JPH0348633A

JPH0348633A - 鎖状テルペン系化合物

Info

Publication number: JPH0348633A
Application number: JP18171089A
Authority: JP
Inventors: Hisao Takayanagi; 久男高柳; Yasunori Kitano; 靖典北野; Yasuhiro Morinaka; 盛中　泰洋
Original assignee: Mitsubishi Kasei Corp
Current assignee: Mitsubishi Kasei Corp
Priority date: 1989-07-14
Filing date: 1989-07-14
Publication date: 1991-03-01

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は新規な鎖状テルペン系化合物に関するものであ
る。詳しくは本願発明の化合物は抗発癌プロモーター作
用（Ｃａｎｃｅｒ　　５ｕｒｖｅｙｓ、２，５４０　（
１９８３）；代謝、ｖｏ１２５臨時増刊号　癌’８８．
３　（１９８Ｂ）、）及び抗腫瘍作用（特開昭５６−６
１３１７号公報）を有するザルコツイトールＡの全合成
のための重要な中間体である特定の鎖状テルペン系化合
物に関するものである。

（従来の技術及び発明が解決しようとする問題点）下記
式で表わされるザルコツイトールＡはその１４員環中に
一つの共役二重結合を含む４つの二重結合を有する特異
な構造のセンブレン型大環状ジテルペンアルコールであ
り、その合成例は今まで知られていなかった。センブレ
ン型ジテルペノイドの合成例としては下記式で表わされ
るザルコツイトールＢが唯−知られている（テトラヘド
ロンレター、１Ｌ７３　　（１９８９））。しかしこの
合成法では１，２−ジオールが生成物であり、ザルコツ
イトールへの合成に適用することはできない。

（問題点を解決するための手段）そこで本発明者らはザルコツイトールＡの合成法につい
て鋭意検討した結果、本発明の鎖状テルペン系化合物が
ザルコツイトールＡの合成のための有用な中間体である
ことを見い出し、本発明に到達した。

ザルコツイトールＡ　　　ザルコツイトールＢ即ち、本
発明の要旨は、下記一般式（Ｉ）〔式中、Ｒは−ＣＯ，Ｒ’　　（Ｒ１はＣ＋　〜Ｃ４（
７）低級アルキル基又はフェニル基を示す。）、ヒト？
Ｎロキシメチル基、ホルミル基又は−ＣＨＯＲ”（Ｒ”は
水素原子、トリメチルシリル基又は１エトキシエチル基
を示す。）を表わし、Ｘはハロゲン原子又は−０３Ｏ！
　Ｒ３（Ｒ３はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ
，−Ｃ，の低級アルキル基又はｃ、−Ｃ４の低級アルキ
ル基で置換されていてもよいフェニル基を示す。）を表
わす。

また式中、二重結合Δ２．Δ４．Δ８及びΔ′２のうち
、Δ８及びΔ”２はＥ型の立体配置をとり、共役二重結
合を形成しているΔ２及びΔ４はそれぞれ独立して（Ｚ
、Ｅ）型、（Ｅ、Ｅ）型、（Ｚ。

Ｚ）型又は（Ｅ、Ｚ）型の立体配置をとる。〕で表わさ
れる鎖状テルペン系化合物に存する。

以下、本発明について説明する。

本発明に係わる化合物は前記一般式（Ｉ）で表わされる
。

式中、Ｒが−Ｃｏ、Ｒ’　の場合、Ｒ１の低級アルキル
基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基が挙げられ、式中、Ｒが一〇ＳＯ。

Ｒ３の場合、Ｒ３のハロゲン原子で置換されていてもよ
い低級アルキル基としては、メチル基、トリフロロメチ
ル基、トリクロロメチル基、トリクロロエチル基、ジフ
ルオロプロピル基等が挙げられ、Ｒ３のＣ５〜Ｃ４の低
級アルキル基で置換されていてもよいフェニル基として
は、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基等が挙げら
れる。また上記−紋穴（Ｉ）中の二重結合６２．６４．
６日及びΔ１２に関して、Δ８及びΔＩｔはいづれもＥ
型の立体配置であり、共役の二重結合を形成しているΔ
２及びΔ４はそれぞれ独立して（Ｅ、Ｅ）型、（Ｚ、　
　Ｚ）型、（Ｅ、　　Ｚ）型又は（Ｚ、　Ｅ）型の立体
配置をとる。

上記一般式（Ｉ）で示される化合物の内ＲがＣｏ、Ｒ’
　のものは１４−置？Ａ−２−（１−メチルエチル）−
５，９，１３１リメチル２．４Ｂ、１２−テトラデカテ
トラエノン酸エステル類であり、具体例を示せばなどが挙げられ、Ｒがヒドロキシメチル基のものは１４
−置換−２−（１−メチルエチル）−５９，１３−トリ
メチル２，４，８．１２−テトラデカテトラエン−１−
オールであり、具体例を示せば置換−２−（ｌ−メチルエチル）−５，９，１３−トリ
メチル２，４，８．１２−テトラデカテトラエナールで
あり具体例を示せばＸ　　　Ｃｌ　＋　　Ｂ　ｒ　、　　ＯＭｓ　　＋　　
ＯＴｓなどが挙げられ、Ｒがホルミル基のものは１４−
Ｘ　　　Ｃｌ、　　Ｂ　ｒ、　　ＯＭｓ　　ｌ　ＯＴｓ
Ｎなどが挙げられ、Ｒが−ＣＨ０Ｒ２の場合は１５−置換
−２−ヒドロキシ−３−（１−メチルエチル）−６，１
０，１４−トリメチル３，５，９゜１３−ペンタデカテ
トラエンニトリルおよびその誘導体であり具体例を示せ
ばが挙げられる。

