JPH054987A - ピラゾロピリジン誘導体の製造法 - Google Patents
ピラゾロピリジン誘導体の製造法Info
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- JPH054987A JPH054987A JP22083391A JP22083391A JPH054987A JP H054987 A JPH054987 A JP H054987A JP 22083391 A JP22083391 A JP 22083391A JP 22083391 A JP22083391 A JP 22083391A JP H054987 A JPH054987 A JP H054987A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 式(II)と式(III)の化合物を塩基の存在下で
反応させ、必要に応じ保護されたカルボキシル基の脱保
護反応に付して、式（Ｉ）のピラゾロビリジン化合物ま
たはその塩を製造する方法。 【化１１】 ［式中、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基または低級アルコキシ基を、Ｒ2は置換されていても
よいアリール基を、Ｒ3は保護されたカルボキシル基を
Ａは低級アルケニレン基を、およびＸ-は陰イオンを示
す。］ 【効果】 ピラゾロビリジン化合物を単工程で、かつ収
率よく製造することができる。
反応させ、必要に応じ保護されたカルボキシル基の脱保
護反応に付して、式（Ｉ）のピラゾロビリジン化合物ま
たはその塩を製造する方法。 【化１１】 ［式中、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基または低級アルコキシ基を、Ｒ2は置換されていても
よいアリール基を、Ｒ3は保護されたカルボキシル基を
Ａは低級アルケニレン基を、およびＸ-は陰イオンを示
す。］ 【効果】 ピラゾロビリジン化合物を単工程で、かつ収
率よく製造することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はピラゾロ［１，５−
ａ］ピリジン誘導体の製造法に関する。この発明の化合
物は、利尿・降圧剤の合成中間体として有用である。
ａ］ピリジン誘導体の製造法に関する。この発明の化合
物は、利尿・降圧剤の合成中間体として有用である。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】（２
Ｒ）−１−［３−（２−フェニルピラゾロ［１，５−
ａ］ピリジン−３−イル）アクリロイル］−２−（２−
ヒドロキシエチル）ピペリジンは、利尿・降圧剤等とし
て有用である。しかしながら、その合成の鍵化合物であ
る３−（２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
−３−イル）アクリル酸エステルは、Ｎ−アミノピリジ
ン化合物を原料として数工程を経て合成する必要があっ
た。この発明は、上記の鍵化合物をＮ−アミノピリジン
化合物から短い工程でかつ収率よく合成する方法を鋭意
研究をした結果見出されたものである。
Ｒ）−１−［３−（２−フェニルピラゾロ［１，５−
ａ］ピリジン−３−イル）アクリロイル］−２−（２−
ヒドロキシエチル）ピペリジンは、利尿・降圧剤等とし
て有用である。しかしながら、その合成の鍵化合物であ
る３−（２−フェニルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン
−３−イル）アクリル酸エステルは、Ｎ−アミノピリジ
ン化合物を原料として数工程を経て合成する必要があっ
た。この発明は、上記の鍵化合物をＮ−アミノピリジン
化合物から短い工程でかつ収率よく合成する方法を鋭意
研究をした結果見出されたものである。
【０００３】
【課題を解決するための手段】この発明は、Ｎ−アミノ
ピリジン化合物から単工程でかつ収率よくピラゾロピリ
ジン誘導体を製造する方法を提供するものである。かく
して、この発明によれば、式（III）： Ｒ2−Ｃ≡Ｃ−Ａ−Ｒ3 （式中、Ｒ2は置換されていてもよいアリール基、Ｒ3は
保護されたカルボキシル基、およびＡは低級アルケニレ
ン基を意味する）で示される化合物と、式（II）：
ピリジン化合物から単工程でかつ収率よくピラゾロピリ
