（ＯＲ⁴)（Ｒ⁴ は水素原
子、１−アルコキシアルキル基またはトリメチルシリル
基を示す。）を示し、Ｒ²は水素原子、１−アルコキシ
アルキル基または−ＳｉＲ⁵ Ｒ⁶ Ｒ⁷ （Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ およ
びＲ⁷ はそれぞれ炭素数１〜４のアルキル基またはフェ
ニル基を示す。）を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。〕
で表わされる鎖状テルペン類に存する。

【０００８】以下、本発明につき詳細に説明する。上記
の定義において、Ｒ¹ の示す基−ＣＨ（ＯＲ³)₂ におけ
るＲ³ の示す炭素数１〜４のアルキル基としては、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ
−ブチル基等が挙げられ、基−ＣＨ（ＣＮ）（ＯＲ⁴)に
おけるＲ⁴ の示す１−アルコキシアルキル基としては１
−エトキシエチル基、１−ｎ−プロポキシエチル基、１
−ｎ−ブトキシエチル基等が挙げられる。

【０００９】上記の定義において、Ｒ² の示す２−アル
コキシアルキル基としてはメトキシメチル基、１−エト
キシエチル基、１−ｎ−プロポキシエチル基等が挙げら
れ、基−ＳｉＲ⁵ Ｒ⁶ Ｒ⁷としては、ｔ−ブチルジメチ
ルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、ｔ−ブチルジ
フェニルシリル基等が挙げられる。また、Ｘとしては塩
素原子、臭素原子等が挙げられる。

【００１０】以下に上記一般式（Ｉ）で表わされる好ま
しい化合物の具体例を示す。

【００１１】

【表１】

【００１２】

【表２】

【００１３】

【表３】

【００１４】（Ｍｅはメチル基を、Ｂｕはブチル基を示
す）次に本発明の化合物の製法について説明する。一般
式（Ｉ）で表わされる化合物は、たとえば文献既知
（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５２，３８６０（１９８
７）参照）の化合物（Ａ）から誘導できる化合物（Ｃ）
を出発原料として下記の合成ルートに従って製造でき
る。

【００１５】

【化４】

【００１６】（上記式中、Ａｃはアセチル基を示し、Ｘ
およびＲ² 〜Ｒ⁴ は上記一般式（Ｉ）中で定義したのと
同義を示す。）すなわち、化合物（Ａ）に、メタノー
ル、エタノール等の溶媒中、１〜２当量の金属アルコキ
シドを−５０〜５０℃にて作用させるエステル交換の方
法、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン等の
溶媒中０．５〜１０当量の水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等の水溶液または粉末炭酸カリウムなどを−５０
〜５０℃にて作用させる加水分解の方法、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ｎ−ヘキサン、トルエン等
の溶媒中−７０〜５０℃にて０．５〜１０当量の水素化
アルミニウムリチウム等の金属水素錯化合物または水素
化ジイソブチルアルミニウム等の金属水素化物を作用さ
せる還元反応による方法などにより化合物（Ｂ）を製造
できる。

【００１７】化合物（Ｂ）に、塩化メチレン、クロロホ
ルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の炭化
水素系溶媒またはエチルエーテル、酢酸エチル等の溶媒
中、重量比で５〜２倍の粉末二酸化マンガン、マンガン
酸バリウム等の酸化剤を−５０〜５０℃で、１〜５０時
間作用させる方法などにより化合物（Ｃ）を製造でき
る。

【００１８】（１）上記一般式（Ｉ）のうち、Ｒ¹ ＝−
ＣＨ（ＯＲ³)₂ ，Ｒ² ＝水素原子で表わされる上記化合
物（Ｅ）の製造方法。 下記（Ｊ）式

【００１９】

【化５】

【００２０】で表わされる既知の２−ブロモ−２−ブテ
ナールのアセタールに、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン等のエーテル系溶媒中、−１００〜５０℃で、
０．１〜１．２当量のｎ−ブチルリチウム、ｉ−ブチル
リチウムなどの有機金属を加えることにより上記化合物
（Ｄ）が製造でき、これに上記の方法で製造できる化合
物（Ｃ）を−１００〜５０℃で作用させたものを加水分
解することにより製造できる。

