JPH0542536B2 - - Google Patents

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JPH0542536B2
JPH0542536B2 JP61023664A JP2366486A JPH0542536B2 JP H0542536 B2 JPH0542536 B2 JP H0542536B2 JP 61023664 A JP61023664 A JP 61023664A JP 2366486 A JP2366486 A JP 2366486A JP H0542536 B2 JPH0542536 B2 JP H0542536B2
Authority
JP
Japan
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floor
sewage
machine room
pump
conduit
Prior art date
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Application number
JP61023664A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61196034A (ja
Inventor
Jii Ueizu Furanku
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SUMISU ANDO RABURESU Inc
Original Assignee
SUMISU ANDO RABURESU Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SUMISU ANDO RABURESU Inc filed Critical SUMISU ANDO RABURESU Inc
Publication of JPS61196034A publication Critical patent/JPS61196034A/ja
Publication of JPH0542536B2 publication Critical patent/JPH0542536B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • EFIXED CONSTRUCTIONS
    • E03WATER SUPPLY; SEWERAGE
    • E03FSEWERS; CESSPOOLS
    • E03F5/00Sewerage structures
    • E03F5/22Adaptations of pumping plants for lifting sewage

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Structures Of Non-Positive Displacement Pumps (AREA)
  • Sewage (AREA)
  • Jet Pumps And Other Pumps (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、下水ポンプステーシヨンに関し、特
に下水ポンプステーシヨンに隣接して位置する下
水受け湿式ウエルから下水を揚げるタイプの下水
ポンプステーシヨンに関する。
下水ポンプすなわち揚水ステーシヨンは一般に
都市の廃水処理システムの一部となつている。廃
水を低所から高所までパイプで送らなければなら
ない地形では、ポンプステーシヨンが設置され
る。下水ポンプステーシヨンは一般に2つの基本
部品から成る。すなわち「湿式ウエル」と一般に
呼ばれる下水受けすなわち収集室と、湿式ウエル
内に収集された下水を高所へ揚げるためのポンプ
および関連制御装置を収容する室すなわちハウジ
ング(一般に「機械室」と呼ばれる)から成る。
過去何年間にわたつて、下水ポンプ技術では廃
下水およびその他の工業用廃水を揚水または移送
するため種々のタイプまたは設計の下水ポンプス
テーシヨンが多数開発されてきた。当業界は異な
るタイプの下水ポンプステーシヨンを「湿式ピツ
