JPH0546969B2 - - Google Patents
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- JPH0546969B2 JPH0546969B2 JP61070143A JP7014386A JPH0546969B2 JP H0546969 B2 JPH0546969 B2 JP H0546969B2 JP 61070143 A JP61070143 A JP 61070143A JP 7014386 A JP7014386 A JP 7014386A JP H0546969 B2 JPH0546969 B2 JP H0546969B2
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- Japan
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- hologram
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 238000001015 X-ray lithography Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はIC製造におけるウエハとマスクの
位置合わせなどを高精度に行うための位置決め方
法に関するものである。
位置合わせなどを高精度に行うための位置決め方
法に関するものである。
VLSIの高密度化に伴い、回路パターンの微細化
が進んでいる。このVLSIを製作するリングラフ
イ技術において、ウエハとマスクの相対的位置を
高精度に決める必要がある。現在、このような位
置決め、ウエハとマスクそれぞれに描かれている
多数の直線平行縞を一致させる方法などが行われ
ている。しかし、このこのような方法の配置精度
は、0.2μm程度であり、エキシマレーザやX線を
用いるような、さらに微細なパターンを転写する
目的には適さない。これらのリングラフイでは、
0.01〜0.05μmの配置精度が必要であるが現段階で
は、このような位置決めの確立された方法はな
い。
が進んでいる。このVLSIを製作するリングラフ
イ技術において、ウエハとマスクの相対的位置を
高精度に決める必要がある。現在、このような位
置決め、ウエハとマスクそれぞれに描かれている
多数の直線平行縞を一致させる方法などが行われ
ている。しかし、このこのような方法の配置精度
は、0.2μm程度であり、エキシマレーザやX線を
用いるような、さらに微細なパターンを転写する
目的には適さない。これらのリングラフイでは、
0.01〜0.05μmの配置精度が必要であるが現段階で
は、このような位置決めの確立された方法はな
い。
このような高精度の配置を実現するために、モ
アレ縞を用いた位置決め技術が開発されている。
このモアレ縞を用いた高精度位置決め法は、例え
ば雑誌「アブライド・オブテイツクス(Applied
−Optics)」,1972年,2455〜2459頁に記載の論文
「モアレ技術を用いたフオトリソグラフイツクマ
スク位置合わせ(Photolithographic−Mask
Algnment Using Moire Technigues)」に詳し
く述べられている。この方法は、異なるピツチを
持つ等間隔同心円縞を重ね合わせ、それらの差周
波数として生じるモアレ縞の形状を顕微鏡によつ
て観測し、位置合わせするものであり、この場合
は、0.2μmの配線精度が得られている。
アレ縞を用いた位置決め技術が開発されている。
このモアレ縞を用いた高精度位置決め法は、例え
ば雑誌「アブライド・オブテイツクス(Applied
−Optics)」,1972年,2455〜2459頁に記載の論文
「モアレ技術を用いたフオトリソグラフイツクマ
スク位置合わせ(Photolithographic−Mask
Algnment Using Moire Technigues)」に詳し
く述べられている。この方法は、異なるピツチを
持つ等間隔同心円縞を重ね合わせ、それらの差周
波数として生じるモアレ縞の形状を顕微鏡によつ
て観測し、位置合わせするものであり、この場合
は、0.2μmの配線精度が得られている。
しかし、この方法は、縞の形状を認識する必要
があるため、自動測定には適していない。この方
法を改良して、同じピツチを持つ等間隔直線縞を
重ね合わせて生じるモアレ縞の回折光を観測して
位置合わせする方法が考えられた。
があるため、自動測定には適していない。この方
法を改良して、同じピツチを持つ等間隔直線縞を
重ね合わせて生じるモアレ縞の回折光を観測して
位置合わせする方法が考えられた。
この方法は、例えば雑誌「ジヤーナル・オブ・
バキユームサイエンステクノロジ(Journal of
Vaccume Science Technologie)」,1983年BI−
1276〜1279頁に記載の論文「X線リングラフイ用