次に本発明の化合物の製法について説明する。

本発明に係わる化合物の内、一般式（Ｉ）においてＲが
−ＣＯｚ　Ｒ’で表わされる１４−置換一２−（１−メ
チルエチル）−５，９，１３−）ツメチル２，４，８．
１２−テトラデ力テトテエノン酸エステル類は、例えば
、文献既知（テトラヘドロンレター、１１７３　　（１
９８９）、参照）の１４−ヒドロキシ−２−（１−メチ
ルエチル）−５゜９．１３−トリメチル２，４，８．１
２−テトラデカテトラエノン酸エステルより、アリルア
ルコールをアリル転位することなくハロゲン化する方法
、例えば当量〜１０当量の四ハロゲン化炭素を当量〜ｌ
Ｏ当量のトリフェニルホスフィンの存在下、アセトニト
リル等の不活性溶媒中、あるいはクロル化の場合は四塩
化炭素を溶媒兼用で用い、室温から１００℃の温度で１
〜８時間反応させる方法、あるいはジメチルホルムアミ
ド等の極性非プロトン性溶媒中、当量から１０当量のメ
タンスルホニルクロリドとハロゲン化金属塩、Ｓ−コリ
ジンを一４０℃から室温で、１〜１０時間作用させる方
法等により製造することができる。また、相当するＸが
一０３Ｏ，Ｒ’の化合物は上記アルコール体をエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、塩化
メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒中、当量〜
１０当量のトリエチルアミン、ピリジン等のアミンの存
在下、あるいはピリジンを溶媒として、−４０℃〜室温
で、１〜１０時間、当量〜１０当量のメタンスルホニル
クロリド、パラトルエンスルホニルクロリド等のスルホ
ン酸塩化物、トリフルオロメタンスルホン酸無水物等の
スルホン酸無水物を作用させる方法などにより製造でき
る。一般式（Ｉ）においてＲがヒドロキシメチル基で表
わされる化合物は、例えば、前記の方法で製造した１４
−置換−２−（１−メチルエチル）−５，９，Ｉｆ−）
ジメチル２．４，８．１２−テトラデカテトラエノン酸
エステル類よりエチルエーテル、テトラヒドロフラン等
のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ヘ
プタン等の溶媒中−７０℃〜５０℃で、水素化ジイソブ
チルアルミニウム等の金属水素化物、水素化アルミニウ
ムリチウム等の金属錯化合物を当量〜１０当量用いる反
応によりエステル基のみを還元することにより製造でき
る。

一般式（Ｉ）においてＲがホルミル基で表わされる化合
物は、例えば、前記の方法で製造した１４−置換−２−
（１−メチルエチル）−５，９゜１３−トリメチル２．
４，８．１２−テトラデカテトラエン−１−オールより
、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘ
キサン、ヘプタン等の炭化水素系溶媒、エチルエーテル
、酢酸エチル等の溶媒中、重量比で５倍〜２０倍の粉末
二酸化マンガン、マンガン酸バリウム等の酸化剤をＯ℃
〜５０℃で、１時間〜５０時間作用させる方法などによ
り製造することができる。一般弐〇Ｎ（１）においてＲが−ＣＨＯＲ”で示される化合物の内
、Ｒ２がトリメチルシリル基である化合物は、たとえば
、前記の方法で製造した１４−置換−（１−メチルエチ
ル）−５，９，１３−１−ジメチル２，４，８．１２−
テトラデカテトラエナールより塩化メチレン、クロロホ
ルム、酢酸エチルなどの溶媒中又は無溶媒で、当量から
１０当量のトリメチルシリルニトリルを触媒量のシアン
化金属−１８−クラウン−６−エーテル錯体の存在下で
、−２０℃〜５０℃で、３０分〜５時間作用させ製造す
ることができ、この化合物をテトラヒドロフラン、メタ
ノール等の溶媒に溶解後、０．１〜３規定の塩酸、硫酸
等の鉱酸水溶液をθ℃〜室温で、５分〜５時間作用させ
る方法、又はテトラヒドロフラン、ジオキサン等の溶媒
中、−２０℃〜室温で、触媒量からＩＯ当量のフッ化テ
トラブチルアンモニウム等のテトラアルキルアンモニウ
ム類を作用させる方法などによってＲ２が水素原子であ
る化合物、シアノヒドリン体、１５−置換−２ヒドロキ
シ−３−（１−メチルエチル）−６゜１０　１４４リメ
チル３．５．Ｌ、１３−ペンタデカテトラエンニトリル
を製造することができる。Ｒ２が１−エトキシエチル基
である一般式（１）で表わされる化合物は、前記シアノ
ヒドリン体より、エチルエーテル、酢酸、エチル等の溶
媒中当量〜１０当量のエチルビニルエーテルを触媒量の
塩酸、硫酸などの鉱酸、パラトルエンスルホン酸などの
有機強酸の存在下、−２０℃〜室温で、３０分〜５時間
作用させるなどの方法により製造することができる。

