JPH0550893B2 - - Google Patents

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JPH0550893B2
JPH0550893B2 JP60239012A JP23901285A JPH0550893B2 JP H0550893 B2 JPH0550893 B2 JP H0550893B2 JP 60239012 A JP60239012 A JP 60239012A JP 23901285 A JP23901285 A JP 23901285A JP H0550893 B2 JPH0550893 B2 JP H0550893B2
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mos transistor
potential
high potential
gate
power supply
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Koichi Magome
Hiroyuki Koinuma
Haruki Toda
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Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Priority to DE8686308288T priority patent/DE3688234T2/de
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    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K19/00Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
    • H03K19/02Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components
    • H03K19/08Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices
    • H03K19/094Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices using field-effect transistors
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
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    • H03K19/02Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components
    • H03K19/08Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices
    • H03K19/094Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices using field-effect transistors
    • H03K19/096Synchronous circuits, i.e. using clock signals
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/14Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K19/00Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
    • H03K19/003Modifications for increasing the reliability for protection
    • H03K19/00315Modifications for increasing the reliability for protection in field-effect transistor circuits

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] この発明は、ゲート電位を基準接地電位に保つ
ことによりMOSトランジスタを非導通状態に設
定し、このMOSトランジスタのドレイン側(あ
るいはソース側)の高電位を保持するための高電
位保持回路に関する。
[発明の技術的背景とその問題点] 従来、この種の高電位保持回路は、例えばダイ
ナミツクRAMで用いられる信号遅延回路等で使
用されている。第8図は、上記信号遅延回路の構
成例を示している。電源VDDと接地点VSS間には、
入力信号φinで導通制御されるMOSトランジスタ
Q1およびクロツク信号で導通制御される
MOSトランジスタQ2が直列接続される。これ
らMOSトランジスタQ1とQ2との接続点(ノ
ードN1)には、一端が接地点VSSに接続された
MOSトランジスタQ3のゲートが接続される。
このMOSトランジスタQ3の他端と電源VDD間に
は、上記クロツク信号で導通制御されるMOS
トランジスタQ4が接続される。上記MOSトラ
ンジスタQ3とQ4との接続点(ノードN2)に
は、ゲートに電源VDDの電圧が印加されるMOSト
ランジスタQ5の一端、および接地点VSSに一端
が接続されるMOSトランジスタQ6,Q7のゲ
ートにそれぞれ接続される。上記MOSトランジ
スタQ5の他端(ノードN3)には、一端から入
力信号φinが供給されるMOSトランジスタQ8の
ゲートが接続される。このMOSトランジスタQ
8の他端と接地点VSS間には、クロツク信号′で
導通制御されるMOSトランジスタQ9が接続さ
れる。上記MOSトランジスタQ8,Q9の接続
点(ノードN4)には、エンハンスメント型
MOSキヤパシタC1の一方の電極、このMOSキ
ヤパシタC1の他方の電極(ノードN5)と電源
VDD間に接続されるMOSトランジスタQ10のゲ
ート、および前記MOSトランジスタQ7の他端
と電源VDD間に接続されるMOSトランジスタQ1
1のゲートがそれぞれ接続される。また、上記
MOSキヤパシタC1の他方の電極には、前記
MOSトランジスタQ6の他端が接続される。そ
して、上記MOSトランジスタQ11とQ7との
接続点から、上記入力信号φinを遅延した信号
φoutを得るようになつている。
次に、上記のような構成において動作を説明す
る。予め、クロツク信号および′がハイ
(“H”)レベルになつており、ノードN2,N3
の電位が「VDD−VTH」(VTHはMOSトランジスタ
のしきい値電圧で、ここでは説明な簡単にするた
めに全てのMOSトランジスタのしきい値電圧VTH
は等しいものとする)に充電されているものとす
る。この時、その他のノードN1,N4,N5お
よび入力信号φin、出力信号φoutは接地点VSS
電位である。次に、クロツク信号、′がロー
(“L”)レベルになり、入力信号φinが立ち上が
ると、MOSトランジスタQ5はノードN2の電
位が「VDD−VTH」であり非導通状態となつてい
るので、入力信号φinの上昇に伴つて、MOSトラ
ンジスタQ8のゲート、ドレイン間の容量結合に
よりノードN3の電位V3が上昇する。このため、
MOSトランジスタQ8は三極管領域の動作を行
なうことになり、ノードN4の電位V4は入力信
号φinと等しくなる。そして、電位V4がMOSト
ランジスタQ10のしきい値電圧VTHを越えると
このMOSトランジスタQ10が導通し、ノード
N5を充電し始める。このころには、MOSトラ
ンジスタQ3の導通によつて、ノードN2の電位
が低下し、MOSトランジスタQ6は非導通状態
となるので、MOSトランジスタQ10を介して
電源VDDから供給される電荷はノードN5に閉じ
込められる。従つて、MOSキヤパシタC1の容
量結合によつてノードN4の電位V4の上昇が加
速される。そして、電位V4が電源VDDの電圧より
高くなるころには、電位V3はMOSトランジスタ
Q3,Q5の導通により接地点VSSの電位となり、
MOSトランジスタQ8は非導通状態となるので、
ノードN4に蓄積された電荷は逃げられず高電位
が保持されることになる。この時、MOSトラン
ジスタQ11は三極管動作を行なうので、そのし
きい値電圧VTHによる損失のない入力信号φinの
遅延信号φoutが得られる。
なお、この状態をリセツトするためには、入力
信号φinを“L”レベルとし、クロツク信号、
φ′を“H”レベルとすれば良い。ところで、入
力信号φinを正確に遅延させて出力信号φoutを得
るためには、MOSトランジスタQ11のゲート
電位V4を「VDD+VTH」以上に昇圧し、この状態
