JPH0545056B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0545056B2
JPH0545056B2 JP5720087A JP5720087A JPH0545056B2 JP H0545056 B2 JPH0545056 B2 JP H0545056B2 JP 5720087 A JP5720087 A JP 5720087A JP 5720087 A JP5720087 A JP 5720087A JP H0545056 B2 JPH0545056 B2 JP H0545056B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
susceptor
heater
current
heated
resistance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP5720087A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63222427A (ja
Inventor
Fumitake Mieno
Juji Furumura
Masayuki Takeda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP5720087A priority Critical patent/JPS63222427A/ja
Publication of JPS63222427A publication Critical patent/JPS63222427A/ja
Publication of JPH0545056B2 publication Critical patent/JPH0545056B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明は加熱処理における諸問題を解決するた
めに、抵抗加熱が可能な材料よりなるサセプタに
被加熱物を載せて、電力を通電部に設けた電極に
印加しこのサセプタを加熱することにより、この
被加熱物の加熱を少ない電力消費量で短時間に行
う、CVDや拡散やエピタキシヤル成長に用いる
高温処理炉。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高温処理炉に係り、特に加熱方法の
改良に関するものである。
半導体装置の製造等の高温処理を行う製造工程
においては、それに使用する高温処理炉に各種の
方式の炉が用いられている。
しかしなら、従来の高温処理炉はいずれも種々
の短所を持つており、未だ使用者の充分な満足を
得るには至つていない。
以上のような状況から昇温、降温に時間を要せ
ず、電力の消費量の少ない高温処理炉が要望され
ている。
〔従来の技術〕
従来の高温処理には第6図に示すような各種の
方式の炉が用いられている。
第6図aに示す高周波誘導加熱方式は、炉芯管
11の中に被加熱物7を載置したサセプタ12を
置き、図示しない高周波発振器により高周波電力
を高周波コイル13に供給し、高周波誘導加熱に
よつて被加熱物7を所定の温度に加熱するもので
ある。
第6図bに示す赤外線加熱方式は、炉芯管21
の中に被加熱物7を搭載したサセプタ22を置
き、炉芯管21の周囲に配設した反射板23を有
する赤外線ランプ24によりサセプタ22を灼熱
させ、サセプタ22によつて被加熱物7を所定の
温度に加熱するものである。
第6図cに示す抵抗加熱方式は、炉芯管31の
内部に被加熱物7を載置したバスケツト32を置
き、炉芯管31の周囲に配設したヒータ33によ
り被加熱物7を所定の温度に加熱するものであ
る。
〔発明が解決しようとする問題点〕
以上説明の従来の高温処理炉で問題となるの
は、高周波誘導加熱方式と赤外線加熱方式では消
費電力量が大きくなることであり、抵抗加熱方式
では抵抗発熱体の他に石綿等を含んで熱容量が大
きくなり、炉温の昇温、例えば850℃の昇温に3
時間以上を要し、又、降温には更にそれ以上の時
間を要し、炉温の設定変更が非常に困難で、全体
を加熱することが必要なために余分な電力を消費
することである。
更に、加熱の不均一性に起因する温度分布のバ
ラツキによる結晶歪が発生し、それが連続すると
スリツプラインとなり被加熱物7である半導体基
板が分断されるという問題も発生する場合があ
る。
本発明は以上のような状況から炉温の昇温、降
温を短時間に行え、加熱部の温度分布を均一に
し、且つ電力消費量が少ない高温処理炉の提供を
目的としたものである。
〔問題点を解決するための手段〕
上記問題点は本発明により被加熱物の載置され
るサセプタとしての上面部を有し抵抗加熱が可能
な材料よりなる筒状ヒータとその下部に結合する
通電部とを備え、サセプタに接する上部筒状ヒー
タ部分を残して、ヒータ及び通電部は対向側面に
それぞれ設けられた細隙によつて2分割され、か
つ通電部に結合するヒータ下部の抵抗よりサセプ
タを含む上部筒状ヒータ部分の抵抗が大で、かつ
サセプタ全面に等しい電流が流れる如く細〓の上
端には左右対称形状で細〓に連結する如き切り込
み部を備え、切り込み部の上縁の勾配は細〓に対
し直角方向のサセプタの直径よりの距離が等しく
なる如き形状を有し、2分割された通電部の下端
にはヒータ電源のそれぞれの電極が接続されるこ
とを特徴とする高温処理炉によつて解決される。
〔作用〕
即ち本発明においては、抵抗加熱が可能な材料
よりなるヒータの上面のサセプタに被加熱物を載
置し、このヒータを通電部の上に噛合させて載置
し、電力を通電部に設けた電極に印加し、上部筒
状ヒータ部分を除く下部筒状ヒータ部分及び通電
部の対向する側面には細〓を設けてヒータ部分を