2重格子位置決め技術(A Dual Grating
Alignment Technigue for X−ray
Lithography)」に詳しく述べられている。この
方法は、ウエハとマスクにそれぞれ描画されてい
る同一の等間隔直線縞を重ね合わせ、相対的な位
置関係のずれによつて変化するモアレ縞にレーザ
光を照射しその士1次回折光の強度変化を観測し
て位置合わせする方法である。この方法では、
10nmの配置精度が得られており、また、光の強
度を測定するために高精度の自動測定が可能であ
る。
バキユームサイエンステクノロジ(Journal of
Vaccume Science Technologie)」,1983年BI−
1276〜1279頁に記載の論文「X線リングラフイ用
2重格子位置決め技術(A Dual Grating
Alignment Technigue for X−ray
Lithography)」に詳しく述べられている。この
方法は、ウエハとマスクにそれぞれ描画されてい
る同一の等間隔直線縞を重ね合わせ、相対的な位
置関係のずれによつて変化するモアレ縞にレーザ
光を照射しその士1次回折光の強度変化を観測し
て位置合わせする方法である。この方法では、
10nmの配置精度が得られており、また、光の強
度を測定するために高精度の自動測定が可能であ
る。
しかし、逆に縞ピツチよりも大きな変位を測定
できず、例えば1μmピツチの縞を用いる場合、別
の方法で1μmの位置合わせを行つた後にこの方法
を用いて高精度の位置合わせを行うことになり、
従つて2回の位置決めが必要で、プロセスが複雑
となる。
できず、例えば1μmピツチの縞を用いる場合、別
の方法で1μmの位置合わせを行つた後にこの方法
を用いて高精度の位置合わせを行うことになり、
従つて2回の位置決めが必要で、プロセスが複雑
となる。
本発明の目的は、これらの問題を解決し、高精
度に位置合わせのできる位置決め方法を提供する
ことにある。
度に位置合わせのできる位置決め方法を提供する
ことにある。
この発明の位置決め方法の構成は、円筒波を再
生する第1のホログラムを有する第1面と、前記
第1のホログラムと焦点距離の同一あるいは異な
つた円筒波を再生する第2のホログラムを有する
第2面とを重ね合わせてモアレ縞を生じせしめ、
前記第1のホログラムを観測面に対して位置決め
し、前記モアレ縞にコヒーレント光を照射して生
じる回折光が前記観測面の定められた位置に生じ
るように、前記第2面の位置決めを行うことを特
徴とする。
生する第1のホログラムを有する第1面と、前記
第1のホログラムと焦点距離の同一あるいは異な
つた円筒波を再生する第2のホログラムを有する
第2面とを重ね合わせてモアレ縞を生じせしめ、
前記第1のホログラムを観測面に対して位置決め
し、前記モアレ縞にコヒーレント光を照射して生
じる回折光が前記観測面の定められた位置に生じ
るように、前記第2面の位置決めを行うことを特
徴とする。
〔発明の作用・原理〕
ホログラムを2枚重ね合わせた時に生じるモア
レ縞の形状は解析的に求めることができる。例え
ば焦点距離の異なつた円筒波を再生するホログラ
ムを重ね合わせた時に生じるモアレ縞は以下のよ
うになる。基準ホログラムの中心線をx軸とし、
配置するホログラムが基準ホログラムに対して、
x方向にΔxずれているとすると、2つのホログ
ラムは、それぞれ次式で表わされる。
レ縞の形状は解析的に求めることができる。例え
ば焦点距離の異なつた円筒波を再生するホログラ
ムを重ね合わせた時に生じるモアレ縞は以下のよ
うになる。基準ホログラムの中心線をx軸とし、
配置するホログラムが基準ホログラムに対して、
x方向にΔxずれているとすると、2つのホログ
ラムは、それぞれ次式で表わされる。
X2=ma2 ……(1)
(x−Δx)2=nb2 ……(2)
ここで、a,bは最も内側の直線の間隔、m,
nは正の整数を表わす。モアレ縞は(1),(2)式の交
点として表わされるから=m±nとおくと、次
式が得られる。
nは正の整数を表わす。モアレ縞は(1),(2)式の交
点として表わされるから=m±nとおくと、次
式が得られる。
(X−a2/b2〓a2Δx)2=a2b2/b2〓a2
+c ……(3)
すなわち、円筒波を再生するモアレ縞が生じ
る。
る。
ここでcは、a,b,Δxの関数であるが、直線
の間隔が相対的に変化するのみで、本質的な項で
ない。この場合、配置ホログラムをx方向にΔx
変化させた場合、モアレ縞はa2/b2〓a2Δxずれる。
の間隔が相対的に変化するのみで、本質的な項で
ない。この場合、配置ホログラムをx方向にΔx
変化させた場合、モアレ縞はa2/b2〓a2Δxずれる。
従つて、aとbの焦点距離がわずかに異なる場
合、a2/(b2〓a2)が大きくなり、感度が高くな
る。例えば、b=1.1aとすれば、モアレ縞の中心
は、配置かるホログラムの移動量の4.8倍移動す
る。この方法だけでは、y方向の位置合わせがで
