JPH05343458A - 樹脂封止型半導体装置の製造方法 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置の製造方法

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JPH05343458A
JPH05343458A JP4245246A JP24524692A JPH05343458A JP H05343458 A JPH05343458 A JP H05343458A JP 4245246 A JP4245246 A JP 4245246A JP 24524692 A JP24524692 A JP 24524692A JP H05343458 A JPH05343458 A JP H05343458A
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resin
mold
frame
semiconductor chip
metal mold
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JP4245246A
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English (en)
Inventor
Hideo Ota
英男 太田
Michiya Azuma
道也 東
Min Tai Kao
カオ・ミン・タイ
Akira Yoshizumi
章 善積
Tomoaki Takubo
知章 田窪
Yasuhiro Yamaji
泰弘 山地
Shinetsu Fujieda
新悦 藤枝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 ばり発生が少なく信頼性の高い樹脂封止型半
導体装置の提供。 【構成】 本発明では、外部リード3構成体に接続され
た半導体チップ5上に未硬化樹脂からなる封止用樹脂シ
ート1,2を配置するとともに、前記封止用樹脂シート
の外周部を囲繞する内周部を有する枠状金型8と前記枠
状金型と嵌合するプレス金型9とから構成され、前記枠
状金型の内周部またはプレス金型の外周部のいずれかに
溝を配設してなる金型装置を用意する工程と、前記枠状
金型を前記外部リード構成体の外部リード部に当接せし
める工程と、前記枠状金型と嵌合する前記プレス金型で
前記未硬化樹脂からなる封止用樹脂シートを前記半導体
チップに加圧しながら硬化せしめる工程とを含む樹脂封
止型半導体装置の製造方法において前記枠状金型内の内
周部およびプレス金型9の外周部の少なくとも一方にエ
アベント溝Tが設けられていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、樹脂封止型半導体装置
の製造方法に係り、特に封止用樹脂シートを用いた樹脂
封止型半導体装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、樹脂封止型半導体装置はトランス
ファ成型法によって封止されていた。この方法は、エポ
キシ樹脂および充填剤などを主体としたエポキシ成型材
料等の未硬化樹脂を、加熱して溶融させ、トランスファ
―成型機を用いて金型に注入し、高温高圧状態で成型し
て、硬化することにより、例えばリードフレームに搭載
された半導体チップを封止する方法である。この方法で
製造される樹脂封止型半導体装置は、半導体チップをエ
ポキシ樹脂組成物が完全に覆うため信頼性に優れてお
り、また金型で緻密に成形するためパッケ―ジの外観も
良好であることから、現在ではほとんどの樹脂封止型半
導体装置はこの方法で製造されている。
【0003】しかしながら、近年半導体装置の高集積化
に伴う半導体チップの大型化によって、樹脂封止型半導
体装置のパッケ―ジの大型化が進む一方、実装スペース
の微細化に伴い薄型化、多ピン化の傾向を強めており、
この傾向は今後益々強くなっていくと考えられる。ま
た、パッケ―ジの種類も今後益々多様化し、従来のトラ
ンスファ成型法では十分な対応ができなくなることが予
想される。このような状況の中で、多品種少量生産がで
きるフレキシブルな生産様式の開発が望まれている。
さらに、製造工程のインライン化の問題がある。すなわ