を保持することが必要である。そこで、前記第8
図の回路では、MOSトランジスタQ8を通じて
ノードN4に電荷を供給し、その後MOSトラン
ジスタQ8を非導通状態に設定することによつて
ノードN4の電位を保持している。
このように、従来は高電位を保持する際に
MOSトランジスタQ8,Q9のゲート電位を接
地点VSSの電位に設定する。しかし、この状態で
は、ゲートとドレイン(あるいはソース)間の電
界がかなり強い上、ドレインとソース間の電界も
ゲートとドレイン間の電界に加わる形になり、表
面降状を起こし易くなる。ゲートとドレイン(あ
るいはソース)間の酸化膜は非常に薄く耐圧があ
まり高くなるので、たとえ1回当りは短い時間で
あつても強い電界が繰り返し印加されると信頼性
を損う。また、微細化が進んでソース、ドレイン
間の距離が短くなると、パンチスルーを生じ易く
なるがこの場合にもソース、ドレイン間の電圧が
低い方が望ましい。
この様な欠点を除去できる信号遅延回路とし
て、第9図に示すような回路が提案されている。
この回路は、高電位ノードN4と電位保持用の
MOSトランジスタQ9との間に、電源VDDの電圧
で導通設定されるMOSトランジスタQ12を挿
入したものである。第9図において、前記第8図
と同一構成部分には同じ符号を付してその詳細な
説明は省略する。このような構成では、MOSト
ランジスタQ9とQ12との接続点(ノードN
6)の電位は、ノードN4の電位V4が非常に高
い場合でも「VDD−VTH」(VTHはMOSトランジス
タQ12のしきい値電圧)ある。よつてMOSト
ランジスタQ9のゲート・ドレイン(あるいはソ
ース)間の電位差は、前記第9図の回路における
「VDD+VTH」から「VDD+VTH」へと2VTH以上も緩
和されることになり、耐圧や信頼性を向上でき
る。また、MOSトランジスタQ9のソース、ド
レイン間の電位差も小さくできるので、パンチス
ルー対策にもなつている。しかし、ノードN4と
MOSトランジスタQ8との間には、上記MOSト
ランジスタQ12のように電源VDDの電圧で導通
設定されるMOSトランジスタを設けることはで
きない。これはMOSトランジスタQ8とノード
N4間にMOSトランジスタを設けるとそのしき
い値電圧VTH分だけノードN4の電位が低下し、
ノードN4の電位の上昇が遅れるとともに最終的
な電位も低くなつてしまうからである。このた
め、入力信号φinがアクテイブ時には接地点VSS
の電位に低下する場合には、MOSトランジスタ
Q8はMOSトランジスタQ9と同じく信頼性上
問題のある状態にあるにも拘らず、MOSトラン
ジスタQ9と同様な対策を行なえない欠点があ
る。
[発明の目的] この発明は、上記のような事情に鑑みでなされ
たもので、その目的とするところは、高電位ノー
ドを充電するとともに、ゲート電位を基準接地電
位に保ち、MOSトランジスタを非導通状態に設
定することによつてドレイン側(あるいはソース
側)の高電位を保持するためのMOSトランジス
タにおけるゲートとドレイン(あるいはソース)
間の耐圧特性を、本来の性能を損うことなく向上
できる高電位保持回路を提供することである。
[発明の概要] すなわち、第1の発明は、半導体集積回路装置
中に形成され、キヤパシタによる容量結合を利用
して電源電圧よりも高い電圧に昇圧した高電位ノ
ードの電位を保持するための高電位保持回路にお
いて、一端に入力信号が供給され、上記高電位ノ
ードを充電した後、ゲートに基準接地電位が印加
され非導通状態に設定されることにより、この高
電位ノードの電位を保持する電位保持用のエンハ
ンスメント型MOSトランジスタと、この電位保
持用MOSトランジスタの他端と上記高電位ノー
ド間に設けられる電界緩和用のエンハンスメント
型MOSトランジスタと、この電界緩和用MOSト
ランジスタのゲートと電源間に設けられ、ゲート
が電源に接続されるエンハンスメント型MOSト
ランジスタと、上記電界緩和用MOSトランジス
タのゲートと電源間に設けられ、ゲートに上記入
力信号が供給されるデイプレツシヨン型MOSト
ランジスタとを具備することを特徴とする。
また、第2の発明は、半導体集積回路装置中に
形成され、キヤパシタによる容量結合を利用して
電源電圧よりも高い電圧に昇圧した高電位ノード
の電位を保持するための高電位保持回路におい
て、一端に入力信号が供給され、上記高電位ノー
ドを充電した後、ゲートに基準接地電位が印加さ
れ非導通状態に設定されることにより、この高電