きないが、別の位置にy軸に平行なホログラムを
配置し、同様な方法で位置決めを行えば良い。こ
の方法では、ゾーンブレートのホログラムを2枚
重ね合わせて、同心円モアレ縞を発生させる方法
と比較し、ビームが店に集光しないために位置決
めを行いにくいが、ホログラムを描画する際、直
線縞であるためにパターンを描きやすい。
合、a2/(b2〓a2)が大きくなり、感度が高くな
る。例えば、b=1.1aとすれば、モアレ縞の中心
は、配置かるホログラムの移動量の4.8倍移動す
る。この方法だけでは、y方向の位置合わせがで
きないが、別の位置にy軸に平行なホログラムを
配置し、同様な方法で位置決めを行えば良い。こ
の方法では、ゾーンブレートのホログラムを2枚
重ね合わせて、同心円モアレ縞を発生させる方法
と比較し、ビームが店に集光しないために位置決
めを行いにくいが、ホログラムを描画する際、直
線縞であるためにパターンを描きやすい。
また、配置ホログラムを基準ほろぐラムに対し
て90°回転させて重ね合わせた場合には、以下の
ようになる。第2図に示すように基準ホログラム
101の中心線をx軸とし、配置ホログラム10
2の中心線がy軸からx方向にΔxずれていると
すると、2つのホログラムは、それぞれ次式のよ
うになる。
て90°回転させて重ね合わせた場合には、以下の
ようになる。第2図に示すように基準ホログラム
101の中心線をx軸とし、配置ホログラム10
2の中心線がy軸からx方向にΔxずれていると
すると、2つのホログラムは、それぞれ次式のよ
うになる。
y2=ma2 ……(4)
(X−Δx)2=na2 ……(5)
ここで、aは最も内側の直線の間隔、m,nは
正の整数を表わす。モアレ縞は(1),(2)式の交点と
して表わされるから、=m±nとおいて次式の
ように球面波を再生するモアレ縞を生ずる。
正の整数を表わす。モアレ縞は(1),(2)式の交点と
して表わされるから、=m±nとおいて次式の
ように球面波を再生するモアレ縞を生ずる。
(X−Δx)2±y2=.a2 ……(6)
このモアレ縞を観測した場合、配置ホログラム
のy方向の移動に対してモアレ縞は変化しない
が、x方向に対して、ホログラムの移動量に比例
して移動する。従つて、モアレ縞の回折光を観測
することにより、x方向の位置決めが可能であ
る。また、y方向の位置決めが可能である。ま
た、y方向の位置決めを行うには、別の位置にy
軸に中心線を持つホログラムを配置して、基準ホ
ログラムとすれば良い。この方法では、感度の高
いモアレ縞を発生させることはできないが、描画
の容易な直線縞により、球面波を発生させること
ができ、位置決めの行いやすい集光ビームを作る
ことができる。
のy方向の移動に対してモアレ縞は変化しない
が、x方向に対して、ホログラムの移動量に比例
して移動する。従つて、モアレ縞の回折光を観測
することにより、x方向の位置決めが可能であ
る。また、y方向の位置決めが可能である。ま
た、y方向の位置決めを行うには、別の位置にy
軸に中心線を持つホログラムを配置して、基準ホ
ログラムとすれば良い。この方法では、感度の高
いモアレ縞を発生させることはできないが、描画
の容易な直線縞により、球面波を発生させること
ができ、位置決めの行いやすい集光ビームを作る
ことができる。
第1図はこの発明の一実施例を説明するブロツ
ク図である。始めに、マスク1の一部に描画して
ある基準ホログラム5に、レーザ9から出射した
光をハーフミラー10で反射させて照射し、ホロ
グラム5からの+1次回折光が収束して4分割光
検出器12に入射するようにマニピユレータ3を
移動させる。この4分割光検出器12は、光デイ
スクのレーザヘツドの焦点位置合わせに用いられ
ているものと同じもので、第3図に示す構造を持
つ。
ク図である。始めに、マスク1の一部に描画して
ある基準ホログラム5に、レーザ9から出射した
光をハーフミラー10で反射させて照射し、ホロ
グラム5からの+1次回折光が収束して4分割光
検出器12に入射するようにマニピユレータ3を
移動させる。この4分割光検出器12は、光デイ
スクのレーザヘツドの焦点位置合わせに用いられ
ているものと同じもので、第3図に示す構造を持
つ。
この第3図において、4分割面をA,B,C,
Dとし、例えば、x方向の位置合わせを行うに
は、演算回路16によりA面とB面の光検出信号
の和と、C面とD面の信号の和の差をとる。この
時、信号はマニピユレータのx方向の移動に伴つ
て第4図の特性図に示すようなS字状の曲線を描
く。ここで0点を通過した時には、ホログラムの
+1次回折光がA,B面とC,D面の中間位置を
通過したことになる。同様に、y方向の位置合わ
せはA面とD面の光検出信号の和とB面とC面の
光検出信号の和の差信号を用いて行う。
Dとし、例えば、x方向の位置合わせを行うに
は、演算回路16によりA面とB面の光検出信号
の和と、C面とD面の信号の和の差をとる。この
時、信号はマニピユレータのx方向の移動に伴つ