【００２１】（２）上記一般式（Ｉ）のうち、Ｒ¹ ＝−
ＣＨ（ＯＲ³)₂ ，Ｒ² ＝１−アルコキシアルキル基また
は−ＳｉＲ⁵ Ｒ⁶ Ｒ⁷ で表わされる上記化合物（Ｆ）の
製造方法。例えば、上記（１）の製造方法で製造した上
記化合物（Ｅ）に、塩化メチレン、クロロホルム等のハ
ロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
等のエーテル系溶媒または酢酸エチル等の溶媒中、触媒
としての塩酸、硫酸等の鉱酸、パラトルエンスルホン
酸、カンファースルホン酸等の有機スルホン酸あるいは
パラトルエンスルホン酸のピリジニウム塩等の強酸の塩
の存在下、０．５〜１０当量のエチルビニルエーテル、
ジヒドロピラン等のビニルエーテル類を−２０〜１００
℃にて作用させる方法、または−２０〜１００℃で、
０．５〜１０当量のクロロメチルメチルエーテル、クロ
ロメチル−２−メトキシエチルエーテル等の１−ハロア
ルキルエーテル類を、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル、ジメチルホルムアミド等の溶媒中、あるいは無
溶媒で、０．５〜１０当量の水素化ナトリウム、水素化
カリウム等の金属水素化物、トリエチルアミン、ピリジ
ン、ジイソプロピルアミン等のアミン類などを塩基とし
て共に作用させる方法、または０．１〜１０当量のトリ
メチルクロロシラン、ジメチル−ｔ−ブチルクロロシラ
ン等のクロロシラン類を塩化メチレン、クロロホルム等
のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ベンゼン等の炭化水素系
溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエー
テル系溶媒または酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒中、
０．１〜１０当量のトリエチルアミン、ジメチルアミノ
ピリジン、イミダゾール等の含窒素化合物、あるいは水
素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物を塩
基として−２０〜１００℃で５分〜２４時間共に作用さ
せる方法により製造できる。

【００２２】（３）上記一般式（Ｉ）のうち、Ｒ¹ ＝ホ
ルミル基で表わされる上記化合物（Ｇ）の製造方法。上
記（２）の製造方法で製造した上記化合物（Ｆ）にテト
ラヒドロフラン、メタノール、エタノール等の溶媒中、
０．１〜３当量の塩酸、硫酸等の鉱酸水溶液を０℃〜室
温で５分〜２４時間作用させるなどの方法により製造で
きる。上記化合物（Ｆ）のＲ² が１−アルコキシアルキ
ル基である場合には１−アルコキシアルキル基のあるも
のは加水分解され、Ｒ² ＝水素原子である化合物を与え
る。

【００２３】（４）上記一般式（Ｉ）のうちＲ¹ ＝−Ｃ
Ｈ（ＣＮ）（ＯＲ⁴)で表わされる上記化合物（Ｈ）の製
造方法。上記（３）の製造方法で製造した上記化合物
（Ｇ）に塩化メチレン、クロロホルム、酢酸エチルなど
の溶媒中または無溶媒で、１〜１０当量のトリメチルシ
リルニトリルを触媒としてのシアン化金属−１−８−ク
ラウン−６−エーテル錯体の存在下で、−２０〜５０℃
で、３０分〜５時間作用させる方法などによりＲ⁴ ＝ト
リメチルシリル基で表わされる化合物を製造できる。こ
の化合物をテトラヒドロフラン、メタノール等の溶媒に
溶解後、０．１〜３当量の塩酸、硫酸等の鉱酸水溶液を
０℃〜室温で、５分〜５時間作用させる方法、又はテト
ラヒドロフラン、ジオキサン等の溶媒中、−２０℃〜室
温で、１〜１０当量のフッ化テトラブチルアンモニウム
等のテトラアルキルアンモニウム類を作用させる方法な
どによってＲ⁴ ＝水素原子で表わされる化合物（シアノ
ヒドリン体）を製造できる。Ｒ ⁴ ＝１−アルコキシアル
キル基で表わされる化合物は、上記シアノヒドリン体
に、エチルエーテル、酢酸エチル等の溶媒中１〜１０当
量のエチルビニルエーテル等を触媒としての塩酸、硫酸
などの鉱酸、パラトルエンスルホン酸などの有機強酸あ
るいはパラトルエンスルホン酸のピリジニウム塩などの
強酸の塩の存在下、−２０℃〜室温で、３０分〜５時間
作用させるなどの方法により製造できる。