位ノードの電位を保持する電位保持用のエンハン
スメント型MOSトランジスタと、この電位保持
用MOSトランジスタの他端と上記高電位ノード
間に設けられる電界緩和用のエンハンスメント型
MOSトランジスタと、この電界緩和用MOSトラ
ンジスタのゲートと電源間に設けられ、ゲートが
電源に接続されるエンハンスメント型MOSトラ
ンジスタと、上記電界緩和用MOSトランジスタ
のゲートと電源間に設けられ、ゲートが上記電源
緩和用MOSトランジスタの一端に接続されるこ
とにより、上記入力信号と実質的に同じタイミン
グで立ち上がる信号で制御されるデイプレツシヨ
ン型MOSトランジスタとを具備することを特徴
とする。
第3の発明は、半導体集積回路装置中に形成さ
れ、キヤパシタによる容量結合を利用して電源電
圧よりも高い電圧に昇圧した高電位ノードの電位
を保持するための高電位保持回路において、一端
に入力信号が供給され、上記高電位ノードを充電
した後、ゲートに基準接地電位が印加され非導通
状態に設定されることにより、この高電位ノード
の電位を保持する電位保持用のエンハンスメント
型MOSトランジスタと、この電位保持用MOSト
ランジスタの他端と上記高電位ノード間に設けら
れる電界緩和用のエンハンスメント型MOSトラ
ンジスタと、この電界緩和用MOSトランジスタ
のゲートと電源間に設けられ、ゲートに上記入力
信号が供給されるデイプレツシヨン型MOSトラ
ンジスタとを具備し、上記デイプレツシヨン型
MOSトランジスタのしきい値電圧の絶対値は、
電源電圧からエンハンスメント型MOSトランジ
スタのしきい値電圧を引いた値と等しいことを特
徴とする。
更に、第4の発明は、半導体集積回路装置中に
形成され、キヤパシタによる容量結合を利用して
電源電圧よりも高い電圧に昇圧した高電位ノード
の電位を保持するための高電位保持回路におい
て、一端に入力信号が供給され、上記高電位ノー
ドを充電した後、ゲートに基準接地電位が印加さ
れ非導通状態に設定されることにより、この高電
位ノードの電位を保持する電位保持用のエンハン
スメント型MOSトランジスタと、この電位保持
用MOSトランジスタの他端と上記高電位ノード
間に設けられる電界緩和用のエンハンスメント型
MOSトランジスタと、この電界緩和用MOSトラ
ンジスタのゲートと電源間に設けられ、ゲートが
上記電界緩和用MOSトランジスタの一端に接続
されることにより、上記入力信号と実質的に同じ
タイミングで立ち上がる信号で制御されるデイプ
レツシヨン型MOSトランジスタとを具備し、上
記デイプレツシヨン型MOSトランジスタのしき
い値電圧の絶対値は、電源電圧からエンハンスメ
ント型MOSトランジスタのしきい値電圧を引い
た値と等しいことを特徴とする。
[発明の実施例] 以下、この発明の一実施例について図面を参照
して説明する。第1図において前記第8図あるい
は第9図と同一部分には同じ符号を付してその詳
細な説明は省略する。すなわち、前記第9図にお
けるMOSトランジスタQ8とノードN4間に電
界緩和用のMOSトランジスタQ13を設け、こ
のMOSトランジスタQ13のゲートと電源VDD
にMOSトランジスタQ14,Q15を設けてい
る。上記MOSトランジスタQ14のゲートのは
電源VDDに接続し、上記MOSトランジスタQ15
のゲートには入力信号φinを供給する。なお、前
記各MOSトランジスタQ1〜Q14はエンハン
スメント型であるのに対し、上記MOSトランジ
スタQ15はデイスプレツシヨン型である。
次に、上記のような構成において動作を説明す
る。なお、基本的な動作は前記第8図および第9
図と同じであるので、異なる部分にのみ着目して
説明する。クロツク信号、′が“H”レベル、
入力信号φinが“L”レベルの時、MOSトランジ
スタQ13のゲート(ノードN7)の電位は、
MOSトランジスタQ14の導通により「VDD
VTH」に充電されている。そして、入力信号φin
のレベルが上昇するのに伴つて、MOSトランジ
スタQ8とQ13との接続点(ノードN8)とノ
ードN7との容量結合により、ノード7の電位が
上昇する。この時、MOSトランジスタQ13は
三極管動作を行なうので、ノードN4の電位V4
は、入力信号φinと同じ変化率で上昇する。従つ
て、MOSトランジスタQ13を設けたことによ
るノードN4の電位の低下はなく、レベルの上昇
が遅れることもない。
一方、MOSトランジスタQ15はデイスプレ
ツシヨン型であり、そのしきい値電圧をVTHDとす