ジン誘導体を製造する方法を提供するものである。かく
して、この発明によれば、式（III）： Ｒ2−Ｃ≡Ｃ−Ａ−Ｒ3 （式中、Ｒ2は置換されていてもよいアリール基、Ｒ3は
保護されたカルボキシル基、およびＡは低級アルケニレ
ン基を意味する）で示される化合物と、式（II）：
【０００４】
【化６】
（式中、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基または低級アルコキシ基、およびＸ-は陰イオンを意
味する）で示されるＮ−アミノピリジン化合物と塩基の
存在下で反応させ、次いで必要に応じ保護されたカルボ
キシル基の脱保護反応に付して式（Ｉ）：
基または低級アルコキシ基、およびＸ-は陰イオンを意
味する）で示されるＮ−アミノピリジン化合物と塩基の
存在下で反応させ、次いで必要に応じ保護されたカルボ
キシル基の脱保護反応に付して式（Ｉ）：
【０００５】
【化７】
（式中、Ｒ1，Ｒ2およびＡは上記と同一意味、Ｒ3'はカ
ルボキシル基または保護されたカルボキシル基を意味す
る）で示されるピラゾロピリジン化合物またはその塩類
を得ることを特徴とするピラゾロピリジン誘導体の製造
法、および 式（IV） Ｒ2−Ｃ≡Ｃ−ＣＨＯ （式中、Ｒ2は置換されていてもよいアリール基を意味
する）で示されるアルデヒド化合物と式（Ｖ）
ルボキシル基または保護されたカルボキシル基を意味す
る）で示されるピラゾロピリジン化合物またはその塩類
を得ることを特徴とするピラゾロピリジン誘導体の製造
法、および 式（IV） Ｒ2−Ｃ≡Ｃ−ＣＨＯ （式中、Ｒ2は置換されていてもよいアリール基を意味
する）で示されるアルデヒド化合物と式（Ｖ）
【０００６】
【化８】
（式中、Ｒ3は保護されたカルボキシ基、Ａ1は低級アル
キレン基、およびＲ4は低級アルキル基を意味する）で
示されるリン化合物とを塩基の存在下で反応させ、式
（III） Ｒ2−Ｃ≡Ｃ−Ａ−Ｒ3 （式中、各記号は上記と同一意味）で示される化合物を
生成させ、これを単離するかせずに、式（II）
キレン基、およびＲ4は低級アルキル基を意味する）で
示されるリン化合物とを塩基の存在下で反応させ、式
（III） Ｒ2−Ｃ≡Ｃ−Ａ−Ｒ3 （式中、各記号は上記と同一意味）で示される化合物を
生成させ、これを単離するかせずに、式（II）
【０００７】
【化９】
（式中、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基または低級アルコキシ基、およびＸ-は陰イオンを意
味する）で示されるＮ−アミノピリジン化合物と塩基の
存在下で反応させ、次いで必要に応じ保護されたカルボ
キシル基の脱保護反応に付して、式（Ｉ）
基または低級アルコキシ基、およびＸ-は陰イオンを意
味する）で示されるＮ−アミノピリジン化合物と塩基の
存在下で反応させ、次いで必要に応じ保護されたカルボ
キシル基の脱保護反応に付して、式（Ｉ）
【０００８】
【化１０】
（式中、Ｒ1，Ｒ2およびＡは上記と同一意味、Ｒ3'はカ
ルボキシル基または保護されたカルボキシル基を意味す
る）で示されるピラゾロピリジン化合物またはその塩類
を得ることを特徴とするピラゾロピリジン誘導体の製造
法が提供される。
ルボキシル基または保護されたカルボキシル基を意味す
る）で示されるピラゾロピリジン化合物またはその塩類
を得ることを特徴とするピラゾロピリジン誘導体の製造
法が提供される。
【０００９】上記式中、Ｒ1およびＲ4で示される低級ア
ルキル基としては、Ｃ1-5アルキル、例えばメチル、エ
チル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−
ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉ−ペンチル、ｓ
−ペンチル等が挙げられ、とりわけ、メチル、エチル、
ｎ−プロピル等が好ましい。Ｒ1で示される低級アルコ
キシ基としては、Ｃ1-3アルコキシ、例えばメトキシ、
エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉ−プロポキシ等が挙げら
れ、とりわけメトキシ、エトキシ等が好ましい。Ｒ1で
示されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、
ヨウ素が挙げられる。
ルキル基としては、Ｃ1-5アルキル、例えばメチル、エ