ち半導体装置の製造工程では全自動化が進んでおり、一
本のラインで自動化して無人化されているものもある。
しかし従来のトランスファ成型では半導体デバイスの封
止工程のインライン化は困難であり、ラインをはずし、
バッチ処理で製造が行われており、封止工程をインライ
ン化することが可能な新たな生産様式が求められてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
のトランスファ成型法によれば、今後のパッケ−ジの大
型化、薄型化などへの対応が容易ではなく、また封止工
程のインライン化は極めて困難であった。さらに、トラ
ンスファ成型法においては、成型時のボイドの発生を防
止するため、上下金型の外部リ−ド部と接する部分にエ
アベンド溝を設けていたが、この場合、成型時に、エア
ベント溝に侵入する樹脂バリを成形後に外部リード部よ
りはがす工程が必要となり、工程が増大するという問題
があった。しかもこのとき、外部リード構成体における
外部リ−ド部形成領域の一部をエアベント溝形成領域と
して残し、エアベント溝に外部リード部が接触しないよ
うにスペースを設けなければならず、多ピン化に対応さ
せようとする場合に外部リ−ド部形成領域を有効に利用
することができないという問題もあった。
【0005】このような観点から、プリプレグと指称さ
れるガラス繊維に樹脂を含浸させた封止用樹脂シートを
用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法が提案されてい
る(特開平2−257662号)。図10(a) および
(b) はこの製造方法における半導体チップの封止工程を
示す断面図である。図示されるようにこの方法は例え
ば、フィルムキャリアのリード3にバンプ4を介して接
続された半導体チップ5を封止用樹脂シート1,2で挟
み、凹部を有する金型6を用いて加圧しながら加熱し成
形するもので、この方法によれば従来のトランスファ成
型法に比べてパッケージの大型化、薄型化に対応でき、
樹脂封止型半導体装置の多品種少量生産に適している。
しかしながら、図10(b) に示すように成型時にフィル
ムキャリアと金型6との間に間隙があるため、バリbが
発生しやすいという問題があった。本発明は、前記実情
に鑑みてなされたもので、封止用樹脂シートを用いた樹
脂封止に際し、バリの発生を低減することができ、多ピ
ン化対応可能でかつ信頼性の高い超薄型の樹脂封止型半
導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】外部リード構成体に接続
された半導体チップ上に未硬化樹脂からなる封止用樹脂
シートを配置するとともに、前記封止用樹脂シートの外
周部を囲繞する内周部を有する枠状金型と前記枠状金型
と嵌合するプレス金型とから構成され、前記枠状金型の
内周部またはプレス金型の外周部のいずれかに溝を配設
してなる金型装置を用意する工程と、前記枠状金型を前
記外部リード構成体の外部リード部に当接せしめる工程
と、前記枠状金型と嵌合する前記プレス金型で前記未硬
化樹脂からなる封止用樹脂シートを前記半導体チップに
加圧しながら硬化せしめる工程とを含む樹脂封止型半導
体装置の製造方法において前記枠状金型内の内周部およ
びプレス金型の外周部の少なくとも一方にエアベント溝
が設けられていることを特徴とする。
【0007】このように、本発明の製造方法では、半導
体チップの少なくとも片面側に、未硬化樹脂からなる封
止用樹脂シ―トを配置し、フィルムキャリアなどの外部
リード構成体の樹脂封止部を枠取りしつつ、前記枠状金
型の内周部およびプレス金型の外周部の少なくとも一方
に形成されたエアベント溝を介して空気を排出しながら
前記封止用樹脂シートを外側から加圧して前記未硬化樹
脂を硬化せしめ、前記封止用樹脂シートおよび前記半導
体チップを一体的に成型するようにしている。
【0008】なお、エアベント溝は、前記外部リード構
成体の外部リード部形成面と略垂直な方向に形成されて
おればよく、枠状金型の内周部およびプレス金型の外周
部のいずれに形成してもよいが、プレス金型の外周部に
形成する方が、後のバリ除去のためのクリーニングが容
易であり、好ましい。
【0009】また、外部リード構成体と半導体チップと
の接続は、ワイヤ―ボンディングによって、TAB(Ta