て第4図の特性図に示すようなS字状の曲線を描
く。ここで0点を通過した時には、ホログラムの
+1次回折光がA,B面とC,D面の中間位置を
通過したことになる。同様に、y方向の位置合わ
せはA面とD面の光検出信号の和とB面とC面の
光検出信号の和の差信号を用いて行う。
本実施例では、ウエハの対角線位置に基準ホロ
グラム5を90°回転させて配置した基準ホログラ
ム7および光検出器15、演算回路19がある。
これらx方向、y方向の信号は例えば、GP−IB
インタフエースを装備したパソコンなどのプロセ
ツサ20に入力され、両方の信号が第4図に示し
たS字状信号の0点を示すように、例えば、精密
ステージとパルスモータおよびGP−IB装備のパ
ルスモータ駆動装置を装えたマニピユレータ3に
信号を送つてマスクを移動させる。これら両方の
信号が0点の位置に合つた時、このマスクは、装
置に対して位置合わせできたことになる。この
時、ビーム径の1/100程度の位置ずれを検出で
きる。従つて、数μmにビームをしぼることがで
きれば、数十nm程度の位置ずれを検出できる。
グラム5を90°回転させて配置した基準ホログラ
ム7および光検出器15、演算回路19がある。
これらx方向、y方向の信号は例えば、GP−IB
インタフエースを装備したパソコンなどのプロセ
ツサ20に入力され、両方の信号が第4図に示し
たS字状信号の0点を示すように、例えば、精密
ステージとパルスモータおよびGP−IB装備のパ
ルスモータ駆動装置を装えたマニピユレータ3に
信号を送つてマスクを移動させる。これら両方の
信号が0点の位置に合つた時、このマスクは、装
置に対して位置合わせできたことになる。この
時、ビーム径の1/100程度の位置ずれを検出で
きる。従つて、数μmにビームをしぼることがで
きれば、数十nm程度の位置ずれを検出できる。
次に、基準ホログラム5,7とウエハに記録さ
れている配置ホログラム6,8を重ね合わせ生じ
るモアレ縞にレーザ9から出射した光を照射し、
モアレ縞からの+1次回折光が収束して4分割光
検出器13,14に入射するようにマニピユレー
タ4を移動させる。これら光検出器13,14
は、光検出器12,15と同一のもので、マスク
を装置に対して位置合わせした手順と同様に、ウ
エハをマスクに対して位置合わせできる。
れている配置ホログラム6,8を重ね合わせ生じ
るモアレ縞にレーザ9から出射した光を照射し、
モアレ縞からの+1次回折光が収束して4分割光
検出器13,14に入射するようにマニピユレー
タ4を移動させる。これら光検出器13,14
は、光検出器12,15と同一のもので、マスク
を装置に対して位置合わせした手順と同様に、ウ
エハをマスクに対して位置合わせできる。
この方法によれば、(3)式において、モアレ縞が
配置ホログラムの10倍移動するように設計し、こ
のモアレ縞により、ビームを数μmにしぼること
ができれば、モアレ縞の数+nmの移動を検知で
き、さらに配置ホログラムの数nmの移動を検知
できることになる。
配置ホログラムの10倍移動するように設計し、こ
のモアレ縞により、ビームを数μmにしぼること
ができれば、モアレ縞の数+nmの移動を検知で
き、さらに配置ホログラムの数nmの移動を検知
できることになる。
以上詳述したように、この発明の位置決め方法
によれば、モアレ縞の回折光を利用することによ
り、マスクとウエハを数nm程度の高精度で位置
合わせすることができる。
によれば、モアレ縞の回折光を利用することによ
り、マスクとウエハを数nm程度の高精度で位置
合わせすることができる。
第1図は、この発明の一実施例の構成を説明す
るブロツク図、第2図は基準ホログラムと配置ホ
ログラムを重ね合わせて生じるモアレ縞の一例の
平面図、第3図は第1図の4分割光検出器の構成
図、第4図は第1図の4分割光検出器からの出力
信号の特性図である。 1……マスク、2……ウエハ、3,4……マニ
ピユレータ、5,7,101……基準ホログラ
ム、6,8,102……配置ホログラム、9……
レーザ、10……ハーフミラー、11……ミラ
ー、12,13,14,15……光検出器、1
6,17,18,19……演算回路、20……プ
ロセツサ。
るブロツク図、第2図は基準ホログラムと配置ホ
ログラムを重ね合わせて生じるモアレ縞の一例の
平面図、第3図は第1図の4分割光検出器の構成
図、第4図は第1図の4分割光検出器からの出力
信号の特性図である。 1……マスク、2……ウエハ、3,4……マニ
ピユレータ、5,7,101……基準ホログラ
ム、6,8,102……配置ホログラム、9……
レーザ、10……ハーフミラー、11……ミラ
ー、12,13,14,15……光検出器、1
6,17,18,19……演算回路、20……プ
ロセツサ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 円筒波を再生する第1のホログラムを有する
第1面を観測面に対して位置決めし、前記第1の