ト」タイプと「乾式ピツト」タイプに分けて呼ん
でいる。湿式ピツトタイプは、ポンプが湿式ウエ
ル内で液状下水の液位より下方に位置するポンプ
ステーシヨンを含み、乾式ピツトタイプはポンプ
が湿式ウエルの外側に位置し、液状下水内に沈ん
でいない下水ポンプステーシヨンを含む。本発明
は改良された乾式ピツトタイプのポンプステーシ
ヨンに関するものである。
乾式タイプのポンプステーシヨンには多数の異
なるタイプのものがある。例えば、埋設型ポンプ
ステーシヨン、地上型ポンプステーシヨン、湿式
ウエル取付型ポンプステーシヨンおよび溝付湿式
ウエル取付型ポンプステーシヨンがある。埋設型
ポンプステーシヨンおよび地上型ポンプステーシ
ヨンは機械室に隣接して位置する下水受け湿式ウ
エルを一般に含む。湿式ウエル取付型ポンプステ
ーシヨンおよび溝付湿式ウエル取付型ポンプステ
ーシヨンは、下水受け湿式ウエルより上方に取付
けられた機械室を一般に含む。本発明は埋設型お
よび地上型ポンプステーシヨンに関し、特に工場
で製造される鋼鉄製の機械室を有する埋設型ポン
プステーシヨンに関する。
埋設型ポンプステーシヨンは一般に円筒形のコ
ンクリート構造体の埋設された下水受け湿式ウエ
ルと、ポンプおよびそれに関連した制御装置を収
容する埋設された機械室を一般的に含む。機械室
は設置場所で建てるコンクリート構造体でもよい
し、または工場で建てる鋼鉄構造体でもよいが、
後者の方が製造および設置の点で安価であるので
一般に好ましい。機械室は実質的に平らなフロア
ーと、このフロアーから上方に延長する直立した
側壁によつて一般に画定される。機械室のフロア
ーはフロアーの下面に固定された複数のベースビ
ームによつて一般に補強される。機械室内ではフ
ロアーの上方に少なくとも1つの下水ポンプ手段
が設けられる。下水ポンプ手段はベース部材を含
み、このベース部材の上にポンプのボリユート部
およびポンプモーターが取付けられる。ボリユー
ト部からベース部材を通つて垂直下方に吸込みパ
イプが延長し、更にフロアーを水平方向に横断し
て延長し、機械室の側壁の外へ出て湿式ウエルの
下方部分内に延長する、ボリユート部からは水平
かつ外側に排出パイプが延長し、機械室の側壁を
貫通する。湿式ウエルからの下水は湿式ウエルか
ら吸込みパイプを通つてボリユート部に進入し排
出パイプを通つてポンプステーシヨンの外へ出る
ようポンプ送りされる。湿式ウエル内の液位に応
じて下水ポンプ手段の作動を制御するため一般に
空気泡立てシステムが使用される。このようなシ
ステムは一般に空気ラインと空気コンプレツサー
と空気量制御装置を含む。空気ラインは機械室か
ら機械室のそれぞれの側壁を貫通し、湿式ウエル
内に延長する。当業者には湿式ウエルから機械室
内に延長するワイヤーによつて湿式ウエル内につ
り下げられた変位スイツチを利用することも周知
である。さらに、機械室内の吸込みラインの一部
と連通する圧力スイツチ装置を利用することがこ
れまでに提案されている。本発明と同じ譲受人に
譲渡された米国特許第3842224号にかかる装置の
一例が開始されている。機械室のフロアーに形成
されたサンプウエル内には一般にサンプポンプが
設けられ、このポンプはサンプウエル内に収集さ
れた液体を機械室から湿式ウエル内に延長する排
出ラインを通して上へ揚げる。
上記設計のポンプシステムは長年にわたつて極
めて良好に業界に役立つているが、本発明が克服
しようとするこれらポンプステーシヨンの作動、
構造および保守に関連した種々の問題があつた。
また下水受け湿式ウエルと下水ポンプ手段との
接続部に関連した問題もある。上記のようにこの
接続部は標準的配管から製造された吸込みパイプ
を利用することによつて得られるが、流量が大き
い場合指定されたポンプ寸法よりも通常大寸法と
なる。このことによつて、埋設ステーシヨン内の
機械室および地上ステーシヨン内の自然要素への
地下水の浸透を防止するのに機械室の側壁に吸込
みパイプをどのようにシールすべきかという問題
が生じる。湿式ウエルおよび機械室を共通スラブ
すなわち支持体上に支持する好ましい構造では、
湿式ウエルの底部をほぼ吸込み管の高さまで上げ
るか、吸込みパイプを湿式ウエルのフロアの高さ
