JPH05508733A - 超電導線 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
U和
光馳U
高品質のNbTi超電導極細線を製造する場合、拡散隔壁の一体性を十分に、信
頼しなければならない。これらの隔壁は、通常Nbで、銅クラツドと、フィラメ
ントの本体となるNbTi超電導合金の間に介在させられる。隔壁は、フィラメ
ント表面で、脆いCuTi金属間化合物が形成されるのを阻止する。線の直径が
、各々、約6ミクロンのフィラメント4,000〜7,000本を含むNbTi
超電導線の従来の製造法では、フィラメント(鋼ではない)容積の約4%を構成
するNb隔壁を用いている。この従来の製造法では、隔壁を、500〜800℃
に約15時間加熱し、次いで300〜450℃で40〜80時間の熱処理を3回
以上行って線を最終の太さにしている。この従来法で加工された極細フィラメン
ト導線の電流密度(Jc’s)i、t、5テスラ(T)で2750A/Im2以
上及び7T (4,2°K) で1600A/u2になる[例えば、1989年
、プレヌムプレス社刊行のスーパーコIダー1中の、第235−243頁、ティ
ー・ニス・クライリック、イー・グレゴリ−、ディー・グリストファーソン、ジ
ー・ビー・スウェンソン及びジェー・ウォン著”スーパーコンダクティングワイ
ヤーアン° ドケーブルフォーザスーパーコンダクティングスーパーコリダーn
(”Sup−erconducting Wire and Cable f
or theSuperconducting 5uper Co11ider
”、T、S。
Kreilick、E、Gregory、D+Christopherson。
G、P+Swenson、and J、Wong、Su ercollid−e
r 1.Plenum Press、1989.235−243)を参照のこと
]
一方、満足すべきではないが、これらの電流密度が3,800A/D2(5T。
4.2’ K)以下の場合、直径の太いフィラメントで構成された線に加工され
ていた。フィラメントが細くなるにつれて、電流密度が小さくなるのは、隔壁の
問題に起因する。
高温で長時間処理すると、NbTi合金コアから、Tiが拡散するため、Nb隔
壁の確認が出来なくなり勝ちである。Tiが、純粋Nb隔壁中に拡散すると、T
iが、NbTi合金フィラメントコアの表面から放出され、結果として、コアの
全Jcが低下する、ということを銘記すべきである。また、隔壁からTiが拡散
すると、フィラメントの表面にCuTi化合物が形成される。この脆いCuTi
化合物は、冷間収縮の間に、破壊され、結果として、ノジュール”nodu−1
eS″を形成し、それがJcと線の延性の両方に悪影響を与える。フィラメント
の銅マトリックス、Nb隔壁とNbTiコアの各界面は、この製造法の中心的役
割を担っている。
界面が不規則な場合、拡散隔壁の薄さが極端に、かたよる。この影響は隔壁及び
、さらに周囲の鋼の中に突出がある部分に、特に明らかである。これらの部分に
は、薄さが目立たない部分よりも、多量にCuTi化合物が形成されると考えら
れる。これらのCuTi1l域、ノジュールは、線延伸工程中に破壊され、さら
にフィラメントのソーセージ化の原因になる。
拡散隔壁が薄くなる問題の解決策は、より厚い隔壁を使用して、問題を引き起こ
す原因となる薄い箇所が無いようにすることである。残念なことに、隔壁が厚く
なると、NbTiを犠牲にすることになる。隔壁は、作動磁場でJcを支持せず
、隔壁が薄くなると金てJcが低下する。かてて加えて、隔壁が厚くなると、N
bTiのTiの放出問題を、決して軽減することはできない。CuTi化合物の
形成問題程劇的ではないが、電流容量が向上するのであれば、この問題も無視で
きない。従って、隔壁を厚くすれば、隔壁が薄いために起きる問題の解決策には
なるが、この解決策は理想からはほど遠い。
隔壁を厚くすることによって表面の不規則性を補正するよりも、不規則性を除去