本発明の化合物から次のルートによって抗発癌プロモー
ター及び抗腫瘍剤として有用なザルコツイトールＡに導
くことができる。

ザルコツイトールＡの合成ルート（例）ザルコフィトー
ルＡすなわち、本発明に係る化合物中、一般式（Ｉ）おいて
Ｒが−ＣＨＯＲ”で示される化合物の内、Ｒ２がトリメ
チルシリル基あるいはｌ−エトキシエチル基で表わされ
る化合物より、エチルエーテル、テトラヒドロフラン等
のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素系溶媒又はｎ−ヘキサン、ｎ−へブタン等の飽和炭
化水素系？容媒中、当量から５当量のリチウムジイソプ
ロピルアミド、ヘキサメチルジシラザンナトリウムアミ
ド、水素化ナトリウムなどの塩基を、−７０°Ｃ〜ｌＯ
Ｏ°Ｃで、５分〜１０時間作用させる方法などにより環
化体、ｌ−ヒドロキシ−２−（１−メチルエチル）、−
５，９，１３−１リメチル２，４゜８．１２−シクロテ
トラデカテトラエン−１−カルボニトリル誘導体を製造
することができる。この環化体より、テトラヒドロフラ
ン、メタノールなどの溶媒中、０．１〜３規定の塩酸、
硫酸等の鉱酸水溶液を０°Ｃ〜室温で、５分〜５時間作
用させる方法、又はテトラヒドロフラン、ジオキサン等
の溶媒中、−２０°Ｃ〜室温で、触媒量からＩＯ当量の
フッ化テトラブチルアンモニウム等のテトラアルキルア
ンモニウム類を作用させる方法などによって１−ヒドロ
キシ−２−（１−メチルエチル）−５，９，１３−１−
リフチル２，４，８．１２−シクロテトラデカテトラエ
ン−１−カルボニトリルを製造することができる。この
シアノヒドリン体は、そのエチルエーテル、酢酸エチル
等の有機溶媒の溶液を炭酸水素すＩ−ＩＪウム水溶液と
０°Ｃ〜室温で、５分〜５時間作用させるなどの簡単な
操作でケトン体、２−（１−メチルエチル）−５゜９．
１３−トリメチル２．４，８．１２−シクロテトラデカ
テトラエン−１−オンに変換することができ、これより
エチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶
媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒又は
ｎ−ヘキサン、ｎ−へブタン等の飽和炭化水素系溶媒中
　−７０°Ｃ〜５０”Ｃで、水素化ジブチルアルミニウ
ム等の金属水素化物又は水素化アルミニウムリチウム等
の金属錯化合物を当量〜５当量、５分〜５時間作用させ
る方法などによりザルコフィトールＡを製造することが
できる。このルートはザルコフィトールＡ製造のための
工業上有利なルートであり、従って本発明の化合物はそ
の目的のために極めて重要な合成中間体である。

以下に実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、
本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例により
限定を受けるものではない。

実施例１ヒドロキシエステル体（１４−ヒドロキシ−２−（１−
メチルエチル）−５，９，１３−トリノチル２，４，８
．１２−テトラデカテトラエノン酸エチル、７１３ｍｇ
、　２．０３　ｍｍｏｌ）の乾燥四塩化炭素（２ｍｊり
溶液に、トリフェニルホスフィン（７８７ｍｇ、　　３
．　ＯＯｍｍｏ４　）を加えかきまぜながら２時間加熱
還流し、原料消失を確認した。室温まで冷却後、ｎ−へ
キサンを加え不溶のトリフェニルホスフィンオキシトを
濾別し、さらにｎ　−ヘキサンにて洗浄した。濾液、洗
液を合わせ濃縮して得た残渣より、微量のトリフェニル
ホスフィンオキシトを除くため再度少量のｎ−ヘキサン
を加え、濾過、洗浄を行なった。濾液、洗液を濃縮して
得た残渣（７２０＋ｗｇ、９６％）は目的とする１４−
クロロ−２−（ｌ−メチルエチル）−５゜９．１３−）
ジメチル２，４，８．１２−テトラデカテトラエノン酸
エチルであったため、精製を行なわずに次の反応にその
まま使用できた。

ＩＲ（ｆ　ｉ　１ｍ）ｃｍ−’；　２９６０，２９４０
，２８７０．１７１０，１６３５，１４４５，１３８５
．１２３０，１１９５，１１４５．１５ＯＮＭＲ（ＣＤＣｌｘ　、　　２５０　ＭＨｚ）　　δｐ
ｐｍ　　；１．０９’（ｄ、Ｊ＝６．９Ｈ２，６Ｈ，−
ＣＨ（ＣＨ，）２）、１．３１　　（ｔ、Ｊ＝７．ＩＨ
２，３Ｈ。

−ＣＨ２ＣＨ：Ｉ　）、１．５７，１゜７０，１．８０
　　（ｅａｃｈ　　ｂｓ、ｅ−ａｃｈ　　３Ｈ，−Ｃ＝
ＣＣＨ３）１．９−２．２　　（ｍ、　　８Ｈ，−ＣＨ
ｘ　ＣＨｚ　−）　、　　２゜７８　　（ｈｅｐ、Ｊ＝
６．９Ｈｚ、　　ＩＨ，ｃＨ（ＣＨ２Ｌ　）、　　３．
９８　（ｂ　ｓ、　　２Ｈ，ＣＨＩ　ＣＡ’）　。