まで下げるよう配設するため湿式ウエル内に特別
の底部構造体を設けていた。本発明は、特殊な構
造を用いることなくこれら問題を解決する。
更に、吸込みパイプが機械室内のフロアを横断
し、「エル」パイプ部および特殊取付具およびそ
の他パイプ部分を使用しなければならなく、これ
ら部分および部品のすべてが機械室内の貴重なフ
ロアスペースを取るという事実に関連した問題が
ある。機械室内吸込みパイプは耐腐食性とするた
め砂がけするかまたは他の方法によつて掃除し、
ペイントを塗らなければならない。更に別個の剛
性ベースに取付けられているポンプにかかるパイ
プの歪みを防止するように吸込みパイプを敷設
し、剛性ベースもパイプの歪みを防止するように
水平にしなければならない。これらベースは、掃
除、ペイント塗り、注意を要するレイアウトおよ
び取付ボルトのマスキングを必要とする製造済み
部品であり、これらも共振振動の問題を生じさせ
る発生源である。本発明はこれら吸込みパイプの
問題を解決し、かつ標準的パイプ取付具を利用す
る。
更に排出パイプに関連する排出バルブのオペレ
ータの頭部より上に制御パネルを配置しなければ
ならなこいとに関連した問題がある。上記のよう
な配管条件のためポンプより下方にベースを設け
なければならないので、これら排出パイプは機械
室の比較的高い位置に設けられ、このため制御パ
ネルの取付けも高くしなければならなく、その結
果、機械室の高さはより高くなり、アクセスでき
るスイツチの数が少なくなることが多い。本発明
は、支持ベース上にポンプを取付けることを不要
にすることによつてこれら問題を解決する。
またサンプポンプ排出ラインと下水ポンプおよ
び湿式ウエルに関連した制御装置との間に外部接
続部を設けなければならないことに関連した問題
もある。これら接続は一般に工事請負人が行なわ
なければならない。本発明は、これら外部接続部
を不要にすると共に、すべての機器を制御パネル
に接近して配置することによつてステーシヨンの
操作を容易にする。
更に機械室のシエルを所定場所に設置すること
なくパイプステーシヨンおよび配管のすべての作
動をテストすることはこれまで不可能であつた。
このようなテスト中は設管を取外したり追加した
りしなければならなく、テスト完了後は、シエル
に配管を位置しなければならなかつた。更に設置
場所で作動するような状態でポンプ制御スイツチ
およびサンプポンプをテストすることは不可能で
あつた。
本発明は、機械室を設置場所に設置することな
く、かつ配管を取外しかつ追加することなく、ポ
ンプステーシヨン全体をテストできるようにする
ことによつてこれら問題を解決する。
本発明に従つて製造された下水ポンプステーシ
ヨンの好ましい実施態様は、ポンプおよび関連制
御装置を収容する機械室に隣接して配置された下
水受け湿式ウエルを含む。湿式ウエルおよび機械
室は好ましくは共通のコンクリートスラブ上に支
持され、湿式ウエルはこのウエルからの下水の取
出しを容易にするためウエルの下方部分に隣接し
て内部に形成された傾斜した側壁を有する一般に
円筒形となつている。
機械室は平らなフロアおよびフロアから上方に
延長する周辺の側壁によつて画定され、ルーフお
よび適当な入口マンホールが機械室の頂部を閉じ
る。機械室のフロアは中空の矩形断面を有するこ
とが好ましいベースビーム手段上に支持され、ベ
ースビーム手段の上方表面はフロアの下面に支持
される。ベースビーム手段は、湿式ウエルの下方
部分内に延長する開いた第1端部および閉じた第
2端部を有する吸込みパイプ延長導管を画定す
る。
機械室内のフロア上には下水ポンプ手段が配置
され、この下水ポンプ手段はモータアセンブリと
ボリユートアセンブリを有するインライン取付型
ポンプを含む。このポンプは、ボリユート部に取
付けられた上方端部およびフロアに固定された下
方端部を有する吸込み導管によつてフロアより上
方に支持される。吸込み導管の下方端部は、吸込
み延長導管の中間部分より上方に位置し、フロア
に形成された開口を通して吸込み延長導管に流体
連通する。この吸込みパイプは、通常の支持ベー
スを不要とするポンプのベースとして作動する。
吸込み延長導管は、好ましくは開端部から閉端部
へ向つて下方に傾斜し、このためポンプが切られ