ると、入力信号φinが「VDD+VTHD=VDD−|VTHD
|」となると導通し、ノードN7の電位V7が電
源VDDの電位に向かつて低下し始める。そして、
入力信号φin、すなわちノードN8の電位V8が電
源VDDの電位になるころ、上記電位V7が電源VDD
のレベルとなつてMOSトランジスタQ13が非
導通状態となるので、ノードN4に充電された高
電位を保持することができる。この時、ノードN
3の電位V3は接地点VSSの電位になつているが、
ノードN8の電位V8はほぼ電源VDDのレベルまで
しか上昇しないので、MOSトランジスタQ13
〜Q15を設けない場合に比べて、MOSトラン
ジスタQ8のゲート、ソース間の電位差を小さく
でき、信頼性を向上できる。
上記MOSトランジスタQ13〜Q15の作用
を要約すると次のようになる。すなわち、MOS
トランジスタQ14の作用は、ノードN7の充電
および電荷の閉じ込めにある。一方、MOSトラ
ンジスタQ15は、ノードN4が電源VDDの電位
より高くなつた時に、電荷がノードN4からN8
に抜けないように、容量結合により昇圧されたノ
ードN7の電荷は電源VDDに導出する。また、
MOSトランジスタQ13は、ノードN8の電位
V8が電源VDDより高くならないように働く。
このような構成によれば、電界緩和用のMOS
トランジスタQ13を設けたことによるノードN
4の充電時の電位の低下および電位の上昇の後れ
を防止しつつ、MOSトランジスタQ8のゲート、
ソース間の電位差を小さくして耐圧特性を向上で
き、信頼性を高くできる。
なお、上記実施例では、MOSトランジスタQ
15のゲートに入力信号φinを供給するようにし
たが、入力信号φinと同じタイミングで立ち上が
る信号であれば良いので、第2図あるいは第3図
に示すように、MOSトランジスタQ15のゲー
トのノードN4、あるいはN8に接続しても同様
な動作を行ない同じ効果が得られる。
また、MOSトランジスタQ14のしきい値電
圧をVTHEとし、MOSトランジスタQ15のしき
い値電圧をVTHDとした場合、「|VTHD|=VDD
VTHE」なる関係を満足できるようにMOSトラン
ジスタQ15のしきい値電圧VTHDを設定すれば、
入力信号φinが“L”レベルの時のプリチヤージ
期間でもノードN7は「VSS−VTHD=VSS+|VTHD
|=VDD−VTHE」に充電されるので、MOSトラン
ジスタQ14を省略することができる。この場合
の構成例を第4図ないし第6図に示す。
第7図は、信号遅延回路の他の構成例を示して
いる。すなわち、前記第1図における電界緩和用
のMOSトランジスタQ13は、MOSトランジス
タQ8とQ9との接続点と、MOSキヤパシタC1
の一方の電極(ノードN4)間に設けている。こ
のような構成では、MOSトランジスタQ13は
前記第1図におけるMOSトランジスタQ12の
作用も兼ねることになり、MOSトランジスタQ
12を省略できる。なお、動作は前記第1図の回
路と同様であり、同じ効果が得られる。
[発明の効果] 以上説明したようにこの発明によれば、高電位
ノードを充電するとともに、ゲート電位を基準接
点電位に保ち、MOSトランジスタを非導通状態
に設定することによつてドレイン側(あるいはソ
ース側)の高電位を保持するためのMOSトラン
ジスタにおけるゲートとドレイン(あるいはソー
ス)間の耐圧特性を、本来の性能を損うことなく
向上できる高電位保持回路が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例に係わる高電位保
持回路について説明するための回路図、第2図な
いし第6図はそれぞれこの発明の他の実施例を説
明するための回路図、第7図は信号遅延回路にこ
の発明による高電位発生回路を設ける際の他の構
成例を示す図、第8図および第9図はそれぞれ従
来の高電位保持回路について説明するための図で
ある。 N4……高電位ノード、Q8……電位保持用
MOSトランジスタ、Q13……電界緩和用MOS
トランジスタ、Q14,Q15……MOSトラン
ジスタ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 半導体集積回路装置中に形成され、キヤパシ
    タによる容量結合を利用して電源電圧よりも高い
    電圧に昇圧した高電位ノードの電位を保持するた
    めの高電位保持回路において、 一端に入力信号が供給され、上記高電位ノード