すること、即ち、拡散隔壁の背後の表面をできるだけ均一にすることの方が、む
しろ好ましいことを我々は発見した。それが均一な表面で囲まれていると、拡散
隔壁がより効果的になる。ノジュールの形成が、十分に阻止され、隔壁が厚くな
る程度にまで、必要な増加は最小限にとどまる。均一なNbTiの均一な表面の
フィラメントを製造することが本発見の第一目的である。
2種あるいはそれ以上の金属を一緒に処理・加工する場合は、界面の不規則性の
程度は、常に、多くの要因に依存している。それらの要因は;1、材料の相対硬
度。
2、材料の粒度。
3、前処理としての冶金及び機械加工(例えば熱間加工、冷間加工及び全変形)
によって決められる材料の組織と全構造。
均一性の観点から、理想的な界面は、殆ど硬度が等しい2種の金属の界面で、こ
れらの金属は、表面ができるだけ滑らかになるように、界面の平面に沿って配列
されている極微細の粒子を有している。明らかに、圧延シート材が、この要件に
よく適している。フィラメントの均一性を改良する目的で圧延シートを使用する
ことが本発明の基本となる。スーパーコンインコーホレーテッド(Supe−r
con Inc、)の特許第4.646,197は、Taキャパシタ線の製造に
関する特許で、微粒子Taのシートを、NbあるいはTaインゴットに巻き付け
、高温下で、線にTa粒子が成長するのに、著しい抵抗力を持つ滑らかな線表面
を提供するものである。
楚吋Ω説朋
本発明を、一層十分に、理解するために、以下の記述及び添付した図面と共に実
施例が参照されるべきである。
図1は、本発明による超電導合金シートを含むモノフィラメントビレットの断面
の略図である;そして、
図2は、本発明によって製造されたモノフィラメントを使用しているマルチフィ
ラメントの断面の略図である。
極細フィラメント超電導線の製造において、従来の方法は、モノフィラメント線
を製造し、次いで、そのモノフィラメント線から、1回あるいはそれ以上の積重
ね操作によって、マルチフィラメントを製造するものである。モノフィラメント
線は、通常3つの要素、即ち超電導合金インゴット、このインゴットを取り巻い
ているシート状の隔壁材料、及び隔壁とインゴットの両方を取り巻く銅押出し缶
を含むビレットから製造される。本発明において、第4の要素、即ち隔壁シート
とインゴットCFig、1)の間に介在される超電導材料の微粒子(ASTM微
粒子サイズNo>8)の連続シートが付加される。これらの超電導シートは、拡
散隔壁とインゴットの間の界面の表面の不整の程度を軽減し、かつシートの微粒
子構造と、シート対シート界面の存在の両方によって与えられる増加した束係止
によって、Jcが大きくなるとも考えられる。
超電導合金シートは、超電導の全横断面積、あるいはそれらの部分、必要な均一
性の程度によって決定される量及び用途に応じた特定の要件を構成している。
シートは基本的には、中心のインゴットと同じ合金組成物である。例えば、イン
ゴットが、Nb46.5wt%Tiの場合、NbTiシートの組成はNb50w
七%であり得る。更に、これは用途によって決定される。
滑らかなシートが、インゴットの表面の微小な不整部分を被覆するので、粒子の
侵入、あるいはインゴット製造の不完全さの結果としての拡散隔壁の薄さが偏在
することがなくなる。かてで加えて、シートの組成を変化させることができると
いうことは、拡散損失の見地から、大きな利点である。NbTiの場合、インゴ
ットの周囲にTi富レシート使用すると、拡散損失の補正に役立ち、そしてNb
Ti領域のJcが維持される。シート中のTi含有量をより多く(約50wt%
Ti)I、でも、Jc性能を高めることができる。50wt%Ti合金から成る
インゴットは冷間加工が難しいが、Ti富レシートTi貧インゴットの間で超電
導面積が適当に分割されている限り、この問題は発生しない。
本発明を実施すると、NbTiシートを使用することによってさらに利点がある