ている間内部に進入した進行空気が上昇し、湿式
ウエルへ戻ることができる。従つて、ベースビー
ムは機械室のフロアを補強することと湿式ウエル
と下水ポンプ手段との間の吸込み導管の一部とし
て作動することの二重機能を有する。
機械室のフロア内にはサンプウエルが形成さ
れ、サンプウエルはサンプポンプを含む。サンプ
ポンプからの排水は、フロア内の開口を貫通する
排出導管を通り、吸込み延長導管に流入する。機
械室内には下水ポンプ手段の作動を制御するため
の制御手段が収容される。制御手段は、湿式ウエ
ル内の液位を検出するよう吸込み延長導管と流体
連通する圧力トランスジユーサ手段と、下水ポン
プ手段の作動を制御するよう圧力トランスジユー
サ手段に連通した圧力スイツチ手段を含む。
本発明の上記以外の利点および特徴は、明細書
および図面から明らかとなろう。
好ましい実施態様の説明 第1〜3図を参照すると、これら図には本発明
の好ましい実施態様に従つて製造された下水ポン
プステーシヨン10が示されている。第1図に最
良に示すようにステーシヨン10は埋設型ポンプ
ステーシヨンであり、ここでは地面は参照番号1
2で示されている。しかしながら当業者であれ
ば、理解されるようにステーシヨンは一般に地面
より下に設置されるが、ステーシヨン10は、ほ
とんどまたは全く改善を加えることなく一部また
は全体を地面より上に設置できる。
ステーシヨン10は、下水受け湿式ウエル14
と機械室16から成り、湿式ウエル14はコンク
リート、鋼または同等品のいずれかから構成され
た周知の構造にできる。一般的に湿式ウエル14
は、側壁20を画定するよう円筒形コンクリート
パイプ18の一部から建造される。湿式ウエル1
4の底部はグラウト22によつて形成され、グラ
ウトは湿式ウエル14の底部に向つて下方かつ内
側に延長する傾斜側面24および底面26を画定
する。コンクリート製パイプ18の下方エツジは
実質的に水平のコンクリート製スラブ30の上に
一般に支持される。コンクリート製パイプ18の
上方エツジは一般にコンクリート製スラブ32に
より閉じられ、スラブは内部に形成された適当な
マンホール(図示せず)を有する。側壁20の中
間部分を湿式ウエル入口パイプ34が貫通し、廃
下水を湿式ウエル14内へ導くようになつてい
る。上記湿式ウエル14は周知の構造である。
機械室16は湿式ウエル14に隣接して位置
し、直立した側壁36、フロア38およびルーフ
40によつて画定されている。側壁36は一般に
横断面が円形であるが、横断面を矩形、 等
にすることもできる。側壁36の下方エツジはフ
ロア38に固定され、側壁36の上方エツジはル
ーフ40に固定されている。当業者に周知のよう
にルーフ40から地面12の上まで入口マンホー
ル42が上方に延長している。マンホール42
は、ルーフ40に形成された開口48を通して機
械室16の内部と連通し、マンホールの頂部を選
択的に閉じるための適当なカバー部材46が設け
られている。ルーフ40を補強するため一般に適
当なビーム47が設けられている。好ましい実施
態様によれば、側壁36、フロア38およびルー
フ40は鋼から製造されるが、本発明ではコンク
リート、グラスフアイバ等の他の材料を使用する
こともできる。
下記の記載では、2つの下水ポンプを含むポン
プステーシヨンについて説明するが、本発明は自
明の変更をした任意の数の下水ポンプを含むポン
プステーシヨンと組合わせて使用することが可能
である。
本発明の特徴の一つによれば、フロア38の直
下に一対のベースビーム48が設けられる。ベー
スビーム48は吸込み延長導管50を画定するよ
う中空構造である。好ましい実施態様によれば、
ベースビーム48は横断面が矩形であり、上方表
面52はフロア38の下面に固定されている。し
かしながらベースビーム48の横断面は、他の構
造的形状、すなわち台形、八角形等にできる。ベ
ースビーム48は、コンクリートスラブ30上に
載つた下方面およびフロア38の下面に合致した
上面を有することが好ましい。ベースビーム48
は、フロアに加えられる地下水からの静水圧およ
び他の荷重が平らなフロアを座屈させないようフ
ロアを補強するのに充分な弾性率を有する。延長