2分割し、かつ細〓の上部に連結する左右対称な
切り込みを上部筒状ヒータ部分に設けることによ
つて下部筒状ヒータ部分よりサセプタを含む上部
筒状ヒータ部分の抵抗が大でかつサセプタ全面に
流れる電流を均等にし、それによつてサセプタの
加熱温度は大となると共に均等な温度となように
して被加熱物の加熱を行うので、少ない電力消費
量で、短時間に炉温の昇温、降温が可能となる。
〔実施例〕
以下第1図〜第5図によつて本発明を詳細に説
明する。
第1図は本発明の原理側面図を示す。図におい
てヒータ1は筒状をなし、その上面部は被加熱物
7が載置されるサセプタ1aである。ヒータの下
部には通電部2が結合され、ヒータ及び通電部は
図の如く下部は分割され、通電部には電極3を介
してヒータ電源が接続されている。しかもかかる
構造において下部筒状ヒータ部分の抵抗よりサセ
プタを含む上部筒状ヒータ部分の抵抗が大で、か
つサセプタには均等な電流が流れる様になつてい
る。
第2図は1実施例の構造を示し、筒状ヒータ1
は通電部2の上に結合され、ヒータ1の上面のサ
セプタ1aには被加熱物7が載置されており、上
部筒状ヒータ部分を残し下部筒状ヒータ部分及び
通電部を2等分する如き細〓8がヒータの対向側
面に設けられると共に細〓の上部にはそれに連結
する左右対称の切り込み1bがもうけられてい
る。この切り込みによつて下部筒状ヒータ部分の
抵抗より、サセプタを含む上部ヒータ部分の抵抗
は大となつている。しかもこの切り込みの上縁の
勾配は第5図aに示す様にサセプタ面で細〓に対
し直角方向の直径より上縁までの総べての長さが
等しくなるような形状となつている。
即ち図で(L+l)=(L′+1′)となつている。
かかる形状のヒータによつて、サセプタを含む上
部筒状ヒータ部分の抵抗は下部筒状ヒータ部分の
抵抗より大となり加熱温度は高くなり、しかもサ
セプタには均等な電流が流れるためサセプタは均
等に加熱される。
ヒータ1及び通電部2の材料としてはグラフア
イト或いは炭化珪素をコーテイングしたグラフア
イトを用いる。
加熱に要する電力は、ヒータ電源5に接続され
た電力制御器4により制御され、通電部2に設け
た電極3に印加されるようになつている。
本発明の高温処理炉は、加熱によるストレスを
緩和するようにヒータ1と通電部2に分割されて
おり、その構造は第3図の側面図に示すような輪
状の突起が接合部で噛み合う形状となつている。
その詳細は第4図に示すように輪状の突起がな
い場合に比し、接触面積が約50%増加しており、
接触抵抗を減少させている。
ヒータ1のサセプタ1a及びその近傍の温度分
布は、ヒータ1の切り込み1bの勾配を適正にす
ると、電気抵抗が略均一になるので第5図bに示
すように均一になり、切り込み1bの下部では電
流密度が大となるので、第5図cに示すようにB
では周辺のCに比して高温になる。
このように加熱によるストレスを緩和するよう
に、分割されたヒータの通電部2の上にヒータ1
を載せ、接触面積の大きな輪状の突起を有する接
合部で接続し、ヒータ1に設けた切り込み1bに
より、サセプタ1aの電気抵抗の均一を図つてい
るので、サセプタ1aの表面温度分布を均一にす
ることが可能となる。
なお、被加熱物7の上面部或いは側面部にもサ
セプタ1aと同様に加熱された熱源を追加して設
け、熱エネルギーの供給を増加する構造とするこ
とも可能である。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば極めて簡単
な構造のサセプタに直接通電して加熱することに
より、少ない電力消費量で短時間に炉温の昇温、
降温が可能となり、被加熱物を均一に加熱するこ
とが可能となる等の利点があり、著しい経済的及
び、信頼性向上の効果が期待でき工業的には極め
て有用なものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の原理図、第2図は本発明によ
る一実施例を示す斜視図、第3図は本発明による
一実施例を示す側面図、第4図はヒータと通電部
の接続を示す断面図、第5図は本発明による一実
施例の温度分布を示す図、第6図は従来の高温処
理炉を模式的に示す側断面図、である。 図において、1は筒上ヒータ、1aはサセプ
タ、1bは切り込み、2は通電部、3は電極、4
は電力制御器、5はヒータ電源、6はベルジヤ、
7は被加熱物、8は細〓を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 被加熱物の載置されるサセプタとしての上面
    部を有し抵抗加熱が可能な材料よりなる筒状ヒー
    タとその下部に結合する通電部とを備え、サセプ
    タに接する上部筒状ヒータ部分を残して、ヒータ
    及び通電部は対向側面にそれぞれ設けられた細〓
    によつて2分割され、かつ通電部に結合するヒー
    タ下部の抵抗よりサセプタを含む上部筒状ヒータ
    部分の抵抗が大で、かつサセプタ全面に等しい電
    流が流れる如く細〓の上端には左右対称形状で細
    〓に連結する如き切り込み部を備え、切り込み部
    の上縁の勾配は細〓に対し直角方向のサセプタの
    直径よりの距離が等しくなる如き形状を有し、2
    分割された通電部の下端にはヒータ電源のそれぞ
    れの電極が接続されることを特徴とする高温処理
    炉。
JP5720087A 1987-03-11 1987-03-11 高温処理炉 Granted JPS63222427A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5720087A JPS63222427A (ja) 1987-03-11 1987-03-11 高温処理炉