pe Automated Bonding )またはフリップチップなどの
ワイヤレスボンディングによってもよいが、TAB等の
ワイヤレスボンディングがパッケージの薄型化に有利で
表面実装用の樹脂封止型半導体装置の製造に適しており
より好ましい。
【0010】本発明においては、外部リード構成体およ
び半導体チップの種類については、特に制限されない。
なお本発明において外部リード構成体とは、リードフレ
ーム、フィルムキャリア、外部ピンを有する回路基板等
を含むものとし、また封止用樹脂シ―トを構成する未硬
化樹脂の材質については、熱硬化性樹脂、光硬化性樹
脂、エンジニアリングプラスチックスなどが挙げられる
が、一体成型時の樹脂粘度が低いほど緻密な封止を行う
ことができるので未硬化の熱硬化性樹脂の適用が好まし
い。このような未硬化樹脂を硬化させる具体的な方法と
しては、熱硬化性樹脂の場合、一体成型時に使用される
金型を加熱する方法、誘導加熱により未硬化樹脂のみを
選択的に加熱する方法などが挙げられる。また、光硬化
性樹脂の場合は、金型をガラス等の透光性部材で構成
し、金型を介して光を照射する方法などを採用し得る。
【0011】本発明で使用され得る熱硬化性樹脂として
は、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、マレイミド樹脂、
シリコ―ン樹脂、フェノ―ル樹脂、ポリウレタン樹脂、
アクリル樹脂などが挙げられる。これらの樹脂は単独で
用いても、組み合わせてもよく、またこれらの樹脂の中
に硬化剤、触媒、可塑剤、着色剤、難燃化剤、充填剤、
その他各種添加剤を含有したものでもよい。
【0012】また、本発明では上記未硬化樹脂を各種の
織布で強化することが望ましい。織布の材質としては無
機系ではガラス、石英、炭素繊維、炭化ケイ素、窒化ケ
イ素、窒化アルミニウム、アルミナ、ジルコニア、チタ
ン酸カリウム繊維などがあり、有機系ではナイロン系、
アクリル系、ビニロン系、ポリ塩化ビニル系、ポリエス
テル系、アラミド系、フェノ―ル系、レ―ヨン系、アセ
テ―ト系、綿、麻、絹、羊毛などがある。これらを単独
で用いても、組み合わせて用いてもよい。
【0013】さらに、本発明では上述したような未硬化
樹脂に金属材好ましくは厚さ1000μm 以下の金属箔
が積層されてなる封止用樹脂シートを用いることもでき
る。この場合、封止用樹脂シートの未硬化樹脂側と半導
体チップの能動面側とが対向するように封止用樹脂シー
トが配置される。さらにこのとき未硬化樹脂、金属材お
よび絶縁樹脂層が積層された封止用樹脂シートを用いる
のが望ましい。また半導体チップの能動面側にのみ封止
用樹脂シートを用い裏面側には金属材のみを用いること
も可能である。このときの金属材の形状は特に限定され
ず、金属箔、金属板、金属ブロック等の中から、パッケ
ージの種類に応じて適宜選択される。
【0014】前記金属材の材質としては、熱伝導性の高
い金属が好ましく、使用が好ましい金属の一例として
は、例えば、鉄、銅、アルミニウム、ニッケル、クロ
ム、亜鉛、スズ、銀、金、鉛、マグネシウム、チタン、
ジルコニア、タングステン、モリブデン、コバルト、ス
テンレス、42ニッケル−鉄合金、真鍮、ジュラルミン
やこれらの合金などが挙げられる。ただしパッケージの
薄型化を指向する場合は、特に薄型に加工でき、かつ軽
量の材料を用いることが望ましい。
【0015】本発明において用いられる封止用樹脂シ―
トは、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤、触媒、充填剤、
その他の材料を粉砕、混合、溶融してロ―ルにかけるこ
とにより、容易に作製することができる。また、ガラス
繊維等の織布で強化したプリプレグを使用する場合は、
樹脂、硬化剤、触媒、充填剤、その他の材料をアセトン
などの溶剤に溶解して適当な濃度の溶液を調製し、この
溶液を織布に塗布するか、溶液中に織布を含浸させ、放
置する、加熱する、又は減圧下におくなどの方法によ
り、溶剤を揮発させればよい。
【0016】また本発明の樹脂封止型半導体装置の製造
方法では、このような封止用樹脂シートを1枚使用し半
導体チップを片側から封止する場合と、2枚の封止用樹
脂シートで半導体チップを両側から封止する場合とがあ