【００２４】本発明の上記化合物（Ｈ）から、たとえば
下記の合成ルートにより、前述した既存の製造法の問題
点なくザルコフィトールＡを製造できる。 ザルコフィトールＡの合成ルート（例）

【００２５】

【化６】

【００２６】（Ｒ² ，Ｒ⁴ は前記で定義した通りであ
る。）すなわち、たとえば上記（４）の製造方法で製造
できる上記化合物（Ｈ）のうち、Ｒ² ＝メトキシメチル
基、Ｒ⁴ ＝１−アルコキシアルキル基またはトリメチル
シリル基で表わされる化合物にエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素系溶媒又はｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプ
タン等の飽和炭化水素系溶媒中、１〜１０当量のリチウ
ムジイソプロピルアミド、リチウムビス（トリメチルシ
リル）アミド、水素化ナトリウムなどの塩基を、−７０
〜１００℃で、５分〜１０時間作用させる方法などによ
り上記化合物（Ｋ）が製造でき、これにテトラヒドロフ
ラン、メタノールなどの溶媒中、０．１〜３当量の塩
酸、硫酸等の鉱酸水溶液を０℃〜室温で、５分〜５時間
作用させる方法、又はテトラヒドロフラン、ジオキサン
等の溶媒中、−２０℃〜室温で、１〜１０当量のフッ化
テトラブチルアンモニウム等のテトラアルキルアンモニ
ウム類を作用させる方法などにより、化合物（Ｋ）で表
わされ、Ｒ⁴ が水素原子である化合物を製造できる。

【００２７】上記化合物（Ｋ）にそのエチルエーテル、
酢酸エチル等の有機溶媒の溶液を炭酸水素ナトリウムあ
るいは水酸化ナトリウムの水溶液を０℃〜室温で、５分
〜５時間作用させるなどの操作によって、あるいは、上
記化合物（Ｋ）においてＲ⁴ がトリメチルシリル基で表
わされる化合物に、含水テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等の溶媒中、１〜１０当量のフッ化テトラブチルアン
モニウム等のフッ化アルキルアンモニウム類を作用させ
る方法などにより直接、ケトン体である上記化合物
（Ｌ）に変換できる。

【００２８】続いて上記化合物（Ｌ）に、たとえば０．
５〜１０当量のジメチル銅リチウムを−１００℃〜室温
で、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル系溶媒中作用させる方法などにより上記化合物（Ｍ）
を製造でき、これにエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族
炭化水素系溶媒又はｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の飽
和炭化水素系溶媒中−７０℃〜５０℃で、水素化ジブチ
ルアルミニウム等の金属水素化物、水素化アルミニウム
リウチム等の金属錯化合物を１〜１０当量、５分〜５時
間作用させる方法などにより上記（II）式で表わされる
ザルコフィトールＡを製造できる。

【００２９】本発明の化合物を中間体とする上記したザ
ルコフィトールＡ合成ルートはザルコフィトールＡの製
造のための工業上優れたルートであり、従って本発明の
化合物はその目的のために極めて重要な合成中間体であ
る。

【００３０】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実
施例により限定を受けるものではない。 合成例１

【００３１】

【化７】

【００３２】上記（１）式で表わされるアルコール体
〔Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５１巻２２号、４３１６〜
４３１９項（１９８６）に記載〕（４．５５ｇ）をＣＨ
₃ ＣＮ（５０ml）に溶解し、トリフェニルホスフィン
（５．５ｇ）を加えた。０℃冷却下、ＣＢｒ₄ （７ｇ）
を３回に分け、５分ごとに加えた。反応の完結を確認し
た後、濃縮し、ヘキサンを加え、充分撹拌し、セライト
でろ過、濃縮後得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：エチルエーテル＝
９８：２）にて精製し、目的とする上記（２）式で表わ
される化合物（７ｇ）を合成した。

【００３３】 ¹Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ） δ＝１．５８（ｓ，３Ｈ），１．７０（ｓ，３Ｈ），
１．７４（ｓ，３Ｈ），２．０５（ｂｒｓ，１１Ｈ），
３．９６（ｓ，２Ｈ），４．５８（ｄ，Ｊ＝７．０３Ｈ
ｚ，２Ｈ），５．０９（ｍ，１Ｈ），５．３３（ｍ，１
Ｈ），５．５６（ｍ，１Ｈ） 合成例２

