JPH0545026B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0525—Coating methods
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は電子写真に関り、円筒状、複数のロー
ラに張架された可撓性シート状或はウエブ状の感
光体基体に感光体塗料、特にOPC塗料を塗設す
る方法に関する。
ラに張架された可撓性シート状或はウエブ状の感
光体基体に感光体塗料、特にOPC塗料を塗設す
る方法に関する。
(発明の背景)
電子写真の感光体は、インパクト法等の各種の
成形法で作られた円筒状ドラム或は、可撓性シー
トもしくはウエブ状の感光体基体に光導電層或は
電荷発生層、電荷伝達層更に保護層等、電子写真
プロセスのタイプに応じた各種の層が塗設されて
作成される。それらの各層はいずれも薄く且つ均
一厚みで組成的或は物性的にも均質であることが
要求される。
成形法で作られた円筒状ドラム或は、可撓性シー
トもしくはウエブ状の感光体基体に光導電層或は
電荷発生層、電荷伝達層更に保護層等、電子写真
プロセスのタイプに応じた各種の層が塗設されて
作成される。それらの各層はいずれも薄く且つ均
一厚みで組成的或は物性的にも均質であることが
要求される。
前記各層塗膜を形成する方法としては、浸漬塗
布法、スプレーガンによるスプレー塗布法或は超
音波によるUSスプレー塗布法等が知られている。
布法、スプレーガンによるスプレー塗布法或は超
音波によるUSスプレー塗布法等が知られている。
前記浸漬法は一般に円筒状ドラム基体に適用さ
れ、感光体塗料中に該基体が縦方向に浸漬され、
付着膜厚、均一膜厚がえられるよう、ゆつくり縦
方向に引上げられる。しかしこの方法では引上げ
先頭部が薄膜となり易く且つ生産性が低い。
れ、感光体塗料中に該基体が縦方向に浸漬され、
付着膜厚、均一膜厚がえられるよう、ゆつくり縦
方向に引上げられる。しかしこの方法では引上げ
先頭部が薄膜となり易く且つ生産性が低い。
スプレーガンを用いるスプレー法に於ては回転
もしくは周回する基体への感光体塗料のスプレー
量当りの付着率が悪く塗布効率が低い。また急速
に乾燥して浮遊している微細迷翔粒子がスプレー
気流に巻込まれ基体表面に付着し顆粒面を形成し
て層表面の均一性を損いまたスキヤンする場合に
ピツチむらを生ずる等注意を要する点がある。
もしくは周回する基体への感光体塗料のスプレー
量当りの付着率が悪く塗布効率が低い。また急速
に乾燥して浮遊している微細迷翔粒子がスプレー
気流に巻込まれ基体表面に付着し顆粒面を形成し
て層表面の均一性を損いまたスキヤンする場合に
ピツチむらを生ずる等注意を要する点がある。
更にUSスプレー法に於ては超音波入力に対す
るスプレー量が少く生産性が低い。
るスプレー量が少く生産性が低い。
(発明の目的)
本発明の目的は電子写真感光体のスプレー塗布
法による感光体ドラムもしくは感光体ベルトの製
造に於て感光体塗料の塗布効率がよくまた生産性
の高い均一な膜厚を有する電子写真感光体の製造
方法を提供することにある。
法による感光体ドラムもしくは感光体ベルトの製
造に於て感光体塗料の塗布効率がよくまた生産性
の高い均一な膜厚を有する電子写真感光体の製造
方法を提供することにある。
(発明の構成)
前記本発明は、感光体基体表面の少くとも一部
が円筒曲面をなして連続周回し、この周回方向を
含み基体表面に直角な面が垂直であるように保持
された感光体基体に対して、周回表面に沿つて走
査され、感光体塗料を感光体基体表面にスプレー
して前記基体表面に感光体層を形成する電子写真
感光体の製造方法において、前記感光体基体表面
に感光体塗料をスプレーする際に、前記感光体基
体の主走査方向のスプレー錐を前記感光体基体の
副走査方向へのスプレー錐の拡がりより大きく
し、噴射パターンの形状を長軸/短軸比が2/1
となるようにして感光体基体表面に感光体塗料を
スプレーすることを特徴とする電子写真感光体の
製造方法によつて構成される。
が円筒曲面をなして連続周回し、この周回方向を
含み基体表面に直角な面が垂直であるように保持
された感光体基体に対して、周回表面に沿つて走
査され、感光体塗料を感光体基体表面にスプレー
して前記基体表面に感光体層を形成する電子写真
感光体の製造方法において、前記感光体基体表面
に感光体塗料をスプレーする際に、前記感光体基
体の主走査方向のスプレー錐を前記感光体基体の