    を充電した後、ゲートに基準接地電位が印加され
    非導通状態に設定されることにより、この高電位
    ノードの電位を保持する電位保持用のエンハンス
    メント型MOSトランジスタと、 この電位保持用MOSトランジスタの他端と上
    記高電位ノード間に設けられる電界緩和用のエン
    ハンスメント型MOSトランジスタと、 この電界緩和用MOSトランジスタのゲートと
    電源間に設けられ、ゲートが電源に接続されるエ
    ンハンスメント型MOSトランジスタと、 上記電界緩和用MOSトランジスタのゲートと
    電源間に設けられ、ゲートに上記入力信号が供給
    されるデイプレツシヨン型MOSトランジスタと を具備することを特徴とする高電位保持回路。 2 半導体集積回路装置中に形成され、キヤパシ
    タによる容量結合を利用して電源電圧よりも高い
    電圧に昇圧した高電位ノードの電位を保持するた
    めの高電位保持回路において、 一端に入力信号が供給され、上記高電位ノード
    を充電した後、ゲートに基準接地電位が印加され
    非導通状態に設定されることにより、この高電位
    ノードの電位を保持する電位保持用のエンハンス
    メント型MOSトランジスタと、 この電位保持用MOSトランジスタの他端と上
    記高電位ノード間に設けられる電界緩和用のエン
    ハンスメント型MOSトランジスタと、 この電界緩和用MOSトランジスタのゲートと
    電源間に設けられ、ゲートが電源に接続されるエ
    ンハンスメント型MOSトランジスタと、 上記電界緩和用MOSトランジスタのゲートと
    電源間に設けられ、ゲートが上記電界緩和用
    MOSトランジスタの一端に接続されることによ
    り、上記入力信号と実質的に同じタイミングで立
    ち上がる信号で制御されるデイスプレツシヨン型
    MOSトランジスタと を具備することを特徴とする高電位保持回路。 3 半導体集積回路装置中に形成され、キヤパシ
    タによる容量結合を利用して電源電圧よりも高い
    電圧に昇圧した高電位ノードの電位を保持するた
    めの高電位保持回路において、 一端に入力信号が供給され、上記高電位ノード
    を充電した後、ゲートに基準接地電位が印加され
    非導通状態に設定されることにより、この高電位
    ノードの電位を保持する電位保持用のエンハンス
    メント型MOSトランジスタと、 この電位保持用MOSトランジスタの他端と上
    記高電位ノード間に設けられる電界緩和用のエン
    ハンスメント型MOSトランジスタと、 この電界緩和用MOSトランジスタのゲートと
    電源間に設けられ、ゲートに上記入力信号が供給
    されるデイプレツシヨン型MOSトランジスタと を具備し、 上記デイプレツシヨン型MOSトランジスタの
    しきい値電圧の絶対値は、電源電圧からエンハン
    スメント型MOSトランジスタのしきい値電圧を
    引いた値と等しいことを特徴とする高電位保持回
    路。 4 半導体集積回路装置中に形成され、キヤパシ
    タによる容量結合を利用して電源電圧よりも高い
    電圧に昇圧した高電位ノードの電位を保持するた
    めの高電位保持回路において、 一端に入力信号が供給され、上記高電位ノード
    を充電した後、ゲートに基準接地電位が印加され
    非導通状態に設定されることにより、この高電位
    ノードの電位を保持する電位保持用のエンハンス
    メント型MOSトランジスタと、 この電位保持用MOSトランジスタの他端と上
    記高電位ノード間に設けられる電界緩和用のエン
    ハンスメント型MOSトランジスタと、 この電界緩和用MOSトランジスタのゲートと
    電源間に設けられ、ゲートが上記電界緩和用
    MOSトランジスタの一端に接続されることによ
    り、上記入力信号と実質的に同じタイミングで立
    ち上がる信号で制御されるデイプレツシヨン型
    MOSトランジスタと を具備し、 上記デイプレツシヨン型MOSトランジスタの
    しきい値電圧の絶対値は、電源電圧からエンハン
    スメント型MOSトランジスタのしきい値電圧を
    引いた値と等しいことを特徴とする高電位保持回
    路。
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