【００３４】

【化８】

【００３５】上記（２）式で表わされるアセテート（７
ｇ）をメタノール（１００ml）に溶解し、０℃冷却下Ｋ
₂ ＣＯ₃ （６．７ｇ）を加え充分撹拌した。１時間後、
反応の完結を確認し、水、飽和食塩水で洗浄した後、エ
ーテル層を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃
縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒、ヘキサン：エチルエーテル＝１：１）にて
精製し、目的とする上記（３）式で表わされる化合物
（７．３７ｇ）を合成した。

【００３６】 ¹Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ） δ＝１．６０（ｓ，３Ｈ），１．６７（ｓ，３Ｈ），
１．７４（ｓ，３Ｈ），２．０５（ｂｒｓ，８Ｈ），
３．９７（ｓ，２Ｈ），４．１５（ｄ，Ｊ＝６．８１Ｈ
ｚ，２Ｈ），５．１０（ｍ，１Ｈ），５．４０（ｍ，１
Ｈ），５．５６（ｍ，１Ｈ） 合成例３

【００３７】

【化９】

【００３８】上記（３）式で表わされるヒドロキシブロ
ム体（７．３７ｇ）を、ベンゼン（１ml）と塩化メチレ
ン（１ml）の混合液に溶解し、二酸化マンガン（１４
ｇ）を少しずつ加え、室温で２０時間撹拌した。反応の
完結を確認した後セライトでろ過し、濃縮して得た残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘ
キサン：エチルエーテル＝９８：２）にて精製し、目的
とする上記（４）式で表わされる化合物（１．８６ｇ、
合計収率３８％）を合成した。

【００３９】 ¹Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ） δ＝１．６０（ｓ，３Ｈ），１．７４（ｓ，３Ｈ），
２．０５（ｂｒｓ，１１Ｈ），３．９５（ｓ，２Ｈ），
５．０８（ｂｒｓ，１Ｈ），５．５６（ｂｒｓ，１
Ｈ），５．８０（ｂｒｓ，１Ｈ） ９．９７（ｄ，Ｊ＝
７．９１Ｈｚ，１Ｈ） 合成例４

【００４０】

【化１０】

【００４１】上記（５）式で表わされるクロトンアルデ
ヒド（１０ml）を塩化メチレン（４５ml）に溶解し、ヒ
ドロキノン（５０ml）を加えた後、０℃冷却下臭素
（６．２ml）を塩化メチレン（４５ml）に溶解したもの
を６時間かけてゆっくり滴加した。これに０℃冷却下で
酢酸カリウム（１７．８ｇ）を加え、室温で一晩静置し
た。これにエーテルを加え、水と飽和食塩水で洗浄し、
エーテル層を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
濃縮して目的とする上記（６）式で表わされる化合物
（１７ｇ）を合成した。

【００４２】 ¹Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ） δ＝２．１５（ｄ，Ｊ＝６．４８Ｈｚ，３Ｈ），７．２
０（ｄ，Ｊ＝６．４８Ｈｚ，１Ｈ），９．２１（ｓ，Ｊ
Ｈ） 合成例５

【００４３】

【化１１】

【００４４】上記（６）式で表わされるホルミル体（１
７ｇ）をエタノール（１００ml）に溶解し、（Ｃ₂ Ｈ₅
Ｏ）₃ ＣＨ（２４ml）、パラトルエンスルホン酸を少量
加え室温で撹拌した。１５時間後、エーテルで希釈し、
水、水性ＮａＨＣＯ₃ 、飽和食塩水の順に洗浄した後エ
ーテル層を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
これを濃縮した後、減圧蒸留（４９〜５３℃／３mmHg）
により目的とする上記（７）式で表わされる化合物（１
５．３１ｇ合計収率５７％）を合成した。

【００４５】 ¹Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ） δ＝１．３１（ｔ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，６Ｈ），１．５
０（ｄｄ，Ｊ＝０．８８Ｈｚ，Ｊ＝６．５９Ｈｚ，３
Ｈ），３．５５（ＡＢＸｍ，４Ｈ），４．７８（ｂｒ
ｓ，１Ｈ），６．３０（ｄｑ，Ｊ＝０．８８Ｈｚ，Ｊ＝
６．５９Ｈｚ，１Ｈ） 実施例１