副走査方向へのスプレー錐の拡がりより大きく
し、噴射パターンの形状を長軸/短軸比が2/1
となるようにして感光体基体表面に感光体塗料を
スプレーすることを特徴とする電子写真感光体の
製造方法によつて構成される。
尚本発明に於て副走査方向は周回方向であり、
主走査方向は周回方向に直角回転もしくは周回面
に平行な方向である。
主走査方向は周回方向に直角回転もしくは周回面
に平行な方向である。
次に本発明を図を用いて説明する。
第1図は連続周回する感光体基体の例を示し
た。同図aは複数のローラに張架された可撓性感
光体基体を示し、同図bは円筒状感光体基体を示
す。
た。同図aは複数のローラに張架された可撓性感
光体基体を示し、同図bは円筒状感光体基体を示
す。
第1図に於て10は基体、Dは周回長もしくは
円周長Lの基体幅、Sはスプレーガンの噴出口、
sはスプレー方向と基体表面との交点であるスプ
レー中心、該スプレー中心は基体10の表面を基
体の軸方向にベクトルVで主走査を行い、周回方
向にベルトルlで副走査を行う。
円周長Lの基体幅、Sはスプレーガンの噴出口、
sはスプレー方向と基体表面との交点であるスプ
レー中心、該スプレー中心は基体10の表面を基
体の軸方向にベクトルVで主走査を行い、周回方
向にベルトルlで副走査を行う。
次に第2図にスプレーを受ける基体表面の展開
図と走査線の関係を示した。図に於て20は展開
された面積L×Dの基体表面、aはスプレー中心
を含むスプレー領域を示し、スプレー領域aの範
囲、形状はスプレーガンの形式、基体表面とスプ
レー噴出口との距離等によつて選ぶことができ
る。図に於ては周回する基体の平面をなす面(例
えば第1図aのローラに張架された部分)にスプ
レーした場合のスプレー領域aを示しているが、
本発明に於てはスプレー噴出口を頂点とし、スプ
レー方向を基準にして主走査方向に角θ、副走査
方向に角を張る楕円錐スプレーを用いるので前
記スプレー領域も楕円をなす。該楕円の長軸/短
軸比は2/1程度が好ましい。
図と走査線の関係を示した。図に於て20は展開
された面積L×Dの基体表面、aはスプレー中心
を含むスプレー領域を示し、スプレー領域aの範
囲、形状はスプレーガンの形式、基体表面とスプ
レー噴出口との距離等によつて選ぶことができ
る。図に於ては周回する基体の平面をなす面(例
えば第1図aのローラに張架された部分)にスプ
レーした場合のスプレー領域aを示しているが、
本発明に於てはスプレー噴出口を頂点とし、スプ
レー方向を基準にして主走査方向に角θ、副走査
方向に角を張る楕円錐スプレーを用いるので前
記スプレー領域も楕円をなす。該楕円の長軸/短
軸比は2/1程度が好ましい。
第2図aは基体表面20の0点からはじまるス
プレースキヤンに於てl≫vの時の走査線(スプ
レー中心s)の軌跡を示し、第2b図は一般的場
合の走査線の軌跡を示す。一般的には走査は飛越
走査の形態となり、実線は往路走査、破線は帰路
走査である。
プレースキヤンに於てl≫vの時の走査線(スプ
レー中心s)の軌跡を示し、第2b図は一般的場
合の走査線の軌跡を示す。一般的には走査は飛越
走査の形態となり、実線は往路走査、破線は帰路
走査である。
またWは最終的な走査線間隔即ちスプレー間隔
(以後線密度と称す)であつて、前記スプレー領
域aと線密度を調整しスプレー領域を最適に重複
させることによつて塗布の均一性がえられる。本
発明の如く楕円錐スプレーを用いることによつて
重複度が大きくなりピツチむらの発生を抑え、且
つ一般に多用される円筒状基体に対するスプレー
塗布に於ては、スプレー液滴の付着区間の長い主
走査方向にスプレー楕円錐の長軸を、付着区間が
短く、スプレー液滴が付着面積からはずれ迷翔粒
子の発生量の多い副走査方向に短軸を振当てるこ
とによつて、再付着による塗布面異状及び塗布ロ
スを抑止し、更にスプレーによつて被覆される区
間が長いことによつて少くとも主走査速度を上
げ、従つて塗布時間を短縮することができる。
(以後線密度と称す)であつて、前記スプレー領
域aと線密度を調整しスプレー領域を最適に重複
させることによつて塗布の均一性がえられる。本
発明の如く楕円錐スプレーを用いることによつて
重複度が大きくなりピツチむらの発生を抑え、且
つ一般に多用される円筒状基体に対するスプレー
塗布に於ては、スプレー液滴の付着区間の長い主
走査方向にスプレー楕円錐の長軸を、付着区間が
短く、スプレー液滴が付着面積からはずれ迷翔粒
子の発生量の多い副走査方向に短軸を振当てるこ
とによつて、再付着による塗布面異状及び塗布ロ