る。これらは外部リード構成体と半導体チップとの接続
の形態などに応じて適宜選択される。例えば半導体チッ
プをリードフレームにワイヤボンディングした形態で
は、これらが2枚の封止用樹脂シートで両側から封止さ
れる。また、半導体チップをフィルムキャリアのリード
と接続した形態では、半導体チップの能動面側のみに封
止用樹脂シートを配置するかこれらが2枚の封止用樹脂
シートの間に挟持された状態で封止が行われる。さらに
半導体チップが回路基板上に実装された形態では、1枚
の封止用樹脂シートで半導体チップが片側から封止され
る。
【0017】本発明では、回路基板上に実装された半導
体チップを片側から封止する場合、外部リード構成体で
ある回路基板上に枠状金型を固定した後、この枠状金型
と嵌合する1枚のプレス金型により半導体チップ上に配
置された封止用樹脂シートを加圧する。また、外部リ−
ド構成体に接続された半導体チップを2枚の封止用樹脂
シ−トで両側から封止する場合、外部リード構成体の上
下で用いられる金型の一方のみを、上述したような枠状
金型およびプレス金型としてもよいが、好ましくは外部
リード構成体の上下両側でこのような枠状金型およびプ
レス金型を用いる。
【0018】さらに本発明では、外部リード構成体の枠
状金型当接部にバリ防止用のダムを設けることが望まし
い。このようなダムの材質としては枠状金型が当接、加
圧された際に変形して、外部リード構成体表面の凹凸等
に起因する外部リード構成体と枠状金型との間の隙間を
埋めることができるものが望まれる。具体的には、スチ
レンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴ
ム、アクリルニトリルブタジエン共重合ゴム、クロロプ
レンゴム、ブチルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴ
ム、多硫化ゴム、水素化ニトリルゴム、フッ化ビニリデ
ンゴム、アクリルゴム、天然ゴム等のゴム、スチレン
系、オレフィン系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリ
アミド系、ポリブタジエン系、塩化ビニル系、フッ素系
等の熱可塑性エラストマー、さらに熱可塑性樹脂や熱硬
化性樹脂等が挙げられる。また、ダムの高さおよび幅は
それぞれ5〜1000μm 、10〜3000μm 程度が
適している。
【0019】また、本発明において、半導体チップおよ
び封止用樹脂シートの一体成型時には、ボイドの発生を
防止するために、金型内を減圧することが望ましい。さ
らに、成型後にパッケージの各種特性を向上するため
に、アフタ―キュアを行うことが望ましい。
【0020】なお、本発明において、半導体チップを搭
載するフィルムキャリアなどの外部リード構成体および
封止用樹脂シートは、リ―ル方式で供給することができ
る。例えば、両者がそれぞれ対応するようにリ―ルで供
給し、合体、封止することにより、半導体装置のアセン
ブリから封止までを連続工程で行うことができる。但し
枠状金型で密着性よく外部リード構成体の樹脂封止部を
枠取りするためには、該封止用樹脂シートはリール方式
ではなくカット方式で供給するのが望ましい。さらに、
プレス金型または枠状金型に設けるエアベント溝の深さ
については、特に限定されないが通常5〜100μm 程
度であり、またエアベンド溝の幅は小さすぎると十分に
エア−を逃がすことができず、大きすぎると圧力がかか
らなくなるので、エア−の排出および加圧が充分に行わ
れる範囲内で適宜設定される。ただし、1つのエアベン
ド溝を通して、幅および深さが必ずしも一定である必要
はない。
【0021】
【作用】本発明によれば、上述したように構成すること
により、半導体チップおよび外部リード構成体の形状等
に応じて密着性よく外部リード構成体の樹脂封止部を枠
取りした状態で、未硬化樹脂が溶融され、ばりの発生率
が大幅に低減される。しかもここでは、未硬化樹脂中の
エアーおよびガスが枠状金型またはプレス金型に設けた
エアベンド溝を通して外部に排出されるため、硬化後の
樹脂封止型半導体装置は、パッケ−ジにおいてボイドが
発生しにくく外観の良好な樹脂封止型半導体装置とな
る。
【0022】また枠状金型の外部リ−ド部と接する部分