【００４６】

【化１２】

【００４７】アルゴン雰囲気下、上記（７）式で表わさ
れるアセタール（１．２６ｇ）にヘキサン（１５ml）を
加え、−７８℃冷却下ノルマルブチルリチウム（１．８
５ml，１．１当量）を徐々に加えた。その後−４０℃ま
で昇温し、１時間後アセタールがなくなっていることを
ガスクロマトグラフィーで確認した後、−７８℃に冷却
し、上記（４）で表わされるホルミル体（８４３mg）を
テトラヒドロフラン（２ml）に溶解したものをゆっくり
滴加した。３０分後−７８℃冷却下水性ＮＨ₄ Ｃｌによ
りクエンチした後エーテルで抽出した。これを飽和食塩
水で洗浄し、エーテル層を分離し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：エチルエーテル
＝９８：２）にて精製し、目的とする上記（９）式で表
わされる化合物（９７３．２mg）を得た。

【００４８】 ¹Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ） δ＝１．１０〜１．４０（ｍ，６Ｈ），１．５８（ｓ，
６Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ），１．７７（ｄ，Ｊ＝
６．３０Ｈｚ，３Ｈ），２．０５〜２．２０（ｂｒｍ，
８Ｈ），３．２０〜３．８０（ｍ，４Ｈ），３．９７
（ｓ，２Ｈ），４．９０（ｂｒｓ，１Ｈ），５．００〜
５．６０（ｍ，４Ｈ），５．６８（ｑ，Ｊ＝６．３０Ｈ
ｚ，１Ｈ） 実施例２

【００４９】

【化１３】

【００５０】上記（１０）式で表わされるアルコール
（９７３．２mg）を塩化メチレン（１．２ml）に溶解
し、０℃、アルゴン雰囲気下ジイソプロピルエチルアミ
ン（１．５３ml、４当量）およびＣＨ₃ ＯＣＨ₂ Ｃｌ
（０．３４ml，２当量）を加え室温にし、１時間後エー
テルで希釈した。水性１Ｎ塩酸、水性ＮａＨＣＯ₃ 、飽
和食塩水の順に洗浄した後エーテル層を分離し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して目的とする上記（１
１）式で表わされる化合物（７４６mg）を得た。

【００５１】 ¹Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ） δ＝１．００〜１．３０（ｍ，６Ｈ），１．５７（ｓ，
６Ｈ），１．７２（ｓ，３Ｈ），１．８０（ｄ，Ｊ＝
７．８０Ｈｚ，３Ｈ），２．０５（ｂｒｓ，８Ｈ），
３．３５（ｓ，３Ｈ），３．２５〜３．６０（ｍ，４
Ｈ），４．００（ｓ，２Ｈ），４．５７（ｓ，２Ｈ），
４．８０（ｓ，１Ｈ），５．００〜５．２０（ｍ，３
Ｈ），５．３０〜５．６０（ｍ，１Ｈ），５．９２
（ｑ，Ｊ＝７．８０Ｈｚ，１Ｈ） 実施例３

【００５２】

【化１４】

【００５３】上記（１１）式で表わされるアセタール
（７４６mg）をメタノール（１２ml）、水（３ml）に溶
解し、室温で硫酸銅（１００mg）を加えて撹拌した。１
時間後、エーテルで希釈し、水、水性ＮａＨＣＯ₃ 、飽
和食塩水の順に洗浄し、エーテル層を分離し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後濃縮して得た残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：エチル
エーテル＝９：１〜１：１）にて精製し、目的とする上
記（１２）式で表わされる化合物（６９１．２mg、合計
収率５９％）を得た。

【００５４】 ¹Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ） δ＝１．５５（ｓ，６Ｈ），１．７２（ｓ，３Ｈ），
２．１５（ｄ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，３Ｈ），２．１０〜
２．１５（ｂｒｍ，８Ｈ），３．３３（ｓ，３Ｈ），
４．００（ｓ，２Ｈ），４．４８，４．４５（ｄｄ，２
Ｈ），４．９８〜５．２０（ｂｒｍ，１Ｈ），５．４４
（ｂｒｓ，３Ｈ） ６．６７（ｑ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ，
１Ｈ），９．３５（ｓ，１Ｈ） 実施例４