スを抑止し、更にスプレーによつて被覆される区
間が長いことによつて少くとも主走査速度を上
げ、従つて塗布時間を短縮することができる。
本発明に於ては、例えば周回している感光体基
体にスプレースキヤンする場合、スプレー方向か
ら約15°及び約30°の角を張つたスプレー楕円錐の
頂点を該基体表面から100〜300mm、好ましくは50
〜150mmはなして前記したスプレー領域aの範囲
を選び、主走査速度vを1〜200mm/secの間にと
つて、線密度wを0.1〜20mm、好ましくは1〜15
mmとすれば本発明の好ましい態様を与える。
体にスプレースキヤンする場合、スプレー方向か
ら約15°及び約30°の角を張つたスプレー楕円錐の
頂点を該基体表面から100〜300mm、好ましくは50
〜150mmはなして前記したスプレー領域aの範囲
を選び、主走査速度vを1〜200mm/secの間にと
つて、線密度wを0.1〜20mm、好ましくは1〜15
mmとすれば本発明の好ましい態様を与える。
本発明は電子写真に於ける機能分離型の感光体
の製造に好ましく適用され、該感光体は、キヤリ
ア発生物質とキヤリヤ輸送物質を共に含有する1
つの感光体塗料をスプレー塗布する方法、キヤリ
ア発生層とキヤリア輸送層とを別々の塗料を用い
て夫々塗布形成する方法、キヤリア発生層は蒸着
で形成する方法等で製造することができる。
の製造に好ましく適用され、該感光体は、キヤリ
ア発生物質とキヤリヤ輸送物質を共に含有する1
つの感光体塗料をスプレー塗布する方法、キヤリ
ア発生層とキヤリア輸送層とを別々の塗料を用い
て夫々塗布形成する方法、キヤリア発生層は蒸着
で形成する方法等で製造することができる。
キヤリア発生層は樹脂を含む場合と含まない場
合とが考えられるが、いずれも感度の向上等が望
まれている。
合とが考えられるが、いずれも感度の向上等が望
まれている。
前記キヤリア発生層の厚さは0.05〜10μmがよ
く、0.1〜5μmが更によい。0.05μm未満及び10μ
mを越える場合では充分な光感度が得られない。
く、0.1〜5μmが更によい。0.05μm未満及び10μ
mを越える場合では充分な光感度が得られない。
以下本発明の感光体について具体的に説明す
る。
る。
まず本発明に使用可能なキヤリア発生物質とし
ては可視光を吸収してフリーキヤリアを発生する
有機顔料が用いられる。かかる有機顔料としては (1) モノアゾ系顔料、ポリアゾ系顔料、金属錯塩
アゾ系顔料、スチルベンアゾ系顔料、チアゾー
ルアゾ系顔料、 (2) ペリレン系顔料 (3) アントラキノン系又は多環キノン系顔料 (4) インジゴイド系顔料 (5) フタロシアニン系顔料 (6) カルボニウム系顔料 (7) キノンイミン系顔料 (8) メチン系顔料 (9) キノリン系顔料 (10) ニトロ系顔料 (11) ニトロン系顔料 (12) ベンゾキノン及びナフトキノン顔料 (13) ナフタルイミド系顔料 (14) ビスベンズイミダゾール誘導体 等が挙げられる。
ては可視光を吸収してフリーキヤリアを発生する
有機顔料が用いられる。かかる有機顔料としては (1) モノアゾ系顔料、ポリアゾ系顔料、金属錯塩
アゾ系顔料、スチルベンアゾ系顔料、チアゾー
ルアゾ系顔料、 (2) ペリレン系顔料 (3) アントラキノン系又は多環キノン系顔料 (4) インジゴイド系顔料 (5) フタロシアニン系顔料 (6) カルボニウム系顔料 (7) キノンイミン系顔料 (8) メチン系顔料 (9) キノリン系顔料 (10) ニトロ系顔料 (11) ニトロン系顔料 (12) ベンゾキノン及びナフトキノン顔料 (13) ナフタルイミド系顔料 (14) ビスベンズイミダゾール誘導体 等が挙げられる。
前記した顔料の分散媒としては、N,N−ジメ
チルホルムアミド、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタ
ン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、酢酸エチル、酢酸プチル、ジメチルスルホ
キシド等が挙げられる。
チルホルムアミド、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタ
ン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、酢酸エチル、酢酸プチル、ジメチルスルホ
キシド等が挙げられる。
キヤリア発生物質としての前記顔料は前記分散