ことがわかった。要約すると、実施した実験では、標準的なインゴットを含むも
のと、固体NbTiコアを取り巻いたNbTiシートを含むものの2種類のモノ
フィラメントビレットを製造した。固体NbTi材料と比べてシートを有する線
の方が、電流密度が高いことが、加工後わかった。このことは、線の太さにかか
わらず、かつJcテストで使用した1−9T磁場の全範囲でいえた。シート面積
のJcは、既知のビレットの寸法に基づいて計算し、そして固体NbTiより、
8〜10%高いことがわかった。従って、我々は、NbTiシートを使用すると
、フィラメントの電流密度を上げることもできると考えた。恐らく、この密度の
上昇は、シート間の界面で起きる束係止の改良によるものと考えられるが、いま
だ確認していない。
本発明は、電流隔壁技術の改良に関する。6ミクロンのフィラメントを含む、高
品質のNbTi超電導線に対する現在の要求、及び2.5ミクロン程度の小さな
フィラメントを有する線に対する磁石産業の要望の両方が、本発明によって、か
なえられる。特に、必要な2.5ミクロン材料(22,000フイラメント)を
製造するには、さらに積重ねが必要である。この付加加工工程では、6ミクロン
フィラメント材料の加工工程より高圧力が、隔壁に負荷される。本発明は、最少
量の隔壁材料で、隔壁の効果を最大にするのに寄与する。
本発明を実施するのに好ましい方法を以下の実施例で述べる。
大施!H−
図1は、NbTiモノフィラメントビレットの断面の略図である。ビレットは、
固体NbTiインゴットが、普通に存在するであろう箇所に、Nb50wt%T
iシートが含有されていることを除いては、代表的なモノフィラメントNbT
iである。Nb拡散隔壁とNbTiシートは各々、非−鋼容積の約4%を占めて
いる。加工工程中に放出されるTiを補い、かつ最終の電導体のJcを幾らかで
も増加させるために、N b T iシートの組成は、Nb50wt%Tiであ
る。シートは、厚さ0.015’のシート中の粒子が、呼称寸法で約22ミクロ
ン(ASTM微粒子サイズNo>8)以下になるように、Nb50wt%Tiイ
ンゴヅトから圧延とアニールによって、製造される。
後続工程のマルチフィラメントビレットに十分な材料を供給するような構成で3
種のモノフィラメントビレットを製造する必要がある。ビレットは、総て同じ方
法で、構成し且つ加工する。最初に、NbTiインゴット及び0FHC鋼押出し
缶、ノーズ及びテールを機械加工して適当な寸法にし、NbとNbTiシートを
適当な寸法に切断する。標準的なモノフィラメントの設計は、長さ24”のコア
を必要とするので、NbTiインゴットをこの長さに切断し、かつ総てのシート
材料をこの巾に切断しなければならない。図1の設計に基づけば、各ビレットは
、長さ69.5”、厚さ0.015’のNbシートと、長さ68.0”、厚さ0
.015”のNb50wt%Tiシートが必要である。これらが連続ストリップ
であれば、組立ては容易であるが、必要ならば幾つかの短尺材を使用してもよい
。
全部材を清浄にしてから、モノフィラメントビレットに組立てる。シート部分の
空隙量を最少になるように注意しなければならない。最後に、NbTiインゴッ
トを挿入する。次いで、真空下、電子ビーム溶接で、各ビレットの頂部と底部に
、銅のノーズとテールを取付ける。
650℃で3時間の加熱押し出しによってシールドビレットを製造する。次いで
、このビレットを、650℃で、直径7.125”の線から、直径1.00”に
押し出す。押し出し物のノーズとテールの余分の銅を切り取り、次いで、再層成
できる寸法、即ち0.1033”フラット対フラットの六角線に冷間延伸する。
図2は、六角モノフィラメント線から構成されるマルチフィラメントビレットの
略図である。モノフィラメントは、実際は六角形であるが、便宜上、断面を円形
で示しである。十分な量の0FHC鋼を延伸して、六角形にした後、銅及びNb