ではなく、枠状金型の内周部またはプレス金型の外周部
にエアベンド溝が設けられるので、外部リード構成体の
外部リード部形成領域を占有することなくエアベント溝
を形成でき、多ピン化への対応も容易である。
【0023】さらにまた、成型後、枠状金型を外す際
に、バリはパッケージから外れ、外観の良好な樹脂封止
型半導体装置を得ることができる。なおバリはプレス金
型または枠状金型のエアベント溝に残るが、金型クリ−
ニングの際に除去すれば良い。
【0024】加えて、枠状金型およびプレス金型によっ
て密閉状態に維持された空間内で未硬化樹脂が成型され
るため、外部リード構成体がフィルムキャリア等のフレ
キシブルな材質からなるものである場合には、前記リー
ド構成体を上下から枠状金型で挟み固定することによ
り、成型時のリードの変形やパッケージ内でのチップの
傾き等の発生を抑制することも可能である。
【0025】また前述したように封止用樹脂シートがあ
らかじめ半導体チップおよび外部リード構成体に対して
当接せしめられた状態で封止が行われるため、トランス
ファ成型法に比べ、未硬化樹脂の溶融時の粘度が大きく
ても良好に封止を行うことができる。従って熱あるいは
光の少量の供給により未硬化樹脂を溶融硬化せしめ半導
体チップの封止を行うことが可能である。
【0026】また、このように未硬化樹脂が良好な状態
で溶融硬化せしめられるため、得られるパッケージの機
械的強度が高く、半導体チップに対してパッケージが小
さい場合や、超薄型パッケージの場合にもクラックの発
生もなく良好に前記半導体チップを封止することができ
る。
【0027】また本発明の樹脂封止型半導体装置の製造
方法は、封止工程のインライン化により自動的な製造が
可能となりさらに多品種少量生産にも充分に対応でき
る。
【0028】このように本発明によれば、製造工程の簡
略化が可能となり、しかも長期にわたって良好な信頼性
を有する樹脂封止型半導体装置を製造することができ
る。
【0029】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
つつ詳細に説明する。
【0030】本発明の第1の実施例の樹脂封止型半導体
装置の製造工程図を図1に、これに用いられる半導体封
止装置の概略図を図2に示す。
【0031】この例では、封止用樹脂シートを用いて樹
脂封止を行うに際し、図1に示すように外部リード構成
体に接続された半導体チップ5上に未硬化樹脂からなる
封止用樹脂シート1を配置するとともに、前記封止用樹
脂シート1の外周部を囲繞する内周部を有する枠状金型
8と前記枠状金型8と嵌合し外周部にエアベンド溝Tを
配設したプレス金型9とからなる金型装置を用意し、前
記枠状金型8を前記外部リード構成体の外部リード部に
当接せしめ、前記枠状金型8と嵌合するプレス金型9で
前記未硬化樹脂からなる封止用樹脂シート1を前記半導
体チップ5に加圧しながら硬化せしめるようにしたこと
を特徴とする。
【0032】まず、フェノールノボラックタイプのエポ
キシ樹脂100重量部、硬化剤とししてベンジルジメチ
ルアミン0.5重量部をメチルセロソルブ100重量部
に溶解してワニスを調製する。このようにして得られた
ワニスにガラスクロスを浸漬した後、風乾し、乾燥機中
で、80℃×4時間の加熱乾燥を行い、厚さ400μm
のプリプレグを形成し、これを13×13mmにカットし
て、封止用樹脂シートを作製した。
【0033】一方通常の方法で、ポリイミド樹脂からな
るフィルム7に銅箔を貼着しこれをパターニングするこ
とによりリード3を形成し、外部リ−ド構成体であるフ
ィルムキャリアのテ−プを作製した。 このテ−プ7を
図2に示すような半導体封止装置を用いて、供給リール
100と巻取リール500との間で移動せしめつつ半導
体チップ5の搭載から樹脂封止までをインラインで行っ
た。なおこの装置は、供給リール100と、半導体チッ
プ載置部200と、封止用樹脂シート1,2を供給し貼
着するシート貼着部300と、圧縮成型部400と、巻
取リール500と、アフターキュア部(図示せず)とか
ら構成されている。そしてこの圧縮成型部400は図4
に要部拡大図を示すように上下動可能な枠状金型8a,
8bと、該枠状金型8a,8bと嵌合するように形成さ
れ、外周部にエアベント溝Tを配設してなるプレス金型
