JPH0542520B2 - - Google Patents

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JPH0542520B2
JPH0542520B2 JP15050983A JP15050983A JPH0542520B2 JP H0542520 B2 JPH0542520 B2 JP H0542520B2 JP 15050983 A JP15050983 A JP 15050983A JP 15050983 A JP15050983 A JP 15050983A JP H0542520 B2 JPH0542520 B2 JP H0542520B2
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JP
Japan
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current
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graphite electrode
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graphite
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Takanori Masuda
Hisao Ooba
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は金属板の電解処理において電極の安定
性を著しく向上させうる給電方法に関するもので
ある。アルミニウム、鉄などの金属の表面に電解
を応用する方法は、たとえば鍍金処理、電解粗面
化処理、電解エチング処理、陽極酸化処理、電解
着色、梨地処理等広汎に実用化されており利用さ
れる電源には、要求される品質や反応効率の向上
の目的から直流、商用交流、交番電流、重畳波形
電流、その他サイリスタ制御等による特殊波形等
がある。例えば、交番波形電源をオフセツト印刷
に使用した記載は特公昭56−19280号公報等にみ
られる。 しかし交番波形を液体給電に用いる事は、電極
の安定性の点からその材料選択が非常に重要であ
る。一般に電極材料としては、白金、チタン、
鉄、鉛、黒鉛等が利用されるが、黒鉛電極は化学
的にも比較的安定であり、製造コストも安価であ
る事から広く利用されている。本発明は黒鉛材料
の特質を活かし、交番波形を使用する電解処理に
おいても充分に安定性が確保できる給電方法を提
供することにある。 第1図は従来の黒鉛電極を利用した、金属ウエ
ブの連続電解処理システムの一具体例を示す。金
属ウエブ1はガイドロール2より電解セル4に導
びかれパスロール3により支持され電解セル内を
水平に搬送されガイドロール5によりセル外に移
送される。電解セル4はインシユレーター6によ
り2つの室に分割されそれぞれに黒鉛電極7,8
が金属ウエブに対向して配置される。28は電解
液であり循環タンク9にストツクされポンプ10
により電解槽4に内に設置された電解液供給口1
1,12に送液される。黒鉛電極7,8と金属ウ
エブとの間を電解液が満たし排出口13を経て循
環タンク9にもどる。14は電源であり電極7,
8に接続し、電圧印加する。このようにすること
により金属ウエブ1に連続的に電解処理を実施す
ることが出来る。電源14には第2図に示すよう
に(1)直流波形(2)商用交流、(3)(4)波形制御された交
番電流、(5)(6)波形制御された矩形波交番電流等が
利用される。交番波形においては一般的には順側
電流値Inと逆側電流値Irとの大きさは等しくな
い。黒鉛電極は一般的にカソード極としては極め
て安定的に作用することが出来るがアノード極と
して作用する時電解条件によつては、電解液中で
アノード酸化によりCO2となつて消耗すると同時
に黒鉛の層間が侵食され機械的に崩壊して消耗す
る現象が起る。精密な電解処理を必要とされる場
合はこの現象は電極内の電流分布に変化が生じる
ため電解処理が不均一となり極めて不都合であ
る。このため定期的に電極を更新する必要がある
ため量産化の観点からは生産性を低下させる大き
な欠点となつていた。 本発明者らはこの黒鉛電極の消耗を回避するた
め鋭意研究を行つた結果、非対称交番波形電流を
用いる系において黒鉛電極の安定条件を見いだす
ことが出来た。第1図の電解セルに於て第2図4
の非対称波形電流(In>Ir)を使用し順側端子を
電極7、逆側を電極8に接続し、周波数60Hz、電
流密度50A/cm2で1%HCl電解浴にて処理した
所、黒鉛電極7の消耗が激しく逆に黒鉛電極8全
く安定であつた。電源の接続を逆にすると電極も
逆に8が消耗をはじめ7は消耗を停止した。即ち
これらは非対称波形電流を使用する場合に、電気
化学的に黒鉛電極がアノード極として作用する周
期の電流値をIa・カソード極として作用する周期
の電流値をIcとすると、Ia>Icの時黒鉛電極の消
耗が起こりIa<Icの時に安定であることを示して
いる。本発明者らはこの安定条件に着眼し、交番
波形を用いる場合において、両方の黒鉛電極を安
定に維持出来る新規な給電方法を開発した。 すなわち、本発明は黒鉛電極を使用しかつ交番
波形電流を出力する電源を使用して金属ウエブを
液体給電により連続電解処理する場合の給電方法
に於て、前記交番波形電流の半周期の電流の一部
を点弧角制御により該金属ウエブに分流し、前記
黒鉛電極の表面でアノード反応にあずかる電流値
よりもカソード反応にあずかる電流値が大きくな
るようにしたことを特徴とする給電方法である。 以下本発明による給電方法を第3図で詳細に説
明する。 金属ウエブ1は第3図に示す様にコンダクタロ