４．２３　（ｑ、Ｊ−７，１Ｈｚ、２Ｈ，−ＣＨ，ＣＨ
３）　　、５．１　　（ｍ、　　ｌ　　肥　−Ｃ＝ＣＣ
Ｈ３５、４７　　（ｂ　ｔ　、　　Ｊ　＝　６．５　Ｈ
ｚ　、　　　Ｃ＝　ＣＨＣＨ２）６．５３．６．５４　
　（ｅａｃｈ　　ｂｄ、Ｊ＝１２．０Ｈｚ、　　ｅ　ａ
　ｃ　ｈ　　　Ｉ　Ｈ，−Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ−）実施
例２ヒドロキシエステル体（１４−ヒドロキシ−２（１−メ
チルエチル）−５，９，１３−トリメチルテトラデカ２
，４，８．１２−テトラエノン酸エチル、７１．０ｍｇ
、　０：２０　ｍｍｏ＃）　、Ｓ−コリジン（２６，７
ｍｇ、　０．２２　ｍ５ｊｏ１）　、塩化リチウム（８
，５ｍｇＸ０．２０　ｍｍｏｌ　）　、ジメチルホルム
アミド１ｍｌの混合物に、窒素雰囲気下、氷水浴上でか
きまぜながらメタンスルホニルクロリド（２５゜２１１
１ｇ、　０．２２　ｍｍｏｌ）を加えた。同温度で５時
間撹拌を続け、原料の消失を確認後、水、エチルエーテ
ルを加え、有機層を分離した。有機層の水洗、乾燥（Ｍ
ｇＳ０４）、濃縮の後得た残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ｎ−へキサン：酢酸エチル＝１０：１
）に付し、目的とする分画部より１４−クロロ−２−（
１−メチルエチル）−５，９，１３−トリメチル２，４
，８．１２−テトラデカテトラエノン酸エチル（６４，
６ｍｇ、８６％）を得た。

実施例３アルゴン雰囲気中、１４−クロロ−２−（１−メチルエ
チル）−５，９，１３−１リメチル？４．８．１２−テ
トラデカテトラエノン酸エチル（６７０ｍｇ、　１．８
１　ｍｍｏＪ）を乾燥トルエン２０ｍ１に溶解し、エタ
ノール−ドライアイス浴上で冷却、撹拌下、水素化ジイ
ソプロピルアルミニウムの１Ｍトルエン溶液４ｍｊ！を
徐々に加えた。３０分後、原料消失を確認し、１．５　
ｍ　ｌの水を加え、浴をはずしよく撹拌した。乾燥剤（
無水硫酸マグネシウム）を加えさらにかきまぜ、濾過、
濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、ｎ−へキサン：酢酸エチル（１２：　１）で
展開すると目的の分画部からアルコール体（１４−クロ
ロ−２−（１−メチルエチル）−５，９゜１３−トリメ
チル２，４．８．１２−テトラデカテトラエン−１−オ
ール、４９２ｍｇ、７９％）が得られた。

ＩＲ（ｆ　ｉ　１ｍ）ｃ「’；３３６０．２９８０．２
９４０．２８９０，１４４５．１３８５，１２６５．１
０１０１ＯＮ　（ＣＤＣＩｌ、２５０ＭＨｚ）　　δｐｐｍ　
　；１．０６　　（ｄ、Ｊ＝６．８Ｈｚ、６Ｈ，−ＣＨ
（ＣＨ，）２）、１．５８，１．７０，１．７５　　（
ｅａｃｈｂｓ、ｅａｃｈ　　３Ｈ，−Ｃ＝ＣＣＨ３）、
１．９２．２　　（ｍ、８Ｈ，ＣＨＩ　ＣＨＩ　　）、
２．４７（ｈｅｐ、Ｊ＝６．８Ｈｚ、ＩＨ，−ＣＨ（Ｃ
Ｈｘ　）＊　）、３．９８　　（ｂｓ、２Ｈ，−ＣＨＩ
　Ｃ１）。

４．２３　　（ｂｓ、２Ｈ，ＣＨｔ　ＯＨ）、５．０９
（ｍ、ＬＨ，Ｃ＝ＣＨＣＨｚ　　）、５．４７　　（ｂ
ｔ、Ｊ＝６．７Ｈｚ、　　　Ｃ＝ＣＨＣＨｚ　　　）、
６．１３．６．”１６　　（ｅａｃｈ　　ｄ、Ｊ＝１２
．０Ｈｚ、ｅａ　ｃ　ｈ　　　Ｉ　Ｈ，−Ｃ＝ＣＨ−Ｃ
Ｈ＝Ｃ−）。

実施例４実施例３で得られたアリルアルコール体（１４−クロロ
−２−（１−メチルエチル）−５，９゜１３−トリメチ
ル２，４，８．１２−テトラデカテトラエン−１−オー
ル（４９２ｍｇ、　１．５１ｍｍｏＡ）ノ塩化メチレン
（２２ｍｊり溶液に粉末状としたマンガン酸バリウム（
８，５ｇ）を加え、アルゴン雰囲気下、激しくかきまぜ
た。８時間後、原料の消失を確認し、濾過、洗浄で得た
濾液、洗液を合わせ濃縮した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１５
：１）に付し、精製すると目的とする１４−クロロ−２
−（１−メチルエチル）−５，９，１３−トリメチル２
，４．８．１２−テトラデカテトラエナール（４６８ｍ
ｇ、　　９５％）が得られた。

Ｉ　Ｒ（ｆ　ｉ　１ｍ）　ｃｍ−五；２９７０．２９３
０．２８Ｂ０，１６７０，１６３０，１４４５，１３９
０．１２９５，１２６５，１１３５ＮＭＲ（ＣＤＣＩＩ
ｓ　、２５０　ＭＨｚ）δｐｐｍ　　；１．０４　（ｄ
、Ｊ＝１．０Ｈｚ、６Ｈ，−ＣＩ（（Ｃ−ｂ工）ｔ、１
．５９，１．７０　（ｅａｃｈ　　ｂｓ、ｅａｃｈ　　
３Ｈ，−Ｃ＝ＣＣ旦３）、１．８７　　（ｄ。