【００５５】

【化１５】

【００５６】上記（１２）式で表わされるホルミル体
（６９１．２mg）を、０℃冷却下トリメチルシリルニト
リル（０．２２ml）、シアン化カリウム１８クラウン６
エーテルを少量加えた。２時間後、反応を完結させ、０
℃冷却下テトラヒドロフラン（１０ml）、水性１Ｎ塩酸
（２ml）を加えた。２０分後エーテルで希釈し、水で洗
浄後エーテル層を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、濃縮した。これをベンゼン（１０ml）に溶解し、０
℃冷却下エチルビニルエーテル（０．２５ml）を加え、
パラトルエンスルホン酸を少量加えた。５０分撹拌した
後、０℃冷却下エーテルで希釈し、水、水性ＮａＨＣＯ
₃ 、飽和食塩水の順に洗浄し、エーテル層を分離し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮して得た残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキ
サン：エチルエーテル＝９：１〜１：１）にて精製し、
目的とする上記（１３）式で表わされる化合物（４６６
mg、合計収率５４％）を得た。

【００５７】 ¹Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ） δ＝１．２５（ｍ，６Ｈ），１．５９（ｂｒｓ，６
Ｈ），１．７２（ｓ，３Ｈ），２．０５（ｂｒｍ，１１
Ｈ），３．３５（ｓ，３Ｈ），３．３５〜３．９９
（ｍ，２Ｈ），４．００（ｓ，２Ｈ），４．５０（ｂｒ
ｓ，２Ｈ），４．８０〜５．２０（ｂｒｍ，２Ｈ），
５．４０〜５．７０（ｂｒｍ，１Ｈ），６．４８（ｑ，
１Ｈ） ＩＲ（ｆｉｌｍ）cm^-1：２９６８，２９２６，１７２
８，１６８９，１６６１，１４４４，１３８０，１２６
７，１１４７，１０９４，１０３１，９３３，８７９ 参考例１

【００５８】

【化１６】

【００５９】アルゴン雰囲気下、ヘキサメチルジヒラザ
ン〔ＮＨ（ＴＭＳ）₂ 〕（０．０８７ml）とテトラヒド
ロフラン（２ml）の混合液中に、０℃冷却下ノルマルブ
チルリチウム（０．２３ml，９．５当量）を徐々に加え
た。０℃冷却下３０分撹拌した後、６０℃にて加熱還流
しながら、アリルクロリド（２１．１mg）をテトラヒド
ロフラン（２ml）に溶解したものを２時間かけてゆっく
りと滴加した。これをＮＨ₄ Ｃｌでクエンチし、エーテ
ルで抽出し、飽和食塩水で洗浄し、エーテルを分離し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮して得た残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキサ
ン：エチルエーテル＝９：１〜１：１）にて精製し、目
的とする上記（１４）式で表わされる化合物（１０．７
mg、合計収率６２％）を得た。

【００６０】 ¹Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ） δ＝１．２５（ｍ，６Ｈ），１．４７（ｓ，３Ｈ），
１．５６（ｂｒｓ，６Ｈ），１．９５（ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ，３Ｈ），２．００（ｂｒｓ，８Ｈ），２．１６（ｂ
ｒｓ，２Ｈ），３．３６（ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ，３Ｈ），
３．４０〜３．８０（ｑ，２Ｈ），４．５２，４．６３
（ｄｄ，２Ｈ），４．８０〜５．４０（ｂｒｍ，３
Ｈ），５．７０（ｍ，２Ｈ） ６．１２（ｑ，１Ｈ） 参考例２

【００６１】

【化１７】

【００６２】上記（１４）式で表わされる環化シアノヒ
ドリンエーテル体（２０１mg）をテトラヒドロフラン
（２ml）、８０％酢酸に溶解し、室温で撹拌した。２７
時間後エーテルで希釈し、２％水性ＮａＯＨで強く洗浄
した。シアンヒドリンがケトンにもどった後、水、飽和
食塩水で洗浄し、エーテル層を分離し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：エチル
エーテル＝９：１〜１：１）にて精製し、目的とする上
記（１５）式で表わされる化合物（４５．６mg、合計収
率２５％）を得た。