ホログラムを有する第1面と、前記第1のホログ
ラムと焦点距離の同一あるいは異なつた円筒波を
再生する第2のホログラムを有する第2面とを重
ね合わせてモアレ縞を生じせしめ、前記モアレ縞
にコヒーレント光を照射して生じる回折光が前記
観測面の定められた位置に生じるように、前記第
2面の位置決めを行うことを特徴とする位置決め
方法。 2 第1のホログラムと第2のホログラムとの各
面の重ね合わせが各ホログラムの縞が平行に重な
るようにした特許請求の範囲第1項記載の位置決
め方法。 3 第1のホログラムと第2のホログラムとの各
面の重ね合わせが各ホログラムの縞が直交するよ
うにした特許請求の範囲第1項記載の位置決め方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61070143A JPS62226628A (ja) | 1986-03-27 | 1986-03-27 | 位置決め方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61070143A JPS62226628A (ja) | 1986-03-27 | 1986-03-27 | 位置決め方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62226628A JPS62226628A (ja) | 1987-10-05 |
JPH0546969B2 true JPH0546969B2 (ja) | 1993-07-15 |
Family
ID=13423053
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61070143A Granted JPS62226628A (ja) | 1986-03-27 | 1986-03-27 | 位置決め方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62226628A (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5057581A (ja) * | 1973-09-20 | 1975-05-20 | ||
JPS514829A (ja) * | 1974-07-01 | 1976-01-16 | Asahi Ishiwata Kogyo Kk | Naisoyokenzai |
US4037969A (en) * | 1976-04-02 | 1977-07-26 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Zone plate alignment marks |
US4360273A (en) * | 1980-02-14 | 1982-11-23 | Sperry Corporation | Optical alignment of masks for X-ray lithography |
JPS60136312A (ja) * | 1983-12-26 | 1985-07-19 | Hitachi Ltd | パターン検出方法及びその装置 |
JPS6244608A (ja) * | 1985-08-22 | 1987-02-26 | Tokyo Optical Co Ltd | 測定用ホログラム原器のセッティング方法及びそのための装置 |
-
1986
- 1986-03-27 JP JP61070143A patent/JPS62226628A/ja active Granted
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5057581A (ja) * | 1973-09-20 | 1975-05-20 | ||
JPS514829A (ja) * | 1974-07-01 | 1976-01-16 | Asahi Ishiwata Kogyo Kk | Naisoyokenzai |
US4037969A (en) * | 1976-04-02 | 1977-07-26 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Zone plate alignment marks |
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JPS6244608A (ja) * | 1985-08-22 | 1987-02-26 | Tokyo Optical Co Ltd | 測定用ホログラム原器のセッティング方法及びそのための装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62226628A (ja) | 1987-10-05 |
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