チル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−
ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉ−ペンチル、ｓ
−ペンチル等が挙げられ、とりわけ、メチル、エチル、
ｎ−プロピル等が好ましい。Ｒ1で示される低級アルコ
キシ基としては、Ｃ1-3アルコキシ、例えばメトキシ、
エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉ−プロポキシ等が挙げら
れ、とりわけメトキシ、エトキシ等が好ましい。Ｒ1で
示されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、
ヨウ素が挙げられる。
【００１０】Ｒ2で示される「置換されていてもよいア
リール基」におけるアリール基としては、例えば、フェ
ニル、ナフチル、インデニル、アントリル等が挙げら
れ、とりわけフェニルが好ましい。これらのアリール基
における適当な置換基としては、例えばフッ素、塩素、
臭素、ヨウ素のようなハロゲン原子；例えばメトキシ、
エトキシ、プロポキシ等のＣ1-3アルコキシ基、ニトロ
基、アミノ基、モノ−またはジーＣ1-3アルキルアミノ
基、ウレイド基、Ｃ1-3アルカノイルアミノ基、Ｃ 1-3ア
ルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ1-3アルカンスルホニ
ルアミノ基等が挙げられる。置換基の数は１〜３個が好
ましい。置換されていてもよいアリール基の具体例とし
ては、フェニル、クロロフェニル、メトキシフェニル、
ニトロフェニル、アミノフェニル、アセチルアミノフェ
ニル、メトキシカルボニルアミノフェニル、メタンスル
ホニルアミノフェニル、メチルアミノフェニル及びジメ
チルアミノフェニルなどが挙げられる。
リール基」におけるアリール基としては、例えば、フェ
ニル、ナフチル、インデニル、アントリル等が挙げら
れ、とりわけフェニルが好ましい。これらのアリール基
における適当な置換基としては、例えばフッ素、塩素、
臭素、ヨウ素のようなハロゲン原子；例えばメトキシ、
エトキシ、プロポキシ等のＣ1-3アルコキシ基、ニトロ
基、アミノ基、モノ−またはジーＣ1-3アルキルアミノ
基、ウレイド基、Ｃ1-3アルカノイルアミノ基、Ｃ 1-3ア
ルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ1-3アルカンスルホニ
ルアミノ基等が挙げられる。置換基の数は１〜３個が好
ましい。置換されていてもよいアリール基の具体例とし
ては、フェニル、クロロフェニル、メトキシフェニル、
ニトロフェニル、アミノフェニル、アセチルアミノフェ
ニル、メトキシカルボニルアミノフェニル、メタンスル
ホニルアミノフェニル、メチルアミノフェニル及びジメ
チルアミノフェニルなどが挙げられる。
【００１１】Ｒ3で示される保護されたカルボキシル基
としては、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、例えばメト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカル
ボニル、ブトキシカルボニル、第３級ブトキシカルボニ
ル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボ
ニルなどが挙げられる。
としては、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、例えばメト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカル
ボニル、ブトキシカルボニル、第３級ブトキシカルボニ
ル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボ
ニルなどが挙げられる。
【００１２】Ａで示される低級アルケニレン基として
は、Ｃ2-6アルケニレン基、好ましくはＣ2-4アルケニレ
ン基、より好ましいものとしてビニレン基が挙げられ
る。
は、Ｃ2-6アルケニレン基、好ましくはＣ2-4アルケニレ
ン基、より好ましいものとしてビニレン基が挙げられ
る。
【００１３】Ａ1で示されるアルキレン基としてはＣ2-6
アルキレン基、好ましくはＣ2-4アルキレン基、例えば