【００６３】 ¹Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ） δ＝１．５０（ｓ，３Ｈ），１．６６（ｓ，３Ｈ），
１．６７（ｓ，３Ｈ），２．００〜２．１５（ｂｒｓ，
８Ｈ ａｎｄ ｄ，Ｊ＝７．１４Ｈｚ，３Ｈ），３．２
０（ＡＢｑ，Ｊ＝１４．６２Ｈｚ，２Ｈ），３．３５
（ｓ，３Ｈ），４．５０（ｄ，Ｊ＝６．５９Ｈｚ，１
Ｈ），４．６０（ｄ，Ｊ＝６．５３Ｈｚ，１Ｈ），４．
８０（ｂｒｍ，２Ｈ），５．５５（ＡＢｑ，２Ｈ），
６．７５（ｑ，Ｊ＝７．３６Ｈｚ，１Ｈ） ＩＲ（ｆｉｌｍ）cm^-1：３３８０，２９２０，１６５
８，１４４０，１３８３，１２９０，１２６１，１２１
４，１１４９，１０９４，１０４２，９２０ 参考例３

【００６４】

【化１８】

【００６５】常法により精製したヨウ化銅（４５mg）に
アルゴン雰囲気下エチルエーテル（１ml）を加え、−７
８℃冷却下メチルリチウム（０．４５ml，１．０５当
量）を加えた。０℃に昇温後、３０分撹拌し、再び−７
８℃に冷却し、これに上記（１５）式で表わされるメト
キシメチルエーテル（４５．６mg）をエチルエーテル
（０．２ml）に溶解したものをゆっくり滴加した。１時
間後、水性ＮＨ₄ Ｃｌでクエンチし、エーテルで抽出
し、飽和食塩水で洗浄した。エーテル層を分離し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮して得た残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒、ヘキサン：エ
チルエーテル＝１９：１）にて精製し、目的とする上記
（１６）式で表わされる化合物（７．３mg、合計収率２
１．４％）を得た。

【００６６】 ¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ） δ＝１．０８（ｄ，Ｊ＝６．８７Ｈｚ，６Ｈ），１．４
６（ｓ，３Ｈ），１．７２（ｓ，３Ｈ），１．７７
（ｓ，３Ｈ），２．１０（ｂｒｓ，８Ｈ），２．６７
（ｓｅｐｔ，１Ｈ），３．１５（ｓ，２Ｈ），４．９４
（ｔ，Ｊ＝６．８７Ｈｚ，１Ｈ），５．００（ｔ，Ｊ＝
６．３１Ｈｚ，１Ｈ），５．８８（ｄ，Ｊ＝１１．８８
Ｈｚ，１Ｈ），６．２１（ｄ，Ｊ＝１１．８８Ｈｚ，１
Ｈ） 参考例４

【００６７】

【化１９】

【００６８】アルゴン雰囲気下、上記（１６）式で表わ
されるケトン体（１３７mg，０．４８mmol）の乾燥トル
エン２．５ml溶液に、−７０℃の冷媒浴上撹拌しなが
ら、水素化ジイソブチルアルミニウムの１Ｍトルエン溶
液０．６mlを滴加した。１時間後、原料の消失を確認
し、０．２５mlの水を加え、浴をはずしよく撹拌した。
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、撹拌し、濾過後、濃縮
して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１２：１）に
て精製し、目的とする上記（II）式で表わされるザルコ
フィトールＡ（１２５mg，８８％）を得た。

【００６９】

【発明の効果】本発明の化合物は、抗発癌プロモーター
作用及び抗腫瘍作用を有するザルコフィトールＡの合成
中間体として、極めて有用である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（Ｉ） 【化１】 〔上記式中、Ｒ¹ はホルミル基、−ＣＨ（ＯＲ³)₂ （Ｒ
   ³ は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）または−ＣＨ
   （ＣＮ）（ＯＲ⁴)（Ｒ⁴ は水素原子、１−アルコキシア
   ルキル基またはトリメチルシリル基を示す。）を示し、
   Ｒ² は水素原子、１−アルコキシアルキル基または−Ｓ
   ｉＲ⁵ Ｒ⁶ Ｒ⁷ （Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ およびＲ⁷ はそれぞれ炭素
   数１〜４のアルキル基またはフェニル基を示す。）を示
   し、Ｘはハロゲン原子を示す。〕で表わされる鎖状テル
   ペン類。