Ｊ　＝　１．３　Ｈｚ、　　３　Ｈ，−Ｃ＝ＣＣＨ３）
　、　　１．９−２．２　（ｍ、　　８Ｈ，−ＣＨｚ　
ＣＨｔ　−）、、　　２．８９（ｈｅｐ、Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ、ＬＨ，−ＣＨ（ＣＨ３）り、３．９８　（ｂｓ、２
Ｈ，Ｃ且ｔ　ＣＪり　。

５．０９　（ｍ、ＩＨ，−Ｃ＝ＣＣＨ３）、５．４７　
　（ｂｔ、　　Ｊ＝６．５Ｈｚ、　　ＩＨ，−Ｃ＝ＣＨ
ＣＨｚ　　）、６．８２　　（ｄ、Ｊ＝１２．０Ｈｚ、
ＩＨ。

−Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨＯ）−）、　　７．１　１
（ｄ、Ｊ＝１２、ＯＨｚ、　　−Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（
ＣＨＯ）−）、　　１０．２７　　（ｓ、　　ＩＨ，−
ＣＨｏ）　　。

参考例１実施例４で得たホルミル体（１４−クロロ−２−（１−
メチルエチル）−５，９，ｌｉトリメチル２，４，８．
１２−テトラデカテトラエナール、４６８ｍｇ、　１．
４４　ｍｍｏｌ）をトリメチルシリルニトリル（０，２
５ｍ１．　１．８７　ｍｍｏｆ）に溶解し、窒素雰囲気
下、氷水浴上でかきまぜながら極少量のシアン化カリウ
ム／１８−クラウン６−エーテル錯体を加えた。２時間
後、原料の消失を確認し、過剰のトリメチルシリルニト
リルを留去すると１５−クロロ−３−（１−メチルエチ
ル）−６，１０，１４−トリメチル−２−（トリメチル
シロキシ）３．５，９．１３−ペンタデカテトラエンニ
トリル（６１０ｍｇ、定量的）が得られた。

ＩＲ（ｆ　ｉｌｍ）ｃｍ−’；２９６０，２９３０．２
８Ｂ０．２３２０，１４４５，１２５５．１０８０．８
７５，８４５ＮＭＲ（ＣＤＣ（ｌｘ　、２５０ＭＨｚ）　δｐｐｍ　
　；１．１１．１．１５　（ｅａｃｈ　　ｄ、Ｊ＝６．
９Ｈｚ。

ｅａｃｈ　　３Ｈ，ＣＨ（ＣＨｓ）ｚ）、１．６０゜１
．７１，１．７７　　（ｅａｃｈ　　ｓ、ｅａｃｈ　　
３Ｈ。

Ｃ＝ＣＣＨ３）、１．９　２．２　（ｍ、８Ｈ，ＣＨｚ
　ＣＨｔ　　）、２．６４　（ｈａｐ、Ｊ＝６．９Ｈｚ
。

ＩＨ，ＣＨＣＣＨｓ　）ｔ　）、３．９９　（ｓ、ＩＨ
。

ＣＨ２）、５．３３　　（ｓ、　　Ｉ　Ｈ，−ＣＨＣＮ
）。

５．４８　　（ｂｔ、　　Ｊ＝６．５Ｈｚ、　　ＩＨ，
−Ｃ＝ＣＣＨ３）、　　６．０４．　６．２５　　（ｅ
ａｃｈ　　　ｄ、　　Ｊ＝１１．３Ｈｚ、　　ｅａｃｈ
　　　ＩＨ，−Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ−）　　。

参考例２参考例１で得た１５−クロロ−３−（ｌ−メチルエチル
）−６，１０，１４−トリメチル−２＝トリメチルシロ
キシ３．５，９．１３−ペンタデカテトラエンニトリル
（５８ｍｇ、　　０．１４　ｍｍｏｌ）のテトラヒドロ
フラン溶液（２ｍｇ＞を０℃に冷却し、ＩＮ塩酸（０，
５ｍ　ｊ！　）をゆっくり滴下した。

この温度で１０分間撹拌後、飽和食塩水（５ｍｊりを加
え、エーテル（１０ｍｊ！ｘ２回）で抽出した。

有機層を飽和食塩水（５ｍｇ）で洗浄後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。溶媒を減圧上留去し、得られる残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−へキサン
：酢酸エチル−１０：　１）で精製すると、１５−クロ
ロ−２−ヒドロキシ−３−（１−メチルエチル）−６，
１０，１４−１リメチル３，５，９．１３−ペンタデカ
テトラエンニトリル（３８ｍｇ、７５％）が得られた。

ＩＲ（ｆ　ｉｌｍ）ａｍ−’；３４５０．２９６０．２
９３０．２８７５．２Ｂ６０，２３２０，１６５０．１
４４５．１３Ｂ５，１２６５．１０２０．９３ＯＮＭＲ（ＣＤ　Ｃｌｘ　、２５０　ＭＨｚ）δｐｐｍ　
　；１．１４，１．２８　　（ｅａｃｈ　　、ｄ、Ｊ＝
６．８Ｈｚ。