媒に単独で又は適当なバインダ樹脂と共に分散さ
れて塗料が調製される。
媒に単独で又は適当なバインダ樹脂と共に分散さ
れて塗料が調製される。
本発明に係る前記キヤリア輸送物質としては、
光照射した時に前記キヤリア発生層でキヤリアを
発生するのに充分な光を透過し、負の帯電を行な
つた時には所望の帯電電位を保つことができる物
質を使用することが必要とされる。かかるキヤリ
ア輸送物質としては、例えばスチリル化合物、ヒ
ドラゾン化合物、オキサゾール誘導体、オキサジ
アゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾ
ール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール
誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘
導体、ビスイミダゾリジン誘導体、ピラゾリン誘
導体、オキサゾロン誘導体、ベンゾチアゾール誘
導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘
導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、
フエナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、ポ
リ−N−ビニルカルバゾール、ポリ−1−ビニル
ピレン、ポリ−9−ビニルアントラセン、2,
4,7,−トリニトロフルオレノン、2,4,5,
7−テトラニトロフルオレノン、2,7−ジニト
ロフルオレノン等が挙げられる。
光照射した時に前記キヤリア発生層でキヤリアを
発生するのに充分な光を透過し、負の帯電を行な
つた時には所望の帯電電位を保つことができる物
質を使用することが必要とされる。かかるキヤリ
ア輸送物質としては、例えばスチリル化合物、ヒ
ドラゾン化合物、オキサゾール誘導体、オキサジ
アゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾ
ール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール
誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘
導体、ビスイミダゾリジン誘導体、ピラゾリン誘
導体、オキサゾロン誘導体、ベンゾチアゾール誘
導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘
導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、
フエナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、ポ
リ−N−ビニルカルバゾール、ポリ−1−ビニル
ピレン、ポリ−9−ビニルアントラセン、2,
4,7,−トリニトロフルオレノン、2,4,5,
7−テトラニトロフルオレノン、2,7−ジニト
ロフルオレノン等が挙げられる。
これらのキヤリア輸送物質は、必要に応じて前
記キヤリア発生層中に添加することができる。
記キヤリア発生層中に添加することができる。
また、キヤリア輸送層中にはキヤリア輸送物質
の他、バインダー樹脂を含有してもよい。
の他、バインダー樹脂を含有してもよい。
本発明に係るバインダー樹脂としては、例えば
ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、
メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フエノー
ル樹脂、ポリエステル樹脂、アルキツド樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹
脂等の付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型
樹脂、並びにこれらの樹脂の繰り返し単位のうち
の2つ以上を含む共重合体樹脂、例えば塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸
ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂等の絶縁性
樹脂等の他、ポリ−N−ビニルカルバゾール等の
高分子有機半導体を挙げることができる。そし