メチレン、エチレン、プロピレン基等が挙げられる。
アルキレン基、好ましくはＣ2-4アルキレン基、例えば
メチレン、エチレン、プロピレン基等が挙げられる。
【００１４】Ｘ-で示される陰イオンとしては、ハロゲ
ンイオン、水酸イオン、硝酸イオンなどが挙げられる。
この発明の式（Ｉ）の化合物の塩類としては、例えば、
ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩および例
えば、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類
金属塩のような金属塩、アンモニウム塩、例えば、トリ
メチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピ
コリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ'−ジベ
ンジルエチレンジアミン塩等の有機塩基塩、例えば酢酸
塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、フ
マル酸塩、メタンスルホン酸塩、ベルゼルスルホン酸
塩、ギ酸塩、トルエンスルホン酸塩等の有機酸塩、例え
ば、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、
リン酸塩等の無機酸塩、例えば、アルギニン、アスパラ
ギン酸、グルタミン酸等のアミノ酸との塩等が挙げられ
る。
ンイオン、水酸イオン、硝酸イオンなどが挙げられる。
この発明の式（Ｉ）の化合物の塩類としては、例えば、
ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩および例
えば、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類
金属塩のような金属塩、アンモニウム塩、例えば、トリ
メチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピ
コリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ'−ジベ
ンジルエチレンジアミン塩等の有機塩基塩、例えば酢酸
塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、フ
マル酸塩、メタンスルホン酸塩、ベルゼルスルホン酸
塩、ギ酸塩、トルエンスルホン酸塩等の有機酸塩、例え
ば、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、
リン酸塩等の無機酸塩、例えば、アルギニン、アスパラ
ギン酸、グルタミン酸等のアミノ酸との塩等が挙げられ
る。
【００１５】式（III）の化合物と式（II）のＮ−アミ
ノピリジン化合物との反応は、通常反応に不活性な有機
溶媒中で塩基の存在下で行われる。塩基としては、水酸
化アルカリ金属（例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム）、アルカリ金属アルコラート（例えばナトリウム
メチラート、ナトリウムエチラートなど）などが挙げら
れる。塩基の使用量は、式（II）のＮ−アミノピリジン
化合物に対して１モル等量以上が好ましい。
ノピリジン化合物との反応は、通常反応に不活性な有機
溶媒中で塩基の存在下で行われる。塩基としては、水酸
化アルカリ金属（例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム）、アルカリ金属アルコラート（例えばナトリウム
メチラート、ナトリウムエチラートなど）などが挙げら
れる。塩基の使用量は、式（II）のＮ−アミノピリジン
化合物に対して１モル等量以上が好ましい。
【００１６】反応に不活性な有機溶媒としては、ジメチ
ルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
タミドなどが挙げられる。しかしながら、これらに特に
限定されない。
ルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
タミドなどが挙げられる。しかしながら、これらに特に
限定されない。
【００１７】式（II）のＮ−アミノピリジン化合物の使
用量は、式（III）の化合物に対して、１モル等量以