ｅａｃｈ　　３Ｈ，ＣＨ（Ｃ旦５）２）、１．５９゜１
．７１，１．７９　　（ｅａｃｈ　　ｓ、ｅａｃｈ　　
３Ｈ。

Ｃ＝ＣＣＨ３＋　　）　　、　　　１．９０　　　２．
２０　　　（ｍ、　　　８Ｈ。

ＣＨｚ　　ＣＨｚ　　　）、２．２７　　（ｄ、Ｊ＝５
．５Ｈｚ。

ＩＨ，ＯＨ）、２．６２　　（ｈｅｐ、Ｊ＝６．８Ｈｚ
ＩＨ，Ｃ旦ｔ　　（ＣＨｓ　）　ｔ　）　、　　３．９
９　　（ｓ、　　２　Ｈ。

ＣＨｚ　　Ｃｊり　、　　５．０９　　（ｍ、　　Ｌ　
Ｈ，Ｃ＝ＣＣＨ３）、５．２９　　（ｄ、Ｊ＝５．５Ｈ
ｚ、ＬＨ。

ＣＨＣＮ）、５．４８　　（ｂｔ、Ｊ＝６．４Ｈｚ、ｉ
ｆ（。

−Ｃ＝Ｃ且ＣＨｔ　　　）、６．１４，６．３４　　（
ｅａｃｈ　　ｄ、Ｊ＝１１．４．１１．５Ｈ２，ｅａｃ
ｈ　　　ＩＨ，−Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ−）　　。

参考例３１５−クロロ−２−ヒドロキシ−３−（１−メチルエチ
ルｌ−６，１０，１４−）リメチル３゜５．９．１３−
ペンタデカテトラエンニトリル（２０４ｍｇ、　　０．
５６　ｍｍｏｊ’）およびエチルビニルエーテル（１０
０μｍ、　　０．９６　ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶
液（５ｍｌりを窒素雰囲気下、氷水上でかきまぜながら
極少量のパラトルエンスルホン酸を加えた。１０分後飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液＜１５ｍ１）およびｎ−ヘ
キサン：エーテル（１：１）溶液２０ｍｌを加え、有機
層を分離し、水層をｎ−ヘキサン：エーテル（１：　１
）　９ａ液２Ｑｍ１で数度抽出した。有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧上溶媒を留去し、得られる残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ　−ヘキ
サン：酢酸エチル−２０：１）で精製すると１５−クロ
ロ−２−（ｌ−エトキシエトキシ）−３−（ｌ−メチル
エチル）−６，１０，１４−トリメチル３，５，９．１
３−ペンタデカテトラエンニトリル（２０７ｍｇ、　　
８５％）が得られた。

ｒＲ（ｆ　　ｉ　　１ｍ）ａｍ−’；２９６０．　２９
３０．　１４４５、　１３８５．　１２６２．　１１４
０．　１０８０、　１０５０．　１０２０．　９３０゜
Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＩ　３　、　２５０　Ｍ　Ｈｚ　
）　　δｐｐｍ　　；１．０６−１．２５　　（ｍ、９
８．ＣＨ，ＣＨＩ　　Ｏ，ＣＨ（ＣＨ３）り、１．３５
，１．３８　　（ｅａｃｈｄ、　　Ｊ＝５．５．７．９
Ｈｚ、　　３Ｈ，ＣＨｉ　　ＣＨＯ）。

１．５Ｂ、　　１．７０．　１．７７　　（ｅａｃｈ　
　　ｓ、　　ｅａｃｈ　　　３Ｈ，Ｃ＝ＣＣＨ３）、　
　１，９０　　２．３０（ｍ、　　８Ｈ，ＣＨＩ　　Ｃ
ＨＩ　　　）、　　２．６０　　（ｈｅｐ、　　Ｊ−６
，８Ｈｚ、　　Ｉ　Ｈ，ＣＨ（ＣＨ３）ｚ　　）３．４
５−３．７４　　（ｍ、２Ｈ，ＱＣ旦２ＣＨ：ｌ）３．
９８　　（ｓ、　　２Ｈ，ＣＨｚ　　Ｃｊり　　、　　
４．７　？、　　４．９９　　（ｅａｃｈ　　　ｑ、　
　Ｊ＝５．５Ｈｚ、　　１１−（、０ＣＨＣＨｓ　　）
　　、　　５．１　０　　（ｂ　ｒ　ｓ、　　Ｉ　Ｈ，
Ｃ＝ＣＣＨ３）、　　５．２９．　５．．３４　　（ｅ
ａｃｈ　　　ｓ、　　ＩＨ，ＣＨＣＮ）、　　６．０９
　　（ｄ、　　Ｊ＝１１．４Ｈｚ。

ＩＨ，−Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ−）、　　６．３２　　６
．３５　　（ｅａｃｈ　　　ｄ、　　Ｊ＝１１．４Ｈｚ
、　　ＬＨ，−Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ−）　　。

参考例４ヘキサメチルジシラザンのナトリウムアミド（２１７ｍ
ｇ、　　１．１８　ｍｍｏｌ）の乾燥テトラヒドロフラ
ン溶液（５，５ｍｌを、アルゴン雰囲気下、４０℃の油
浴上で撹拌し、これにシアンヒドリントリメチルシリル
エーテル体（１５−クロロ−３−（１−メチルエチル）
−６，１０，１４−）リフチル−２−トリメチルシロキ
シ３，５，９．１３−ペンタデカテトラエンニトリル（
１００ｍｇ。

０．２３ａ＋ｍｏｌ）の乾燥テトラヒドロフラン溶液（
４，５ｍｌりを１５分を要し滴下した。この温度で１５
分間撹拌後、氷水浴上でかきまぜながら飽和塩化アンモ
ニウム水溶液を加え反応を停止した。

テトラヒドロフランを減圧留去後、有機物をエーテル抽
出して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
、（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル−６０：１）に付し、２
−（ｌ−メチルエチル）〜５９．１３−トリメチル−１
−トリメチルシロキシ２．４．８．１２−シクロテトラ
デカテトラエン−１−カルボニトリル（２４，６ｍｇ、
　　２７％）と２−（１−メチルエチル”）−５，９，
１３−）リフチル２，４，８．１２−シクロテトラデカ
テトラエン−１−オン（１６，６ｍｇ、２４％）を得た
。

以下に２−く１−メチルエチル）−５，９，１３−トリ
メチル−１−トリメチルシロキシ２，４゜８．１２−シ
クロテトラデカテトラエン−１−カルポニトリルのＮＭ
Ｒを示す。

ＮＭＲ（ＣＤＣｆｆｉ３，２５０ＭＨｚ）δｐｐｍ　　
；０．２３　（Ｓ、　　９．Ｈ，Ｓ　ｉ　　（Ｃ，、！
ＸＬＬ）３　）、　　１．０９．１．１５　（ｅａｃｈ
　　ｄ、Ｊ＝６．７Ｈｚ、ｅａｃｈ　　３Ｈ，ＣＨ（（
：Ｈｓ　）２　）、１．５０．１゜６２　（ｅａｃｈ　
　ｂｓ、ｅａｃｈ　　３Ｈ，−Ｃ＝ＣＣ且ｓ　）、１．
７０　（ｄ、Ｊ＝１．３Ｈｚ、３ＨＣ＝ＣＣＨａ　）、
２．０　２．２　（ｍ、８Ｈ，Ｃ且２　ＣＨｚ　　）　
、’　２゜５１　　（ｈｅｐ、Ｊ＝６゜７Ｈｚ。

ＩＨ，−ＣＨ（ＣＨ，）ｔ　）、２．５５，２．６５（
ｅａｃｈ　　ｄ、ｊ＝１４．２Ｈｚ、ｅａｃｈ　　ＩＨ
，−ＣＩ−Ｌ、Ｈ工ＣＮ−）、４．９４　（ｂｔ、Ｊ＝
６．１Ｈｚ、ＬＨ，Ｃ＝ＣＨＣＨ２）、５．１５（ｂ　
ｔ、Ｊ＝５．６　Ｈｚ、Ｌ　Ｈ，Ｃ＝ＣＨＣＨ２）。

６．１７．６．４４　（ｅａｃｈ　　ｄ、Ｊ＝１１．８
Ｈｚ。

ｅ　ａ　ｃ　ｈ　　Ｉ　Ｈ，−Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ−）
。

参考例６Ｃ２１１５ヘキサメチルジシラザンのリチウムアミド（２０５ｍｇ
、　　１．１１　　ｍｍｏｆｆ　）の乾燥ヘキサンーヘ
ンゼン溶液（１：４，５ｒｎｎ）を９０”Ｃの油浴上か
きまぜ、これにシアンヒドリンエトキシエチルエーテル
体（１５−りＣＩＣ！−２−（１−エトキンエトキシ）
−３−（１−メチルエチル）〜６．１０゜１４−トリメ
チル３．５，９．１３〜ペンタデカテトラエンニトリル
（１１５ｍｇ、　　０．２６　　ｍｍｏｆｆｉ）の乾燥
ベンゼン溶液（６ｍｆｆｉ）を２０分を要し滴下した。

この温度で５分かきまぜた後、氷水浴上かきまぜながら
飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた。有機層をエーテ
ル（２０ｍｘｘ２）で抽出後、）８媒を減圧上留去する
と１−（１−エトキシエトキシ）−２−（１−メチルエ
チル）−５，９，１３−トリメチル２，４．８．１２−
シクロテトラデカテトラエン−１−カルボニトリル（５
１，６ｎ＋ｇ。

５０％）がジアステレオマーの混合物として得られた。

これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキ
サン：エーテル＝２０　：　１）に付すと上記構造式で
示される１異性体が得られた。

ＪＲＮ　ｉ　１ｍ）ｃｍ−’；２９７５，２９４０，１
４５０．１１４０，１０２５，９４０゜Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｃ
Ｄ　ＣＱ　３　　２５０　Ｍ　Ｈｚ　）δｐｐｍ　　；
１．１０．１．１４　（ｅａｃｈ　　ｄ、Ｊ＝６．７Ｈ
ｚ。

ｅａｃｈ　　　　３Ｈ，（、Ｈ（Ｃ二Ｈ３）ｚ　　、　
　　１．２２　　（ｔ。

Ｊ＝７．１Ｈｚ、３Ｈ，ＣＨ３ＣＨｔ　Ｏ）、１．２８
（ｄ、Ｊ＝５．４Ｈｚ、３Ｈ，ＣＨｚ　ＣＨＯ）。

１．４９，１．６８，１．７１　（ｅａｃｈ　　ｓ、ｅ
ａｃｈ３Ｈ，Ｃ几ｊ−Ｃ＝Ｃ−）、１．９５−２．２８
（ｍ、　　８　Ｈ，ＣＨ２Ｃ＝Ｃ）　、　　２．６０　
　（ｈ　ｃ。

ｐ、ＩＨ，Ｊ＝６．７Ｈｚ、ＣＨ（ＣＨ：＋　　）ｚ　
　）２、７２　、　２．８９　　（ｅ　ａ　ｃ　ｈ　　
　ｄ　、　　Ｊ　＝　１４．７　Ｈｚ　。

ｅａｃｈ　　　ＩＨ，Ｃ１，Ｃ■１ＣＣＮ）、３．５８
（ｑ、Ｊ＝７．１Ｈｚ、２Ｈ，０ＣＨ２ｃｒｉ：＋　　
）４．８．９　　（ｑ、Ｊ＝５．４Ｈｚ、　　ＩＨ，−
０ＣＩ！−ＣＨ３）、　　４．’８６　　５．００．　
５．０６　　５．１８　　（ｅａｃｈ　　ｍ、　　ｅａ
ｃｈ　　　ＩＨ，−ＣＨ−ＣＨｚ　　−）６．２８　　
（ｂｒｓ、２Ｈ，−Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ−）。

参考例７ｌ−（１−エトキシエトキシ）−２−（１−メチルエチ
ル）−５，９，１３−１−リメチル２．４゜８，１２−
シクロテトラデカテトラエン−１−カルボニトリル（３
１，８ｍｇ、　０．０８　ｍｍｏｊ２　）のメタノール
溶？（Ｉ（３ｍｆｆ）を氷水浴上かきまぜ極少量のパラ
トルエンスルホン酸を加えた。この温度で１時間かきま
ぜた後、飽和塩化ナトリウム水溶液（３ｍりを加え、エ
ーテル（１０ｍｊ２ｘ２）で抽出した。微圧下溶媒を留
去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル−７：１）で精製する
と２（ｌ−メチルエチル）−５，９，１３−１リメチル
２，４．８．１２−シクロテトラデカテトラエン−１−
カルボニトリル（１３，７ｍｇ、６０％）が得られた。

ＮＭＲＣＣＤＣｅ：１．２５０ＭＨｚ）　６１９ｍ　　
ｉｌ、１５，１．１９　　（ｅａｃｈ　　ｄ、Ｊ＝６．
７Ｈｚ。

ｅａｃｈ　　３Ｈ，ＣＨ（Ｃ旦：１）Ｚ）、１．５５゜
１．６３．１．６９　　（ｅａｃｈ　　ｓ、ｅａｃｈ　
　３Ｈ。

ＣＨ３Ｃ＝Ｃ）　、　　１．９４　２．３５　　（ｍ、
　　８　Ｈ。

ＣＨ２Ｃ＝Ｃ）　、　　２．５１　　（ｈｅ　Ｐ、　　
Ｊ＝６．７Ｈｚ、ＩＨ，Ｃ旦（ＣＨ３）　２）　、　　
２．６６．　２．７３　　（ｅａｃｈ　　　ｄ、　　Ｊ
＝１４．ＩＨｚ、　　２Ｈ。

ＣＨ，Ｃ旦、ＣＣＮ）、２．８９　　（ｂｒｓ、　　Ｉ
Ｈ，ＯＨ）、４．９３，５．２４　　（ｅａｃｈ　　　
ｂｒｔ、Ｊ＝５゜３Ｈｚ　　、　　　ｅ　　ａ　　ｃ　
　ｈ　　　　　Ｉ　　Ｈ，−Ｃ＝ＣＨ−ＣＨｚ　　−）
　　。

６．２２，６．４２　　（ｅａｃｈ　　　ｄ、　　Ｊ＝
１１．ＩＨ２゜ｅａｃｈ　　ＩＨ，−Ｃ＝Ｃ且−ＣＨ−
（１）。

参考例８シアノヒドリン体（１−ヒドロキシ−２−（ｌメチルエ
チル）−５，９，１１−トリメチル２゜４．８．１２−
シクロテトラデカテトラエンカルボニトリル（７８，０
ｍｇ、　０．２５　ｍｍｏｆ　）をエチル上２ｍｌの飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液と共に１０分間撹拌した。

原料の消失を確認後、有機層を水洗し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、濃縮して得た残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル７：１）に付し、目的とする２−（１−メチルエチ
ル）−５，９，１３−トリメチル２．　４．　８．　１
２−シクロテトラデカテトラエン−１−オン（５８，０
ｍｇ、７５％）を得た。

参考例９ルエチル）−５，９，１３−トリメチル２４８．１２−
シクロテトラデカテトラエン−１−オン、１３７ｍｇ、
　　０．４８　ｍｍｏｊ）の乾燥トルエン２゜５ｍｌ溶
液に、−７０℃の冷媒浴上かきまぜながら、水素化ジイ
ソブチルアルミニウムの１Ｍトルエン溶液０．６　ｍ　
ｌを滴下した。１時間後、原料の消失を確認し、０．２
５ｍ１の水を加え、浴をはずしよく撹拌した。無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、撹拌し、濾過後、濃縮して得た
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒
、１１−ヘキサン：酢酸エチル１２：１）にて精製し、
目的とするザルコツイトールＡ（１２５ｍｇ、８８％）
を得た。

出　願　人　三菱化成株式会社

Claims

【特許請求の範囲】

（１）下記一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ）〔式中、Ｒは−ＣＯ＿２Ｒ＾１（Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿
４の低級アルキル基又はフェニル基を示す。）、ヒドロ
キシメチル基、ホルミル基又は−ＣＨＯＲ＾２（Ｒ＾２
は水素原子、トリメチルシリル基又は１−エトキシエチ
ル基を示す。）を表わし、Ｘはハロゲン原子又は−ＯＳ
Ｏ＿２Ｒ＾３（Ｒ＾３はハロゲン原子で置換されていて
もよいＣ＿１〜Ｃ＿４の低級アルキル基又はＣ＿１〜Ｃ
＿４の低級アルキル基で置換されていてもよいフェニル
基を示す。）を表わす。また式中、二重結合Δ＾２、Δ＾４、Δ＾６及びΔ＾１
＾２のうちΔ＾８及びΔ＾１＾２はＥ型の立体配置をと
り、共役二重結合を形成しているΔ＾２及びΔ＾４はそ
れぞれ独立して（Ｚ、Ｅ）型、（Ｅ、Ｅ）型、（Ｚ、Ｚ
）型又は（Ｅ、Ｚ）型の立体配置をとる。〕で表わされ
る鎖状テルペン系化合物。