て、このバインダー樹脂の顔料に対する割合は、
0〜200重量%、特に10〜100重量%の範囲が望ま
しい。
ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、
メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フエノー
ル樹脂、ポリエステル樹脂、アルキツド樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹
脂等の付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型
樹脂、並びにこれらの樹脂の繰り返し単位のうち
の2つ以上を含む共重合体樹脂、例えば塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸
ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂等の絶縁性
樹脂等の他、ポリ−N−ビニルカルバゾール等の
高分子有機半導体を挙げることができる。そし
て、このバインダー樹脂の顔料に対する割合は、
0〜200重量%、特に10〜100重量%の範囲が望ま
しい。
尚、このキヤリア輸送層には、可撓性の向上、
残留電位の低減、反復使用時の疲労低減の目的で
種々の添加剤を含有せしめることができる。斯か
る添加剤としては、ジフエニル、塩化ジフエニ
ル、o−タ一フエニル、p−タ一フエニル、ジブ
チルフタレート、ジメチルグリコールフタレー
ト、ジオクチルフタレート、トリフエニル燐酸、
メチルナフタリン、ベンゾフエノン、塩素化パラ
フイン、ジラウリルチオプロピオネート、3,5
−ジニトロ安息香酸、各種フルオロカーボン類等
を挙げることができる。
残留電位の低減、反復使用時の疲労低減の目的で
種々の添加剤を含有せしめることができる。斯か
る添加剤としては、ジフエニル、塩化ジフエニ
ル、o−タ一フエニル、p−タ一フエニル、ジブ
チルフタレート、ジメチルグリコールフタレー
ト、ジオクチルフタレート、トリフエニル燐酸、
メチルナフタリン、ベンゾフエノン、塩素化パラ
フイン、ジラウリルチオプロピオネート、3,5
−ジニトロ安息香酸、各種フルオロカーボン類等
を挙げることができる。
本発明に係る感光体基体は導電性を有すること
が必要であり、該導電性基体としては、アルミニ
ウム、ニツケルなどの金属シート、金属ドラム或
は金属箔、アルミニウム、酸化スズ、酸化インジ
ウムなどを蒸着したプラスチツクフイルム或いは
導電性物質を塗布した紙、プラスチツクなどのフ
イルム又はドラムを使用することができる。
が必要であり、該導電性基体としては、アルミニ
ウム、ニツケルなどの金属シート、金属ドラム或
は金属箔、アルミニウム、酸化スズ、酸化インジ
ウムなどを蒸着したプラスチツクフイルム或いは
導電性物質を塗布した紙、プラスチツクなどのフ
イルム又はドラムを使用することができる。
次に実施例によつて本発明を説明する。
外径80φ、長さ300mmのアルミドラムを用いて、
軸を水平方向にして175rpmで回転させその軸方
向に、スプレイングシステムジヤパン製の2流体
ノズル(エアノズル67228〜45、液ノズル1650)
を用いて、主、副走査方向へのスプレー錐の広が
りが副走査方向より主走査方向の方が大きい状態
で42mm/secでスキヤンさせながら1,2−ジク
ロルエタンと1,1,2−トリクロルエタンとの
比が1/1の混合溶媒を用いたポリカーボネイト
樹脂の固型分濃度を2.4wt/vol%の液を60c.c./
min、エアー圧2.0Kg/cm2でスプレーしたところ、
走査ピツチのムラの無い、きれいな塗布が達成で
きた。
軸を水平方向にして175rpmで回転させその軸方
向に、スプレイングシステムジヤパン製の2流体
ノズル(エアノズル67228〜45、液ノズル1650)
を用いて、主、副走査方向へのスプレー錐の広が
りが副走査方向より主走査方向の方が大きい状態
で42mm/secでスキヤンさせながら1,2−ジク
ロルエタンと1,1,2−トリクロルエタンとの
比が1/1の混合溶媒を用いたポリカーボネイト
樹脂の固型分濃度を2.4wt/vol%の液を60c.c./
min、エアー圧2.0Kg/cm2でスプレーしたところ、
走査ピツチのムラの無い、きれいな塗布が達成で
きた。
第1図は本発明に於る感光体基体の周回の態様
を示す図である。第2図は感光体基体の展開され
た表面に於るスプレー走査線の軌跡の説明図であ