上、好ましくは１.１〜２.０モル等量である。反応は、
通常低温度領域例えば室温程度で１〜数時間行われる。
生成した式（Ｉ）のピラゾロピリジン化合物は、必要に
応じて脱保護反応に付される。脱保護反応は、式（Ｉ）
の化合物におけるカルボキシル基の保護基の種類に応じ
て、公知の手段から適宜選択利用して行うことができ
る。エステル化されたカルボキシル基、例えばエトキシ
カルボニル基の場合には、適当な溶媒中でのアルカリ加
水分解が挙げられる。
用量は、式（III）の化合物に対して、１モル等量以
上、好ましくは１.１〜２.０モル等量である。反応は、
通常低温度領域例えば室温程度で１〜数時間行われる。
生成した式（Ｉ）のピラゾロピリジン化合物は、必要に
応じて脱保護反応に付される。脱保護反応は、式（Ｉ）
の化合物におけるカルボキシル基の保護基の種類に応じ
て、公知の手段から適宜選択利用して行うことができ
る。エステル化されたカルボキシル基、例えばエトキシ
カルボニル基の場合には、適当な溶媒中でのアルカリ加
水分解が挙げられる。
【００１８】式（Ｉ）のピラゾロピリジン化合物の反応
液からの単離・精製は、それ自体公知の手段、例えば濃
縮、転溶、溶媒抽出、蒸留、再結晶などを利用して行う
ことができる。
液からの単離・精製は、それ自体公知の手段、例えば濃
縮、転溶、溶媒抽出、蒸留、再結晶などを利用して行う
ことができる。
【００１９】この発明に使用する式（III）の化合物
は、文献未記載の化合物である。式(III)の化合物は、
式（IV）のアルデヒド化合物と式（Ｖ）のリン化合物を
塩基の存在下で反応さすことによって得られる。ここで
使用する塩基は、上記の式（III）の化合物と式（II）
の化合物との縮合反応での塩基と同じものを用いること
ができる。塩基は、主に反応によって副生するリン酸を
塩として捕捉するために用いられる。従って、その使用
量は、式（Ｖ）のリン化合物に対して等モル量以上であ
るのが好ましい。一方、この反応は、通常、式（III）
の化合物と式（II）の化合物との、縮合反応で用いるの
と同一の溶媒中で行うのが好ましい。反応温度は、低温
度領域例えば室温程度である。反応時間は、１〜数時間
である。
は、文献未記載の化合物である。式(III)の化合物は、
式（IV）のアルデヒド化合物と式（Ｖ）のリン化合物を
塩基の存在下で反応さすことによって得られる。ここで
使用する塩基は、上記の式（III）の化合物と式（II）
の化合物との縮合反応での塩基と同じものを用いること
ができる。塩基は、主に反応によって副生するリン酸を
塩として捕捉するために用いられる。従って、その使用
量は、式（Ｖ）のリン化合物に対して等モル量以上であ
るのが好ましい。一方、この反応は、通常、式（III）
の化合物と式（II）の化合物との、縮合反応で用いるの
と同一の溶媒中で行うのが好ましい。反応温度は、低温
度領域例えば室温程度である。反応時間は、１〜数時間
である。
【００２０】生成する式（III）の化合物は、通常、単
離することなく式（II）のＮ−アミノピリジン化合物と
の縮合反応に用いるのが好ましい。従って、この発明に
よれば、式（IV）のアルデヒド化合物から一つの反応容
器中で、所謂一段法で、所望する式（Ｉ）の化合物を導
くことができる。
離することなく式（II）のＮ−アミノピリジン化合物と
の縮合反応に用いるのが好ましい。従って、この発明に
よれば、式（IV）のアルデヒド化合物から一つの反応容
器中で、所謂一段法で、所望する式（Ｉ）の化合物を導
くことができる。
【００２１】式（II）のＮ−アミノピリジン化合物は、
式（IV）のアルデヒド化合物に対して、１モル等量以
上、好ましくは１.１〜２.０モル等量である。なお、こ
の発明の式（Ｉ）のＲ3'がカルボキシル基であるピラゾ
ロピリジン化合物は、公知方法に従って、例えば、２−
（２−ヒドロキシエチル）ピペリジンを反応させて、利
尿・降圧作用等を有する化合物とすることができる。
式（IV）のアルデヒド化合物に対して、１モル等量以
上、好ましくは１.１〜２.０モル等量である。なお、こ
の発明の式（Ｉ）のＲ3'がカルボキシル基であるピラゾ
ロピリジン化合物は、公知方法に従って、例えば、２−
（２−ヒドロキシエチル）ピペリジンを反応させて、利
尿・降圧作用等を有する化合物とすることができる。
【００２２】
【実施例】以下実施例に従ってこの発明をさらに詳細に
説明する。
説明する。
【００２３】実施例１
フェニルプロパルギルアルデヒド［式（IV）の化合物］
１０.０ｇ（０.０７７モル）をジメチルスルホキシド１
００ｍｌに溶解した。この溶液に室温で、ジエチルホス
ホノ酢酸エチル２０.６ｇ［式（Ｖ）の化合物］（０.１
６０モル）を加え、２０±５℃の温度を保ちながら、水
酸化カリウム４.７ｇ（０.１２０モル）を加え、２時間
攪拌を続けた。ついで、上記で得た５−フェニル−２−
ペンテン−４−イン酸エチルを含む反応混合物に、１−
アミノピリジニウムヨード塩［式（II）の化合物］２
５.６ｇ（０.１２０モル）及び水酸化カリウム６.５ｇ
（０.１２０モル）を加え、２０±５℃で２時間攪拌し
た。反応液を、予め１０〜１５℃に冷却した水２００ｍ
ｌと塩化メチレン１００ｍｌの混合液中へ加え、塩酸で
ｐＨ６〜７に調整した。分液した塩化メチレン層を水１
００ｍｌで洗浄し、再び分液した塩化メチレン層を減圧
濃縮した。濃縮残液に酢酸エチル２０ｍｌを加えて攪拌
し、−１０℃まで冷却し、３０分間攪拌して、析出した
結晶を濾取、乾燥すると、３−（２−フェニルピラゾロ
［１，５−ａ］ピリジン−３−イル）アクリル酸エチル
［式（Ｉ）の化合物，１１.０ｇ，５１.０％］が得られ
た。 ｍｐ １２２〜１２３℃ ＭＳ ２９２（Ｍ+） ＩＲ（ヌジョール，ｃｍ-1）２８５０，１６９０，１６
２０，６９８ ＮＭＲδ（ｐｐｍ，ＤＭＳＯ−ｄ6） ８.９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、８.２（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９Ｈｚ）、７.８（１Ｈ,ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ）、７.４
〜７.７（６Ｈ，ｍ）、７.２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１Ｈ
ｚ，６Ｈｚ）、６.４（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝１６Ｈｚ）、４.
２（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１.２〜１.３（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）
１０.０ｇ（０.０７７モル）をジメチルスルホキシド１
００ｍｌに溶解した。この溶液に室温で、ジエチルホス
ホノ酢酸エチル２０.６ｇ［式（Ｖ）の化合物］（０.１
６０モル）を加え、２０±５℃の温度を保ちながら、水
酸化カリウム４.７ｇ（０.１２０モル）を加え、２時間
攪拌を続けた。ついで、上記で得た５−フェニル−２−
ペンテン−４−イン酸エチルを含む反応混合物に、１−
アミノピリジニウムヨード塩［式（II）の化合物］２
５.６ｇ（０.１２０モル）及び水酸化カリウム６.５ｇ
（０.１２０モル）を加え、２０±５℃で２時間攪拌し
た。反応液を、予め１０〜１５℃に冷却した水２００ｍ
ｌと塩化メチレン１００ｍｌの混合液中へ加え、塩酸で
ｐＨ６〜７に調整した。分液した塩化メチレン層を水１
００ｍｌで洗浄し、再び分液した塩化メチレン層を減圧
濃縮した。濃縮残液に酢酸エチル２０ｍｌを加えて攪拌
し、−１０℃まで冷却し、３０分間攪拌して、析出した
結晶を濾取、乾燥すると、３−（２−フェニルピラゾロ
［１，５−ａ］ピリジン−３−イル）アクリル酸エチル
［式（Ｉ）の化合物，１１.０ｇ，５１.０％］が得られ
た。 ｍｐ １２２〜１２３℃ ＭＳ ２９２（Ｍ+） ＩＲ（ヌジョール，ｃｍ-1）２８５０，１６９０，１６
２０，６９８ ＮＭＲδ（ｐｐｍ，ＤＭＳＯ−ｄ6） ８.９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、８.２（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９Ｈｚ）、７.８（１Ｈ,ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ）、７.４
〜７.７（６Ｈ，ｍ）、７.２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１Ｈ
ｚ，６Ｈｚ）、６.４（１Ｈ，ｄ,Ｊ＝１６Ｈｚ）、４.