Tiモノフィラメント線の両方を31.625”の長さに切断する。缶、ノーズ
及びテールを機械加工し、全部材を清浄にし、次いでビレットに組立てる。図2
に示す比率で、左右対称に、ビレットを製造するが、その際、六角形の、密封さ
れ、充填された線配列を、丸い缶に嵌入する時に必ず発生する空隙を最少にする
ように注意する。フィラメント配列が完成したら、銅缶をその周りに滑入させる
。必要ならば、絞り嵌めを完全にするために、線配列の周辺に銅フィラメントを
添加する。次いで、真空下、電子ビーム溶接で、ノーズとテールを缶に取り付け
る。
マルチフィラメントビレットを高温等圧圧縮加工して、多くの副要素を取り付け
る。モノフィラメント設計の結果、高温等圧圧縮加工されたマルチフィラメント
ビレットのフィラメント間隔−直径比(S/d)は、0.168である。この場
合、直径は、その隔壁を含めたNbTiフィラメントの平均直径で、間隔は、隣
接するフィラメント間の距離である。押し出し加工の間にフィラメントがソーセ
ージ化するのを防止するには、S/dが小さいことが重要である;若し、フィラ
メントが、その直径に比較して、ぎっしりと詰っている場合、それらは互いに、
機械的に支持し合う。この種のマルチフィラメントには、S/dが0.168で
十分である。
高温等圧圧縮後、マルチフィラメントのノーズとテールを機械加工して、後続高
温等圧圧縮加工缶の直径に合わせる。次に、ビレットを加熱し、さらに直径12
.36”の線から、直径3.25”に押し出す。押し出し物の先端を切り取り、
次いで延伸加工して、熱処理を始める直径にする。冷間加工とは別に熱処理を適
用すると、最終電導体のJcが最適になる。熱処理には、色々改良技術があるが
、極細フィラメントNbTi電導体には下記の技術が代表的である:直径1.0
0”、0.640”、0.460”及び0.325”の線に対して、375℃で
40時間の熱処理。
最後の熱処理後、マルチフィラメントを延伸して、最終直径0.0318”の線
にする、ここでフィラメントの直径は約6ミクロンである。かかる電導体1よ、
超電導超コリダーのような先進機械用に適している。本発明を適用すると、Jc
を、同様の極細フィラメントNbTi電導体で得られる2750A/1m” (
5T。
4.2°K)以上に高める。モジュールの無い線は、延性が大きくなるので、−
片の長さく最終寸法に成る線セグメントの平均長さ)も実質的に大きくなる。
実施例1に記載した本発明によって、インゴットよりチタンの含有量が高り’+
NbTiシートで、モノフィラメント中のNbTiインゴットを被覆することに
よって、チタン損失が相殺される。然しなから、この方法は、二種類の合金を溶
融する必要があり、高価である。さらに、高チタン合金は、標準合金より冷間加
工しにくいので、高チタンシートの製造には問題が発生する。
高チタン合金シートの別の用途は、インゴットと同じ組成を有するシート、及び
これらのシートを、比較的薄い純粋チタン層のシートと交替することである。
薄いチタン層は、同じシートが、チタンをニオブ隔壁に損失させる時でさえ、合
金シートに拡散するチタンの溜めとして寄与する。
一般に、チタンシートは、チタンの拡散を完全に促進させるように、NbTiシ
ートより薄くなければならない。NbTi−チタンシート厚さ比は、7:1ある
いはそれ以上が好ましい。フィラメントへのチタン放出はそれ程重要で1よなり
)ので、NbTiとチタンシートの全容積は、フィラメント容積の約15%を越
えてはならない。隔壁効果を最高に確保するために、NbTiとチタンシート番
よ、呼称粒径が22μm(ASTM微粒子サイズNo>8)以下でなければなら
なしt。
チタンの最外層は、NbTiの最外層の内側である。即ち、Nb隔壁は、チタン
と直接接触していてはならない、なぜならば、この状態だけが、隔壁へのチタン
放出を促進するからである。
以上、NbTiに焦点を当てて論述したが、同じような拡散損失(例えば、Zr