る。 10……基体、v……主走査速度、l……副走
査速度、D……基体幅、L……基体周回長、S…
…スプレーガン。
を示す図である。第2図は感光体基体の展開され
た表面に於るスプレー走査線の軌跡の説明図であ
る。 10……基体、v……主走査速度、l……副走
査速度、D……基体幅、L……基体周回長、S…
…スプレーガン。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 感光体基体表面の少くとも一部が円筒曲面を
なして連続周回し、この周回方向を含み基体表面
に直角な面が垂直であるように保持された感光体
基体に対して、周回表面に沿つて走査され、感光
体塗料を感光体基体表面にスプレーして前記基体
表面に感光体層を形成する電子写真感光体の製造
方法において、 前記感光体基体表面に感光体塗料をスプレーす
る際に、前記感光体基体の主走査方向のスプレー
錐を前記感光体基体の副走査方向へのスプレー錐
の拡がりより大きくし、噴射パターンの形状を長
軸/短軸比が2/1となるようにして感光体基体
表面に感光体塗料をスプレーすることを特徴とす
る電子写真感光体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21601485A JPS6275457A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 電子写真感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21601485A JPS6275457A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 電子写真感光体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6275457A JPS6275457A (ja) | 1987-04-07 |
JPH0545026B2 true JPH0545026B2 (ja) | 1993-07-08 |
Family
ID=16681947
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21601485A Granted JPS6275457A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 電子写真感光体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6275457A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5455040A (en) * | 1977-10-11 | 1979-05-01 | Fujitsu Ltd | Spray drum coating device |
JPS57200043A (en) * | 1981-06-03 | 1982-12-08 | Canon Inc | Manufacture of electrophotographic receptor |
JPS58109166A (ja) * | 1981-12-22 | 1983-06-29 | Fujitsu Ltd | 静電ドラム塗装方法 |
-
1985
- 1985-09-27 JP JP21601485A patent/JPS6275457A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5455040A (en) * | 1977-10-11 | 1979-05-01 | Fujitsu Ltd | Spray drum coating device |
JPS57200043A (en) * | 1981-06-03 | 1982-12-08 | Canon Inc | Manufacture of electrophotographic receptor |
JPS58109166A (ja) * | 1981-12-22 | 1983-06-29 | Fujitsu Ltd | 静電ドラム塗装方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6275457A (ja) | 1987-04-07 |
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