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5720087A JPS63222427A (ja) 1987-03-11 1987-03-11 高温処理炉

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63222427A JPS63222427A (ja) 1988-09-16
JPH0545056B2 true JPH0545056B2 (ja) 1993-07-08

Family

ID=13048851

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5720087A Granted JPS63222427A (ja) 1987-03-11 1987-03-11 高温処理炉

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63222427A (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2725081B2 (ja) * 1990-07-05 1998-03-09 富士通株式会社 半導体装置製造用熱処理装置
JPH0574725A (ja) * 1991-09-18 1993-03-26 Nec Yamagata Ltd 減圧式cvd装置
JP2582012Y2 (ja) * 1991-12-10 1998-09-30 国際電気株式会社 ウェーハ加熱用ヒータ
JP6011130B2 (ja) * 2012-08-08 2016-10-19 株式会社リコー 電子写真用キャリアの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS63222427A (ja) 1988-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5331134A (en) Double-layered ceramic heater
US4810526A (en) Method of coating a recrystallized silicon carbide body with a compact silicon carbide coating
KR102091251B1 (ko) 전기 히터
KR20200021816A (ko) 전기 히터
JP2725081B2 (ja) 半導体装置製造用熱処理装置
JPH0545056B2 (ja)
JP3560456B2 (ja) 複層セラミックスヒータ
KR101540654B1 (ko) 스테인리스 후막형 히터의 패턴구조
JPH04155828A (ja) 熱処理装置
JPS6327435Y2 (ja)
JP2988810B2 (ja) 熱処理装置
KR100363062B1 (ko) 웨이퍼 가열장치
US3383497A (en) Electric resistance heaters
US2959661A (en) Electric band type heater
JP2000306917A (ja) 基板加熱装置
JPH0410376A (ja) 遠赤外線ヒータ
JPH04155822A (ja) 熱処理装置
JP3002990B1 (ja) 均熱ヒ―タ
JP2644819B2 (ja) 加熱炉
JPS6035190Y2 (ja) 平面発熱体の電極構造
JPS634959Y2 (ja)
KR940000544Y1 (ko) 세라믹 캐필러리
JPS645012A (en) Vapor growth equipment
JP2530349Y2 (ja) セラミックヒータ
JPS62261410A (ja) プリヒ−タ装置

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees