JPH0540928A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH0540928A JPH0540928A JP19466591A JP19466591A JPH0540928A JP H0540928 A JPH0540928 A JP H0540928A JP 19466591 A JP19466591 A JP 19466591A JP 19466591 A JP19466591 A JP 19466591A JP H0540928 A JPH0540928 A JP H0540928A
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- Japan
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- magnetic
- magnetic film
- recording medium
- magnetic recording
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Abstract
(57)【要約】
【目的】磁性膜を無電解めっき法により付与する磁気記
録媒体の信号対雑音比特性の向上。 【構成】アルミニウム基板１上に下地層としてＮｉ−Ｐ
合金層２を形成し、その上部にＡｕ，ＣｕあるいはＡ
ｕ，Ｃｕを含む合金の微小折出核、例えば、Ｃｕ微小析
出核７を形成する。さらに、その上部に無電解めっき法
により磁性膜を形成する。 【効果】上記により、Ｎｉ−Ｐ合金層上に直接磁性膜を
形成する場合に比べ、微小析出核を形成してから磁性膜
を形成する場合には、媒体のＳＮＲ特性を大幅に向上で
き、高記録密度が可能な磁気記録媒体を提供できる。
録媒体の信号対雑音比特性の向上。 【構成】アルミニウム基板１上に下地層としてＮｉ−Ｐ
合金層２を形成し、その上部にＡｕ，ＣｕあるいはＡ
ｕ，Ｃｕを含む合金の微小折出核、例えば、Ｃｕ微小析
出核７を形成する。さらに、その上部に無電解めっき法
により磁性膜を形成する。 【効果】上記により、Ｎｉ−Ｐ合金層上に直接磁性膜を
形成する場合に比べ、微小析出核を形成してから磁性膜
を形成する場合には、媒体のＳＮＲ特性を大幅に向上で
き、高記録密度が可能な磁気記録媒体を提供できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体に関し、
特に基板上に磁性膜を形成する媒体処理技術に関する。
特に基板上に磁性膜を形成する媒体処理技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近の磁気ディスク媒体では、高記録密
度化達成のために、めっき法、スパッタ法、蒸着法等に
よって形成された磁性薄膜を磁気記録層とする薄膜磁気
ディスクが主流となりつつある。こうした薄膜媒体の磁
気特性は、残留磁束密度Ｂｒが８，０００〜１０，００
０〔ガウス〕もあり、保磁力Ｈｃも製造条件により８０
０〜１，２００〔０ｅ〕の高保磁力を容易に得ることが
出来、小型磁気ディスクを中心に実用化が進められてい
る。
度化達成のために、めっき法、スパッタ法、蒸着法等に
よって形成された磁性薄膜を磁気記録層とする薄膜磁気
ディスクが主流となりつつある。こうした薄膜媒体の磁
気特性は、残留磁束密度Ｂｒが８，０００〜１０，００
０〔ガウス〕もあり、保磁力Ｈｃも製造条件により８０
０〜１，２００〔０ｅ〕の高保磁力を容易に得ることが
出来、小型磁気ディスクを中心に実用化が進められてい
る。
【０００３】特に磁性膜をめっき法により形成した薄膜
媒体（以後、めっき媒体と呼ぶ）は、その優れた量産性
により早期から実用化されてきたが、より一層の記録密
度特性の向上のため、信号対雑音比（ＳＮＲ）の向上が
強く求められている。
媒体（以後、めっき媒体と呼ぶ）は、その優れた量産性
により早期から実用化されてきたが、より一層の記録密
度特性の向上のため、信号対雑音比（ＳＮＲ）の向上が
強く求められている。
【０００４】めっき媒体のＳＮＲ改善については、めっ
き条件の検討の他に磁性膜の下地層の研究が進められて
いる。
き条件の検討の他に磁性膜の下地層の研究が進められて
いる。
【０００５】ここで、従来の技術について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【０００６】図２は従来例のめっき媒体の断面模式図、
図２（ａ）は従来例の下地層にＮｉ−Ｐ層を用いためっ
き媒体の断面模式図、図２（ｂ）は下地層にＮｉ−Ｐ層
とＡｕ層を用いて多層化しためっき媒体の断面模式図で
ある。
図２（ａ）は従来例の下地層にＮｉ−Ｐ層を用いためっ
き媒体の断面模式図、図２（ｂ）は下地層にＮｉ−Ｐ層
とＡｕ層を用いて多層化しためっき媒体の断面模式図で
ある。
【０００７】図２（ａ）において、磁性膜３の下地層に
Ｎｉ−Ｐ合金層２が一般的に用いられている。この下地
層にＮｉ−Ｐ合金層２を用いると、その上部に形成する
磁性膜３は、高保磁力を示し、高記録密度記録に適する
特性を示す。しかし、ＳＮＲ特性値は、その他の材料を
用いた場合に比べ、必ずしも高い値ではない。
Ｎｉ−Ｐ合金層２が一般的に用いられている。この下地
層にＮｉ−Ｐ合金層２を用いると、その上部に形成する
磁性膜３は、高保磁力を示し、高記録密度記録に適する
特性を示す。しかし、ＳＮＲ特性値は、その他の材料を
用いた場合に比べ、必ずしも高い値ではない。
【０００８】Ｎｉ−Ｐ合金層２にかわりＡｕ，Ｃｕ層を
用いることにより、ＳＮＲ特性が向上する報告がある
が、その上部に形成される磁性膜の保磁力は、著しく低
下し、高記録密度を達成できない。
用いることにより、ＳＮＲ特性が向上する報告がある
が、その上部に形成される磁性膜の保磁力は、著しく低
下し、高記録密度を達成できない。
【０００９】この点を補うため、下地層に、Ｎｉ−Ｐ層
とＡｕ層を用いて多層化する試みがなされている（特公
昭６２−７６０５）。その断面模式図を図２（ｂ）に示
す。
とＡｕ層を用いて多層化する試みがなされている（特公
昭６２−７６０５）。その断面模式図を図２（ｂ）に示
す。
【００１０】下地層のＮｉ−Ｐ合金層２の中間にＡｕ層
６を形成してその上部に形成する磁性膜３の高ＳＮＲ化
と高保磁力化を図っている。しかし、この方法では、下
地層にＮｉ−Ｐ合金層を用いた場合とＡｕ層を用いた場
合の中間値をとるため、十分な特性値が得られていな
い。
６を形成してその上部に形成する磁性膜３の高ＳＮＲ化
と高保磁力化を図っている。しかし、この方法では、下
地層にＮｉ−Ｐ合金層を用いた場合とＡｕ層を用いた場
合の中間値をとるため、十分な特性値が得られていな
い。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】上述したように従来の
磁気記録媒体では、めっき媒体の磁性膜下地層に、Ｎｉ
−Ｐ合金層、Ａｕ層、Ｃｕ層、Ａｕ層をはさんだＮｉ−
Ｐ合金層のいずれの場合でも、その上部の磁性膜の高保
磁力化と高ＳＮＲ化の両方を達成することができないと
いう欠点がある。
磁気記録媒体では、めっき媒体の磁性膜下地層に、Ｎｉ
−Ｐ合金層、Ａｕ層、Ｃｕ層、Ａｕ層をはさんだＮｉ−
Ｐ合金層のいずれの場合でも、その上部の磁性膜の高保
磁力化と高ＳＮＲ化の両方を達成することができないと
いう欠点がある。
【００１２】本発明の目的は、磁気ディスク基板上に貴
金属類を含むＮｉ合金被膜を、めっき法、スパッタ法あ
るいは蒸着法により形成し、その上部に磁性膜として無
電解Ｃｏ合金膜を形成することにより、上記の欠点を解
消し、局部的なムラがなくなり、均一な磁性膜を形成す
ることができ、高記録密度が可能な磁気記録媒体を提供
することにある。
金属類を含むＮｉ合金被膜を、めっき法、スパッタ法あ
るいは蒸着法により形成し、その上部に磁性膜として無
電解Ｃｏ合金膜を形成することにより、上記の欠点を解
消し、局部的なムラがなくなり、均一な磁性膜を形成す
ることができ、高記録密度が可能な磁気記録媒体を提供
することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】第一の発明の磁気記録媒
体は、基板上にＮｉ−Ｐ合金からなる下地層を形成し、
この下地層にＡｕ，ＣｕあるいはＡｕ，Ｃｕを含む合金
の微小析出核を形成し、この微小析出核の上部に無電解
めっき法により磁性膜を形成している。
体は、基板上にＮｉ−Ｐ合金からなる下地層を形成し、
この下地層にＡｕ，ＣｕあるいはＡｕ，Ｃｕを含む合金
の微小析出核を形成し、この微小析出核の上部に無電解
めっき法により磁性膜を形成している。
【００１４】第二の発明の磁気記録媒体は、上記第一の
発明の磁気記録媒体において、微小析出核を、無電解め
っき法、置換めっき法、電気めっき法、蒸着法、スパッ
タ法で形成している。
発明の磁気記録媒体において、微小析出核を、無電解め
っき法、置換めっき法、電気めっき法、蒸着法、スパッ
タ法で形成している。
【００１５】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【００１６】図１は本発明の一実施例のめっき媒体の断
面模式図である。
面模式図である。
【００１７】図１において、アルミニウム基板１上にＮ
ｉ−Ｐ合金層２を無電解めっき法により約１５μｍの膜
厚で形成する。この表面を研磨仕上げした後、中性剤に
て洗浄し、水洗いして乾燥する。この後、表１に示すＣ
ｕめっき浴に浸漬してＣｕ微小析出核３を形成する。
ｉ−Ｐ合金層２を無電解めっき法により約１５μｍの膜
厚で形成する。この表面を研磨仕上げした後、中性剤に
て洗浄し、水洗いして乾燥する。この後、表１に示すＣ
ｕめっき浴に浸漬してＣｕ微小析出核３を形成する。
【００１８】
【表１】
【００１９】Ｃｕ微小析出核７は、核の大きさ１００〜
２００オングストローム、密度２〜７個／μｍ2 とな
る。
２００オングストローム、密度２〜７個／μｍ2 とな
る。
【００２０】この上部に表２に示すＣｏ−Ｐめっき浴に
よりＣｏ−Ｐの磁性層３を約５００オングストロームの
膜厚で形成する。
よりＣｏ−Ｐの磁性層３を約５００オングストロームの
膜厚で形成する。
【００２１】
【表２】
【００２２】次に、この上部に、珪酸低重合体のイソプ
ロピルアルコールで分散させた溶液を塗布し、２５０°
Ｃ、５時間焼成して膜厚５００オングストロームの保護
膜層４を形成する。さらに、この上部に液体潤滑剤（パ
ーフロロアルキルポリエーテル）を塗布して潤滑薄膜５
を形成する。
ロピルアルコールで分散させた溶液を塗布し、２５０°
Ｃ、５時間焼成して膜厚５００オングストロームの保護
膜層４を形成する。さらに、この上部に液体潤滑剤（パ
ーフロロアルキルポリエーテル）を塗布して潤滑薄膜５
を形成する。
【００２３】こうして得られためっき媒体の保磁力及び
電磁変換特性値を表３に示す。
電磁変換特性値を表３に示す。
【００２４】また、比較のため、図１の磁性層３に示す
Ｃｕ微小析出核７を形成させない場合の特性値も併せて
示す。
Ｃｕ微小析出核７を形成させない場合の特性値も併せて
示す。
【００２５】
【表３】
【００２６】このように、Ｎｉ−Ｐ合金層に微小析出核
を形成してから磁性膜を形成することにより、磁性膜の
ＳＮＲ特性が向上し、また、従来例のように析出層とし
て形成した場合のような保磁力の大幅な低下は見られな
い。
を形成してから磁性膜を形成することにより、磁性膜の
ＳＮＲ特性が向上し、また、従来例のように析出層とし
て形成した場合のような保磁力の大幅な低下は見られな
い。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気記録
媒体は、Ｎｉ−Ｐ合金層からなる下地層に、Ａｕ，Ｃｕ
あるいはＡｕ，Ｃｕを含む微小析出核を形成してからそ
の上部に無電解めっき法により磁性膜を形成することに
より、磁性膜のＳＮＲ特性を向上させることができる。
また、析出層として形成した場合のような保磁力を大幅
な低下は見られず、高密度記録に適した磁気記録媒体を
提供できるという効果がある。
媒体は、Ｎｉ−Ｐ合金層からなる下地層に、Ａｕ，Ｃｕ
あるいはＡｕ，Ｃｕを含む微小析出核を形成してからそ
の上部に無電解めっき法により磁性膜を形成することに
より、磁性膜のＳＮＲ特性を向上させることができる。
また、析出層として形成した場合のような保磁力を大幅
な低下は見られず、高密度記録に適した磁気記録媒体を
提供できるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例のめっき媒体の断面模式図で
ある。
ある。
【図２】従来例のめっき媒体の断面模式図である。図２
（ａ）は従来例の下地層にＮｉ−Ｐ層を用いためっき媒
体の断面模式図である。図２（ｂ）は下地層にＮｉ−Ｐ
層とＡｕ層を用いて多層化しためっき媒体の断面模式図
である。
（ａ）は従来例の下地層にＮｉ−Ｐ層を用いためっき媒
体の断面模式図である。図２（ｂ）は下地層にＮｉ−Ｐ
層とＡｕ層を用いて多層化しためっき媒体の断面模式図
である。
１ アルミニウム基板 ２ Ｎｉ−Ｐ合金層 ３ 磁性膜層 ４ 保護膜層 ５ 潤滑膜層 ６ Ａｕ層 ７ Ｃｕ微小析出核
Claims (2)
- 【請求項１】 基板上にＮｉ−Ｐ合金からなる下地層を
形成し、前記下地層にＡｕ，ＣｕあるいはＡｕ，Ｃｕを
含む合金の微小析出核を形成し、前記微小析出核の上部
に無電解めっき法により磁性膜を形成することを特徴と
する磁気記録媒体。 - 【請求項２】 請求項１記載の磁気記録媒体において、
前記微小析出核を、無電解めっき法、置換めっき法、電
気めっき法、蒸着法、スパッタ法で形成することを特徴
とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19466591A JPH0540928A (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19466591A JPH0540928A (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0540928A true JPH0540928A (ja) | 1993-02-19 |
Family
ID=16328277
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19466591A Pending JPH0540928A (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0540928A (ja) |
-
1991
- 1991-08-05 JP JP19466591A patent/JPH0540928A/ja active Pending
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