が損失するNbZr)を受けるフィラメントタイプ■超電導体にも、これらの原
理が応用されることは明らかである。同じことが、本発明を実施する好ましい方
法を記述する次の実施例にもいうことができる。
爽施透■
図3は、NbTiモノフィラメントビレットの断面の略図である。このビレット
は、固体NbTiインゴットが、通常存在するであろう箇所に、Nb46.5w
t%Tiと純粋チタンの一連のシートが、含まれているという事を除いて、典型
的なモノフィラメントNbTiである。Nb拡散隔壁は、非−鋼の容積が約4%
を占めており、一方、NbTi/チタンシート容積は約5%である。NbTiと
チタンシートの両方が、粒子の呼称直径が約22μm以下(ASTM微粒子サイ
ズNo、>8)になるように、圧延とアニールによって製造される。最適の加工
性のためにもチタンシートの純度は、グレード2或いはそれ以上でなければなら
ない。
後続のマルチフィラメントビレットへ十分な材料を供給するために、三種類のモ
ノフィラメントビレットを加工しなければならない。ビレットは、全て同じ方法
で設計、加工される。最初に、NbTiインゴットと0FHC1N押し出し缶、
ノーズ及びテールを適当な寸法に機械加工し、そしてニオブ、NbT1及びチタ
ンシートは、切断して適当な寸法にする。標準的なモノフィラメントの設計には
、24”長のコアが必要である、従ってNbTiインゴットをこの長さに切断し
、シートの全材料を、この巾に切断しなければならない。図3の設計に基づくと
、各ビレットは、長さ72.0”、厚さ0.015″のNbシート、長さ68.
0”、厚さ0.015”(7)Nb46.5wt%Tiシー)、及び長さ68.
0”、厚さ0.002”のチタンシートを必要とする。これらが連続ストリップ
ならば組立てが容易であるが、必要ならば、短尺材料も使用できる。
全部材を清浄にした後、モノフィラメントビレットを組立てる。シート部材の空
隙量を最少にするように留意しなければならない。シートの後にNbTiインゴ
ットを挿入する。次いで、真空下、電子ビーム溶接によって、各ビレットの頂部
と底部にノーズとテールを取り付ける。ビレットを650℃で3時間加熱し、押
し出しによって密閉ビレットを製造する。次いで、ビレットを650℃で押し出
し、直径7.125″の線から直径i、oo”にする。押し出し物のノーズとテ
ールの余分の銅を切り取り、次いで再層成できる寸法、即ち0.1033”フラ
ット対フラットの六角線に冷間加工する。
次いで、生成物を図2に関して前述したようにして処理する。十分な量の0FH
C鋼を延伸し、六角形にした後、鋼とNbTiモノフィラメント線の両方を31
.625’の長さに切断する。缶、ノーズ及びテールを機械加工し、全部材を清
浄にし、次いでビレットに組立てる。図2に示す割合で左右対称にビレットを製
造するが、その際、六角形の密封され、充填された線配列を丸い缶に嵌入する時
に必ず発生する空隙を最少にするように注意する。フィラメント配列が完成した
ら、銅缶をその周りに滑入させる。必要ならば、締り嵌めを完全にするために、
線配列の周辺に鋼フィラメントを添加する。次いで、真空下、電子ビーム溶接で
、ノーズとテールを缶に取り付ける。
マルチフィラメントビレットを高温等圧圧縮加工して、多くの副要素を取り付け
る。モノフィラメント設計の結果、高温等圧圧縮加工したマルチフィラメントビ
レットのフィラメント間隔−直径比(S/d)は、0.168である。この場合
、直径は、そのか隔壁を含めたNbTiフィラメントの直径で、間隔は、隣接す
るフィラメント間の距離である。押し出し加工の間にフィラメントがソーセージ
化するのを防止するには、S/dが小さいことが重要である:若し、フィラメン
トが、その直径に比較して、ぎっしり詰まっている場合、それらは互いに、機械
的に支持し合う。この種のマルチフィラメントには、S/dが0.188で十分
である。
高温等圧圧縮後、マルチフィラメントのノーズとテールを機械加工して、後続で
高温等圧圧縮加工した缶の直径に合せる。次に、ビレットを加熱し、さらに直径
12.36’の線から、直径3.25”に押し出す。押し圧し物の先端を切り取
り、次いで延伸加工して、熱処理を始める直径にする。冷間加工とは別に、熱処
理を適用すると、最終電導体のJcを最適にすることができる。熱処理には色々
な改良技術があるが、極細フィラメントNbTi電導体には下記の技術が代表的
テアル:直径1.00’、0.640”、0.460”及び0.325”ノ線に
対して375℃で40時間の熱処理。
最後の熱処理後、マルチフィラメントを延伸して、最終直径0.0318″′の
線にする、ここで、フィラメントの直径は約6μmである。かかる電導体は、超
伝導超コリダーのような先進機械に適している。実嵐例Hの態様を適用すると、
Jcを、同様の極細フィラメントNbTi電導体で得られる2750A/1mm
2(5T、4.2’ K)以上に高める。ノジュールの無い線の延性は大きいの
で、ピース長さ一一一最終寸法に達する線セグメントの平均長さ一一一も、実質
的に大きくなる。
圧は
BΩ】
超電導線
要約
タイプHの超電導フィラメントは、タイプHの超電導合金の微粒子の層を有する
タイプHの超電導合金のインゴットコア及び両押8し缶の中に!かれた耐熱性の
金属障壁層によって囲むことによって形成される。(第1図)当該複合物は、次
に加熱及び冷却加工によってフィラメントに変えられる。多重フィラメント用ワ
イヤは、微妙な超電流密度を表す。
補正書の写しく翻訳文)提出書
(特許法第184条の8)
平成4年11月17日
特許庁長官 麻 生 渡 殿 囚
1、特許出願の表示
PCT/US91103425
2、発明の名称
超電導線
3、特許畠願人
氏名 コンポジット マテリアル テクノロジー インコーホレーテッド
4、代理人
5、補正書の提出年月日
1992年3月25日
6、添付書類の目録
請求の範囲(補正後)
1、NbTi合金の一つあるいはそれ以上の離隔層で取り巻かれているNbTi
超電導合金コアー、前記層を取り巻いている耐火性の金属バリヤー、及び前記バ
リヤーを取り巻いている通常の金属のシーズを有し、前記シーズ、層及びコアー
が、少なくとも10倍の共−縮小によって冶金的に結合されている超電導フィラ
メント。
2、タイプ■合金の一つあるいはそれ以上の離隔層で取り巻かれているタイプ■
超電導合金コアー、前記層を取り巻いている耐火性金属バリヤー、及び前記バリ
ヤーを取り巻いている通常の金属のシーズを有し、前記シーズ、層及びファーが
、少なくとも10倍の共−縮小、及び450℃で、総計少なくとも10時間の複
数回の熱処理によって冶金的に結合されている超電導フィラメント。
3、タイプ■合金の一つあるいはそれ以上の離隔層で取り巻かれているタイプ■
超電導合金コアー、前記層を取り巻いている耐火性の金属バリヤー、及び前記バ
リヤーを取り巻いている通常の金属のシーズを有し、前記シーズ、層及びコアー
が、少なくとも10倍の共−縮小によって冶金的に結合され、前記タイプ■合金
の離隔層が22ミクロン呼称直径(ASTM微粒子サイズ8)以下の初期粒子サ
イズを有する超電導フィラメント。
4、タイプ■合金層の間の界面が、約0.5ミクロンの間隔があり、前記界面が
束係止部位を有する超電導フィラメント。
5、前記離隔層中のTi濃度が、前記コアー中より高い請求の範囲2の超電導フ
ィラメント。
6、NbTi超電導合金インゴットを、微粒子NbTi超電導シートの一つある
いはそれ以上の層及び外側の耐火性金属バリヤ一層で取り巻き、前記バリヤーを
、綱缶で取り巻き、ここで前記微粒子層が直径22ミクロン以下の粒子サイズを
有し、前記複合物を高温等圧圧縮して、前記層に結合させ、形成された結合生成
物を熱間押出しし、そして縮小させて直径10ミクロン以下のフィラメントを有
する線にし、前記NbTi層の厚さを、各々0.5ミクロン以下にすることを含
むNbTi超電導合金フィラメントを製造する方法。
7、前記NbTiの離隔層が、凝集体で、NbTiコアーより高濃度のTiを有
する請求の範囲1のフィラメント。
8、前記微粒子NbTiシートの層が、NbあるいはTi金属の一つの少なくと
も一つの層で散在されている請求の範囲6の方法。
9、前記微粒子NbTiシートの層が少なくともTiの1つの層で散在されてい
る請求の範囲3の超電導フィラメント。
国際調査報告
Claims (11)
- 1.NbTi合金の一つあるいはそれ以上の離隔層で取り巻かれているNbTi 超電導合金コアー、前記層を取り巻いている耐火性の金属バリヤー、及び前記バ リヤーを取り巻いている通常の金属のシーズを有し、前記シーズ、層及びコアー が、少なくとも10倍の共一縮小によって冶金的に結合されている超電導フィラ メント。
- 2.タイプII合金の一つあるいはそれ以上の離隔層で取り巻かれているタイプ II超電導合金コアー、前記層を取り巻いている耐火性金属バリヤー、及び前記 バリヤーを取り巻いている通常の金属のシーズを有し、前記シーズ、層及びコア ーが、少なくとも10倍の共一縮小、及び450℃で、総計少なくとも10時間 の複数回の熱処理によって冶金的に結合されている超電導フィラメント。
- 3.タイプII合金の一つあるいはそれ以上の離隔層で取り巻かれているタイプ II超電導合金コアー、前記層を取り巻いている耐火性の金属バリヤー、及び前 記バリヤーを取り巻いている通常の金属のシーズを有し、前記シーズ、層及びコ アーが、少なくとも10倍の共一縮小によって冶金的に結合され、前記タイプI I合金の離隔層が22ミクロン呼称直径(ASTM微粒子サイズ8)以下の初期 粒子サイズを有する超電導フィラメント。
- 4.タイプII合金層の間の界面が、約0.5ミクロンの間隔があり、前記界面 が束係止部位を有する超電導フィラメント。
- 5.NbTiの少なくとも1つの離隔層で取り巻かれているNbTi超電導合金 コアーを有し、前記離隔層中のTiの温度が、前記コアー中の濃度より高い超電 導フィラメント。
- 6.(タイプII)超電導合金インゴットを、微粒子(タイプII)超電導シー トの1つあるいはそれ以上の層及び、外側の耐火性の金属バリヤー層で取り巻き 、そのバリヤーを銅缶で取り巻き、ここに前記微粒子層が、直径22ミクロン以 下の粒子を有し、前記複合物を高温等圧圧縮して前記層に結合させ、形成された 結合生成物を熱間押し出しし、そして押し出された生成物を縮小させて、直径1 0ミクロン以下のフィラメントを有する線にし、前記タイプIIの層の厚さを、 各々0.5ミクロン以下にすることを含むタイプII超電導合金フィラメントを 製造する方法。
- 7.前記NbTiの離隔層が、凝集体として、NbTiコアーより高濃度のTi を有している請求の範囲1のフィラメント。
- 8.前記タイプII合金の離隔層が、凝集体として、タイプII合金コアーより 高濃度の可動金属を有している請求の範囲2のフィラメント。
- 9.前記、微粒子タイプIIシートの層が、少なくとも1つの合金金属の少なく とも1つの層で散在されている請求の範囲2の方法。
- 10.(NbTi)超電導合金インゴットを、微粒子(NbTi)超電導シート の少なくとも1つあるいはそれ以上の層で及び、その外側の耐火性金属バリヤー 層で取り巻き、そのバリヤーを銅缶で取り巻き、ここで前記微粒子層が直径22 ミクロン以下の粒子サイズを有し、前記複合物を高温等圧圧縮して前記層に結合 させ、形成された結合生成物を熱間押し出しし、そして押し出された生成物を縮 小させて、直径10ミクロン以下のフィラメントを有する線にし、前記タイプI I層の厚さを、各々0.5ミクロン以下にすることを含むタイプII超電導合金 フィラメントを製造する方法。
- 11.前記微粒子NbTiシートの層が、Tiの少なくとも1つの層で散在され ている請求の範囲10の方法。
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