導管50の寸法は、ステーシヨンの設計容量の予
想する必要な液体速度を与えるよう選択される。
この液体の速度は、固体を運ぶのに充分速くかつ
ポンプ始動時および停止時にかかる流体のサージ
ングを最小に維持するのに充分遅くしなければな
らない。延長導管50を通過する液体流れ速度は
毎秒約15〜600cm(0.5〜5.0フイート)の範囲内
にすべきである。延長導管50を矩形にしたこと
は湿式ウエル14内での渦運動および下水ポンプ
入口内での予旋回も防止する。
ベースビーム48は開いた第1端部54と閉じ
た第2端部56を有する。第1図に最良に示すよ
うに開いた端部54は側壁20の下方部分を貫通
して湿式ウエル14内まで延長し、ウエル内に収
容された廃下水と流体連通する。ベースビーム4
8は、後でより明らかとなる理由から、開端部か
ら閉端部へ向つて下方に若干傾斜されている。同
様にこの上に支持されている機械室16も若干傾
斜している。ベースビーム48の下方表面とコン
クリートスラブ30との間の領域には、スラブよ
り上方にベースビームを強固に支持するようグラ
ウトを充填することが好ましい。
機械室16はフロア38より上方に支持された
2つの下水ポンプ手段62を含む。下水ポンプ手
段62は、周知の構造であり、本発明と同じ譲渡
人に譲渡された米国特許第3519369号にその構造
の一例が示されている。下水ポンプ手段62は、
モータアセンブリ64とボリユートアセンブリ6
6を含み、ボリユートアセンブリ66から半径外
側方向に排出導管68が延長し、この導管には適
当なゲートバルブ70が設けられている。排出導
管68は、Y形取付具72によつて機械室16内
で共に接合され、単一排出導管68として機械室
16から外側に延長している。
本発明の別の特徴によれば、下水ポンプ手段6
2は機械室16内で吸込み導管74によつてフロ
ア38より上方に支持され、別々になつたベース
部材を不要にしている。吸込み導管74はボリユ
ートアセンブリ66の下面に適当に固定され、ア
センブリの内部と流体連通する上方端部分と、フ
ロア38に適当に固定される下方端部分78を有
する。端部分76と78の間にはゲートバルブ8
0を設けることが好ましい。下方端部分78は、
対応する吸込み延長導管50と流体連通するよう
フロア38およびベースビーム48内の心合わせ
された開口を貫通する。後により明らかとなるよ
うに吸込み導管74は、下水ポンプ手段62用の
吸込みパイプとして作動しかつ下水ポンプ手段用
の支持ベースとして作動する2重機能を有する。
第2図に示すようにベースビーム48は、吸込
み導管74と整合しかつベースビーム48の開端
部54の湿式ウエル14内への貫通を容易にする
よう配列される。第1〜3図に示す実施態様で
は、ベースビーム48は湿式ウエル14へ向つて
延長するにつれて互いに収束する。しかしながら
別の実施態様では、ベースビーム48は互いに平
行にするか、または互いに離間するよう発散させ
てもよい。
第2〜4図に示すように、ポンプステーシヨン
10には液体を取出すためのサンプポンプアセン
ブリ84が設けられる。このように液体を取出さ
ないと、機械室16内のフロア38上に液体が累
積してしまう。このサンプポンプウエル86はフ
ロア38から下方に延長し、フロア内に形成され
た開口88と連通する。このサンプポンプウエル
86は、フロア38上の液体がウエル内に流入す
るようフロア38内の最も低い領域に位置するこ
とが好ましい。フロア38の上方表面上にはスク
リーン90が延長し、サンプポンプを詰まらせる
固体物がサンプウエル86内に進入するのを防止
する。サンプポンプの排出導管94の入口端はフ
レキシブルカツプリング98を介してサンプポン
プ92の排出パイプに接続されている。排出導管
94には一般に一対のチエツクバルブ100とゲ
ートバルブ102が設けられる。排出導管94の
出口端はフロア38内の開口104を貫通し、カ
ツプリング106によつて吸込み延長導管50と
流体連通する。従つて、機械室16から湿式ウエ
ル14まで排出導管94を配設する必要はなくな
る。
第1図、第3図および第4図を参照すると、湿
式ウエル14内の液位に応じて下水ポンプ手段6
2の作動を制御するための制御アセンブリ110