２（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１.２〜１.３（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）
【００２４】
【発明の効果】この発明の方法は、優れた利尿降圧作用
等を示すピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン誘導体合成の
ための中間体を１段法で高収率で製造することができ、
また、特別な精製を要することなく純度の高い目的物を
得ることでき、工業的に利用価値が高いものである。
等を示すピラゾロ［１，５−ａ］ピリジン誘導体合成の
ための中間体を１段法で高収率で製造することができ、
また、特別な精製を要することなく純度の高い目的物を
得ることでき、工業的に利用価値が高いものである。
Claims (2)
- 【請求項１】 式（III）： Ｒ2−Ｃ≡Ｃ−Ａ−Ｒ3 （式中、Ｒ2は置換されていてもよいアリール基、Ｒ3は
保護されたカルボキシル基、およびＡは低級アルケニレ
ン基を意味する）で示される化合物と、式（II）： 【化１】 （式中、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基または低級アルコキシ基、およびＸ-は陰イオンを意
味する）で示されるＮ−アミノピリジン化合物とを塩基
の存在下で反応させ、次いで必要に応じ保護されたカル
ボキシル基の脱保護反応に付して式（Ｉ）： 【化２】 （式中、Ｒ1，Ｒ2およびＡは上記と同一意味、Ｒ3'はカ
ルボキシル基または保護されたカルボキシル基を意味す
る）で示されるピラゾロピリジン化合物またはその塩類
を得ることを特徴とするピラゾロピリジン誘導体の製造
法。 - 【請求項２】 式（IV） Ｒ2−Ｃ≡Ｃ−ＣＨＯ （式中、Ｒ2は置換されていてもよいアリール基を意味
する）で示されるアルデヒド化合物と式（Ｖ） 【化３】 （式中、Ｒ3は保護されたカルボキシ基、Ａ1は低級アル
キレン基、およびＲ4は低級アルキル基を意味する）で
示されるリン化合物とを塩基の存在下で反応させ、式
（III） Ｒ2−Ｃ≡Ｃ−Ａ−Ｒ3 （式中、Ａは低級アルケニレン基、およびＲ2，Ｒ3は上
記と同一意味）で示される化合物を生成させ、これを単
離するかせずに、式（II） 【化４】 （式中、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基または低級アルコキシ基、およびＸ-は陰イオンを意
味する）で示されるＮ−アミノピリジン化合物と塩基の
存在下で反応させ、次いで必要に応じ保護されたカルボ
キシル基の脱保護反応に付して、式（Ｉ） 【化５】 （式中、Ｒ1，Ｒ2およびＡは上記と同一意味、Ｒ3'はカ
ルボキシル基または保護されたカルボキシル基を意味す
る）で示されるピラゾロピリジン化合物またはその塩類
を得ることを特徴とするピラゾロピリジン誘導体の製造
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22083391A JP3127505B2 (ja) | 1990-09-03 | 1991-09-02 | ピラゾロピリジン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-233485 | 1990-09-03 | ||
| JP23348590 | 1990-09-03 | ||
| JP22083391A JP3127505B2 (ja) | 1990-09-03 | 1991-09-02 | ピラゾロピリジン誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH054987A true JPH054987A (ja) | 1993-01-14 |
| JP3127505B2 JP3127505B2 (ja) | 2001-01-29 |
Family
ID=26523936
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22083391A Expired - Fee Related JP3127505B2 (ja) | 1990-09-03 | 1991-09-02 | ピラゾロピリジン誘導体の製造法 |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP3127505B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3027430U (ja) * | 1996-01-31 | 1996-08-09 | 大黒産業株式会社 | サンダル |
-
1991
- 1991-09-02 JP JP22083391A patent/JP3127505B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3127505B2 (ja) | 2001-01-29 |
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