ール16およびバツクアツプロール15によつて
電解セル4に導びかれ、パスロール2,3により
支持され電解セル内を水平に搬送されガイドロー
ル5によつてセル外に移送される。 電解セル4はインシユレータ6により2つの室
に分割され、それぞれに黒鉛電極7,8が金属ウ
エブに対向して配置される。28は電解液であり
循環タンク9にストツクされポンプ10により電
解セル4の内に設置された電解液供給口11,1
2に送液される。電解液は電極7,8と金属ウエ
ブとの間を満たし排出口13を経て循環タンク9
にもどる。 この様な電極配置を構成する電解セルに、電源
14は順側接点を黒鉛電極7およびサイリスタ1
7を介して、コンダクタロール16にも接続され
る。一方逆側接点は黒鉛電極8に接続する。 この様なセル構成において電源14より、第2
図に示す様な非対称交番波形3,4,5,6を流
す。電流波形は順側電流値をIn、逆側電流値をIr
とするとIn>Irであり、In=Ir+αが成立する。 順側周期のとき、順側立上りよりも遅くかつ順
立下がりよりも早くサイリスタ17を通電する。
この様に制御すると最初は黒鉛電極7から金属ウ
エブ1に流れ、サイリスタ通電後は黒鉛電極7お
よびコンダクタロール16から金属ウエブ1に電
流が流れる。この時黒鉛電極7ではアノード反
応、対面する金属ウエブ表面ではカソード反応処
理が行なわれる。金属ウエブ1に給電された電流
は金属ウエブ内を流れて、電解液を介し黒鉛電極
8に流れ電源14にもどる。この時黒鉛電極8で
はカソード反応、対面する金属ウエブ表面ではア
ノード反応が行なわれる。黒鉛電極7とコンダク
タロール16への電流値をそれぞれIn、βとする
とβ>αとなる様にサイリスタの点弧角を制御す
る。 一方逆側電流周期の場合は、電流値Inが電源1
4より黒鉛電極8に給電され電解液を介して金属
ウエブに給電される。この時黒鉛電極8ではアノ
ード反応が起こり、対面する金属ウエブ表面で
は、カソード反応が起こる。 金属ウエブ1に給電された電流はウエブ内を流
れ電解液を介して黒鉛電極7に流れる。この逆周
期の時は、サイリスタ17は逆流方向となるため
コンダクタロール16には分流されない。この時
黒鉛電極7ではカソード反応、方向する金属ウエ
ブ表面ではアノード反応が起こる。 この様に処理される時、本発明によれば、黒鉛
電極7,8とも酸化消耗することなく極めて安定
的に作用させることが可能である。すなわち、黒
鉛電極7を考えるとアノード反応として作用する
時電流Ia=Inであり、カソード反応として作用す
る時Ic=Inとなる。この時In=Ir+α、In=In+
βでβ>αと制御するためIr>Inが成立する。 従つて黒鉛電極7に対しては、Ia<Icとなり安
定条件が成立する。また黒鉛電極8に対しては、
アノードとして作用する時、電流Ia=Inでありカ
ソードとして作用する時Ic=InでありIr<Inであ
る事からIa<Icの安定条件が成立する。一方コン
タクタロール16は金属接触のためその消耗はほ
とんど発生しない。 次に対称交番波形を使用する場合の実施例を第
4図にて説明する。 金属ウエブ1はコンダクタロール16およびバ
ツクアツプロール15によつて電解セル4に導び
かれパスロール2,3より支持され電解セルを水
平に搬送されガイドロール5によつてセル外に移
送されコンダクタロール19とバツクアツプロー
ル18を通り次の工程へと搬送される。 電解セル4はインシユレータ6により2つの室
に分割されそれぞれの黒鉛電極7,8が金属ウエ
ブに対応して配置される。28は電解液であり循
環タンク9にストツクされ、ポンプ10により電
解セル4の内に設置された電解液供給口11,1
2に送液される。電解液は電極7,8と金属ウエ
ブの間を満たし排出口13を経て循環タンク9に
もどる。この様な電極配置を構成する電解セルに
電源14は順側接点を黒鉛電極7およびサイリス
タ17を介してコンダクタロール16にも接続す
る。 一方逆側接点は黒鉛電極8およびサイリスタ2
0を介してコンダクタロール19に接続する。 この様なセル構成において電源14より例えば
第2図に示すような対称交番波形電流2を流す。
電流波形の順側電流値をIn、逆側電流値をIrとす
るとIn=Irとなる。順側周期の時順側立上り時よ
りも遅くかつ順側立下り時よりも早くサイリスタ
17を通電する。この様に通電を制御すると最初
は黒鉛電極7から金属ウエブ1に電流が流れ、サ
イリスタ通電後は黒鉛電極7およびコンダクタロ
ールから金属ウエブ1に電流が流れる。この時電
極7ではアノード反応が行なわれる。金属ウエブ
に給電された電流は、サイリスタ20が逆方向の
ため遮断し、コンダクタロール19へ分流せず全
て電解液を介して黒鉛電極8に流れ電源14にも
どる。この時電極8ではカソード反応が行なわれ
る。黒鉛電極7への電流値をIn、コンダクタロー
ルへのそれをαとするとIn=In+αとなる。 一方逆側電流周期の場合は、順側周期の場合と
同様に逆側周期中にサイリスタ20を通電する。
この様に通電を制御すると最初は黒鉛電極8から
金属ウエブに電流が流れ、サイリスタの通電後は
黒鉛電極8およびコンダクタロール16から金属
ウエブに電流が流れる。この時黒鉛電極8ではア
ノード反応が行なわれる。金属ウエブ1に給電さ
れた電流はサイリスタ17が逆流方向となるため
遮断されコンダクタロール16へは分流せず、電
解液を介して黒鉛電極7に流れ電源14にもど
る。この時黒鉛電極7ではカソード反応が行なわ
れる。電極8への電流をIrコンダクタロールへの
それをβとするとIr=Ir+βとなる。 今は、α、β>0の任意の値をとる様に、サイ
リスタの点弧角を制御されるためIn=Ir>Ir、Ir
=In>Inが常に成立する。すなわち黒鉛電極7,