が設けられている。本発明の好ましい実施態様に
よれば、制御アセンブリ110は導管内の圧力を
検出するよう吸込み延長導管50内の液体と流体
連通する圧力トランスジユーサアセンブリ112
と、この圧力トランスジユーサアセンブリ112
に応答する圧力スイツチアセンブリ114を含
む。特に第5図を参照すると、圧力トランスジユ
ーサアセンブリ112は室118を画定する倒立
カツプ状ハウジング116を含む。第5図に示す
ように室118を閉じるように可撓性ゴムブラダ
ー120が設けられ、かつ室内に延長している。
ブラダー120は、取付フランジ122の間の所
定場所に適当に係止され、取付フランジ122か
ら下方にパイプ124が延長している。パイプ1
24は、ブラダー120と流体で連通する上方端
と、フロア38内の開口126を貫通し、ベース
ビーム48内に形成された開口128によつて吸
込み延長導管50と流体連通する。ゲートバルブ
130は、好ましくはパイプ124の中間部分の
中に設けられる。ハウジング116の上方部分か
らは可撓性チユーブ132が延長し、このチユー
ブ132は適当な取付具134を介してチヤンバ
118に流体連通する第1端部と、圧力スイツチ
アセンブリ114と流体連通する第2端部を有す
る。ゲートバルブ136は好ましくは、チユーブ
132の中間部分の中に設けられる。
圧力スイツチアセンブリ114は、一端がチユ
ーブ132に適当に固定されたパイプ138を含
み、このパイプはコネクタ140を介してチユー
ブ132に流体連通すると共に他端は閉じられて
いる。パイプ138には、パイプと流体連通する
ようポンプ制御圧力検出スイツチ142および圧
力ゲージ144のタツプが立てられている。圧力
スイツチ142は、機械室内に収容されたステー
シヨン制御パネル146に適当に配線されてい
る。室118、チユーブ132およびパイプ13
8には液体、例えば軽質油、グリセリン等が充填
される。第1図に示すように、制御アセンブリ1
10、サンプポンプアセンブリ84、下水ポンプ
手段62に関連する各種バルブおよび制御パネル
146は、配線およびステーシヨンの作動を容易
とするため互いに接近させて設けることが好まし
い。
ほとんどの下水ポンプステーシヨンと同じよう
に従来通り、除湿アセンブリ148、換気ブロワ
ーアセンブリ150、はしご152およびライト
154が機械室16内に設けられており、これら
すべての部品は周知の構造であり、周知の作動を
する。同じように、入口マンホール42には適当
なベント出口156が貫通するよう設けられてい
る。
以下述べる下水ポンプステーシヨン10の作動
の説明から、上記ステーシヨンの各種部品のユニ
ークな協働関係が明らかとなろう。
廃下水は、入口パイプ34を通して湿式ウエル
14内に流入する。湿式ウエル14からの下水
は、吸込み延長導管50、吸込み導管74および
パイプ124に進入し、これらを満す。湿式ウエ
ル14内の液位が上昇すると、吸込み延長導管5
0およびパイプ124内の圧力が増加し、ブラダ
ー120を伸張させるので、圧力トランスジユー
サアセンブリ112の室118内の液体はチユー
ブ132内に変位する。変位した液体はチユーブ
132内の液体圧力を増加し、かかる圧力が所定
値に達すると、圧力スイツチ142の一方または
双方が附勢される。液体の圧力は、圧力ゲージ1
44によつてモニタできる。当業者に周知のよう
に、圧力スイツチ142は制御パネル146内の
回路と協働し、下水ポンプ手段62の一方または
双方を始動する。圧力スイツチ142は、異なる
プリセツト値で附勢し、下水ポンプ手段62の一
方または双方を始動するかを制御する。
下水ポンプ手段62は、従来周知のように湿式
ウエル14から吸込み延長導管50および吸込み
導管74を通してボリユートアセンブリ66内に
液状下水を取り出し、次に排出パイプ68を通過
させる。湿式ウエル14内の液位が低下すると、
吸込み延長パイプ50およびパイプ124内の圧
力も同様に低下するので、ブラダー120は元の
形状に復帰し、チユーブ132内の圧力を低下す
る。チユーブ132内の圧力が所定の最小値まで
戻ると、スイツチ142の一方または双方が作動
しなくなり、制御パネル146内の回路は下水ポ
ンプ手段62の一方または双方を閉じる。従つ
て、下水ポンプ手段62は延長導管50内の圧力
に応じて直接制御され、導管は湿式ウエル14な
の液位に直接依存する。
機械室14内でフロア38上に液体が累積する
と、かかる液体はサンプウエル86内へ向けら
れ、サンプポンプ92によつてここから排出パイ
プ94を通して吸込み延長導管50内へポンプ送
りされる。機械室16の内部にはサンプポンプア
センブリ84が収容されるが、外部接続は必要と
しない。
上記のようにベースビーム48は開端部から閉
端部へ下方に傾斜している。このことは2つの点
で重要である。まず第1に、下水ポンプ手段が切
られている間延長吸込み導管に進入する連行空気
が上昇し、湿式ウエル14へ戻される。これによ
り気泡が下水ポンプ手段へ進入し、これらをエア
ーロツクすることが防止される。第2に、ベース
ビームの入口端をスラブ30よりも上方に設けた
ことにより、側壁20に進入しているベースビー
ムの開端部のまわり全体をグラウト充填すること
ができ、このため防水シールできる。更にスラブ
30およびグラウト60はベースビーム48の強
固な支持体となり、よつて上にある吸込み管の下
方の土の沈降の結果、従来の下水ステーシヨン内
で時々生じた吸込み管の破裂を解消する。
上で言及したように、吸込み導管74は下水ポ
ンプ手段62の支持ベースとして働き、下水ポン
プ手段を上昇させるための別個の剛性ベース部材
を不要にする。吸込み延長導管50と協働する吸
込み導管74の設計は、機械室の全高を低くする
と共に、貴重なフロアのスペースを取りかつステ
ーシヨンのコストを増加する複雑なパイプ装置を
不要にしている。更に、下水ポンプ手段用の支持
ベースが不要になつたことにより、下水ポンプ手
段の3つの通常の剛性取付点のうちの一つが不要
となつた。他の剛性取付点はわずか吸込み導管7
4および排出導管68にすぎない。これにより、
排出導管68を適当に取付けた後吸込み導管74
を所定位置に固定できるので、配管の歪およびそ
の結果生じる下水手段の振動理由が減少する。更
に吸込み導管74および吸込み延長導管50を協
働させたことにより標準パイプ取付具が必要とな
る排出導管68の設置が不要となり、よつて、ス
ペースを最大に利用できるように排出導管を設置
できる。
本発明の下水ポンプステーシヨンは、所定場所
に設置された機械室のシエルを用いることなく所
定場所に吸込みラインを有する関連パイプおよび
全ステーシヨンのテストを容易にする。本発明に
従う吸込み導管74、吸込み延長導管50、サン
プアセンブリ84およびポンプ制御アセンブリ1
10の特定配列および構造は、実際に現場に設置
して作動させるのと同じように工場で配管および
補助装置のすべてをテストできる。
本明細書に述べた好ましい実施態様は現時点で
は好ましいものと考えられるが、ここでは種々の
改良および変更が可能であると解され、特許請求
の範囲は、発明の真の精神および範囲内でこれら
改良および変更のすべてをカバーするようにして
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に従つて構成された下水ポンプ
ステーシヨンの好ましい実施態様を示す一部を横
断面図にした側面図、第2図は第1図に示した下
水ポンプステーシヨンの機械室の一部を破断した
平面図、第3図は第1〜2図に示された下水ポン
プステーシヨンの機械室内に取付けられた下水ポ
ンプ手段の拡大側面図、第4図は第1〜3図に示
した下水ポンプステーシヨンのサンプポンプアセ
ンブリを示す一部を横面図にした側面図、第5図
は第1〜3図に示した下水ポンプステーシヨンの
下水ポンプ制御手段の一部を横断面図にした側面
図である。 10……下水ポンプステーシヨン、14……湿
式ウエル、16……機械室、20……側壁、38
……フロア、48……ベースビーム、50……吸
込み延長導管、62……ポンプ手段、74……吸
込み導管。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 隣接する下水受け湿式ウエルから下水をポン
    プ送りするための下水ポンプステーシヨンであつ
    て、 (a) フロアおよびこのフロアから上方に延長した
    側壁によつて画定された機械室を含み、 (b) 前記機械室は前記フロアよりも上方に支持さ
    れた下水ポンプ手段を収容し、 (c) 前記フロアの直下に位置し、前記フロアに固
    定され、前記フロアが座曲しないよう前記フロ
    アを補強するのに充分な弾性率のベースビーム
    手段を含み、該ベースビーム手段は前記湿式ウ
    エルの下方部分の中に延長し、流体連通する開
    いた第1端部および閉じた第2端部を有する吸
    込み延長導管を画定する中空構造であり、 (d) 更に前記下水ポンプ手段と前記フロアとの間
    で延長し、前記下水ポンプ手段と流体連通する
    上方端部と前記フロア内に形成された開口を通
    して前記吸込み延長導管と流体連通する下方端
    部を有する吸込み導管手段とを含む下水ポンプ
    ステーシヨン。 2 前記フロアは実質的に平らであり、前記ベー
    スビーム手段は横断面が矩形である特許請求の範
    囲第1項記載の下水ポンプステーシヨン。 3 前記ベースビーム手段は、その開端部から閉
    端部へ向つて下方に傾斜する特許請求の範囲第2
    項記載の下水ポンプステーシヨン。 4 前記機械室は前記フロア上の複数の下水ポン
    プ手段およびそれに対応する吸込み導管手段を収
    容し、前記ベースビーム手段は前記吸込み導管手
    段の各々と流体連通する特許請求の範囲第1項記
    載の下水ポンプステーシヨン。 5 前記フロア内に形成されたサンプウエル内に
    位置するサンプポンプ手段を含み、このサンプポ
    ンプ手段は前記ポンプウエルから前記吸込み延長
    導管内に流体を向けるための排出導管を有する特
    許請求の範囲第1項記載の下水ポンプステーシヨ
    ン。 6 前記湿式ウエル内の液位に応じて前記下水ポ
    ンプ手段の作動を制御するよう前記機械室内に収
    容された制御手段を有し、該制御手段は前記フロ
    ア内の開口を通して前記吸込み延長導管内の圧力
    を検知するよう前記吸込み延長導管と流体連通す
    る圧力トランスジユーサ手段とこの圧力トランス
    ジユーサ手段とを連通する圧力スイツチ手段を含
    む特許請求の範囲第1項記載の下水ポンプステー
    シヨン。 7 前記湿式ウエルの下方部分は傾斜した側壁を
    有し、前記ベースビーム手段の前記開いた第1端
    部の外側エツジは前記傾斜した側壁と同一平面と
    なるように面取りされている特許請求の範囲第1
    項記載の下水ポンプステーシヨン。 8 前記機械室は前記ルーフから上方に延長し、
    前記ルーフ内の開口を通して前記機械室と連通す
    る入口マンホールと前記側壁をカバーする関係に
    あるルーフを含む特許請求の範囲第1項記載の下
    水ポンプステーシヨン。 9 前記下水ポンプ手段は、ボリユートアセンブ
    リを含み、前記吸込み導管は前記ボリユートアセ
    ンブリに固定された上方端部と前記フロアより上
    方に前記下水ポンプ手段を支持するよう前記フロ
    アに固定された下方端部を有する特許請求の範囲
    第1項記載の下水ポンプステーシヨン。
JP61023664A 1985-02-21 1986-02-05 下水ポンプステーシヨン Granted JPS61196034A (ja)

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US06/704,075 US4594153A (en) 1985-02-21 1985-02-21 Sewage pumping station
US704075 1985-02-21

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JPS61196034A JPS61196034A (ja) 1986-08-30
JPH0542536B2 true JPH0542536B2 (ja) 1993-06-28

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