8ではIa<Icの安定条件が常に成立するため両電
極は酸化消耗することなく極めて安定に使用する
ことが可能となる。 以上の実施例では、サイリスタを介してコンダ
クタロールに分流させたが第5図の様にコンダク
タロールの代わりに別に設けた電解槽を用いても
同様の機能が得られる。 以上本発明の実施態様を述べたが、本発明の特
徴は交番波形を用いる系において電流の一部を点
弧角制御によつてアノード補助極あるいはコンダ
クタロールに分流させることにより各黒鉛電極に
おいて安定条件Ia<Icが成立する様制御すること
にある。従つて当然のことながら電解セルの形状
や分割数、電極の配列の順序、電解液の種類によ
つて制約を受けるものではない。 実施例 1 硝酸1%水溶液中で温度35℃でアルミニウム板
の連続粗面化処理を第3図に示す電極配置にて第
2図5に示す非対称交番波形を用いて行なつた。
サイリスタの点弧角を変えることによりβの値を
決め、In=300A、Ir=270Aにて処理速度1m/分
にて20時間連続処理后、黒鉛電極表面を目視観察
し、消耗、崩壊を調らべた。また周波数は30〜90
Hzまで変化させたがこれに関係なく表1の結果が
得られた。
【表】 ○:変化なく消耗がない。
△:わずかに消耗がみられる。
×:消耗崩壊が激しい。
実施例 2 硝酸1%水溶液中で温度35℃でアルミニウム板
の連続粗面化処理を第4図に示す電極配置にて第
2図2に示す対称交番波形電流を用いて行なつ
た。サイリスタの点弧角を変化することにより分
流α、βを決め周波数60Hz、In=Ir=300Aにて
処理速度1m/分にて40時間連続処理后、黒鉛電
極表面を目視観察した。
【表】 ○:変化がなく消耗がない。
△:わずかに消耗がみられる。
本発明によれば、上述の如く電極の消耗を極め
て低くおさえることが出来るので、効率の良い連
続電解処理が可能となり工程が安定する上、保守
点検作業の省略、コストダウン等副次的な効果が
期待できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の連続電解処理装置の一例を示す
模式的説明図であり、第2図は電流波形を示す図
である。第3図、第4図、及び第5図は本発明方
法を利用した連続電解処理装置の数例を示す模式
的説明図である。 1…金属ウエブ、4…電解セル、7,8…黒鉛
電極、14…電源、16,19…コンダクタロー
ル、17,20…サイリスタ、27…補助アノー
ド電極としての不溶性アノード電極、28…電解
液。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 黒鉛電極を使用しかつ公番波形電流を出力す
    る電源を使用して金属ウエブを液体給電により連
    続電解処理する場合の給電方法において、前記交
    番波形電流の半周期の電流の一部を点弧角制御に
    より該金属ウエブに分流し、前記黒鉛電極の表面
    でアノード反応にあずかる電流値よりもカソード
    反応にあずかる電流値が大きくなる様にしたこと
    を特徴とする給電方法。 2 前記分流は前記金属ウエブと接触するコンダ
    クタロールを介して行なうことを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載の給電方法。 3 前記分流は、別に設けたアノード電極を介し
    て行なうことを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載の給電方法。
JP15050983A 1983-08-18 1983-08-18 給電方法 Granted JPS6043500A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15050983A JPS6043500A (ja) 1983-08-18 1983-08-18 給電方法

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JP15050983A JPS6043500A (ja) 1983-08-18 1983-08-18 給電方法

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JPS6043500A JPS6043500A (ja) 1985-03-08
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JP15050983A Granted JPS6043500A (ja) 1983-08-18 1983-08-18 給電方法

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JP2693621B2 (ja) * 1990-04-24 1997-12-24 隆二 高瀬 地下室の構築法
US6780305B2 (en) 2001-02-20 2004-08-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for producing support for planographic printing plate, support for planographic printing plate, and planographic printing plate precursor

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JPS6043500A (ja) 1985-03-08

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