9a,9bとから構成されており、用いられる封止用樹
脂シート1、2の厚さ等に応じてプレス金型9a,9b
の位置を調整することができるようになっている。すな
わち例えば封止用樹脂シート1をフィルムキャリア上の
半導体チップ5の能動面側のみに配置する場合には、下
側のプレス金型9bが両側に封止用樹脂シート1,2を
配置する場合に比べて上方に位置し、加圧可能なように
形成されている。
【0034】まずチップ載置部200で位置合わせを行
いつつ10×10×0.35mmの半導体チップ5をフェ
イスダウンでバンプ4を介してフィルムキャリアのリー
ド3と接続する。
【0035】この後シート貼着部300で、図3に要部
拡大図を示すような封止用樹脂シート収納容器14に収
納された封止用樹脂シート1,2をフィルムキャリア上
に搭載された半導体チップ5の両面に貼り付ける。ここ
で15はチップ位置検出器であり、このチップ位置検出
器によってフィルムキャリアにあらかじめ形成された合
わせマーク(図示せず)を読取り、半導体チップ5の位
置を検出するようになっている。
【0036】そしてさらに、圧縮成型部400において
図1(a) 乃至(c) に示すように、170℃に加熱された
金型装置内で1分間、加圧成型する。まず図1(a) に示
すようにプレス金型9および枠状金型8の両方を開いて
間に封止用樹脂シート1,2の貼着された半導体チップ
5を移送し、まず枠状金型8a,8bを閉じてフィルム
キャリアを挟み固定する(図1(b) )。この後、上下の
プレス金型9a,9bの位置を調整しながら封止用樹脂
シート1,2を両面から加圧しつつ硬化成型せしめる。
なおこのような金型装置は金型内を減圧にするための真
空系(図示せず)を具備している。また、ここで成型さ
れたパッケ―ジPの厚さは0.9mmであった。成型され
たパッケ―ジPを金型から外し、巻取リール500を用
いて巻き取った後、アフターキュア部で180℃、4時
間のアフタ―キュアを行う。そして最後に、個々の半導
体装置に分割することによって薄型の樹脂封止型半導体
装置が完成する。
【0037】このような方法によれば加圧成型に際し
て、上下のバランスよく加圧が行われ、フィルムキャリ
アが枠状金型によって良好に固定されているため、リー
ドの変形、パッケージ内での半導体チップの傾き、フィ
ルムキャリア上へのバリの発生などもなく良好に樹脂封
止を行うことができた。しかも、未硬化樹脂中のエアー
およびガスがプレス金型に設けたエアベンド溝を通して
外部に排出されるため、硬化後の樹脂封止型半導体装置
はパッケ−ジにおいてボイドの発生がなく、また成型後
枠状金型を外す際に、バリはパッケ−ジから外れ、外観
の良好な樹脂封止型半導体装置が得られた。
【0038】なおバリは、プレス金型のエアベント溝に
残っていたが成型後の金型クリ−ニング時に容易に除去
することができた。。
【0039】なお前記実施例では、図4(b)に示した
ように深さおよび幅が一定のエアベント溝をプレス金型
の外周部に形成したが、これに限定されることなく、図
4(c) に変形例を示すようにエアベンド溝Tの中間部を
径大にし樹脂溜めCを、形成しても良い。
【0040】なお、樹脂封止装置としては前記実施例で
用いたものに限定されることなく、図5に示すように封
止用樹脂シート1、2の貼着および加圧成型を同一装置
(箇所)で行うようにしてもよい。ここでは封止用樹脂
シート供給機Kが圧縮成型部に近接して設けられてお
り、フィルムキャリアに搭載されて搬送されてきた半導
体チップ5が金型装置401の位置にきたところで、封
止用樹脂シート供給機Kによって封止用樹脂シート1,
2が半導体チップ5の両面に貼着され、続いてその位置
でヒータ402によって加熱されつつ金型装置401で
加圧成型され樹脂封止がなされる。
【0041】さらに図6に示すように、封止用樹脂シー
トをテープT1 ,T2 上に載置して、連続的に供給し、
フィルムキャリアに搭載された半導体チップ5の両面に
貼着部300で封止用樹脂シート1,2を貼着し、圧縮
成型部400で加圧成型するようにしてもよい。このと
き封止用樹脂シート供給後のテープT1 、T2 は巻取リ
ールによって巻き取られる。
【0042】いずれの場合も加圧成型に際し、金型装置
として図4に示したような枠状金型およびプレス金型を
用いることにより、上述したような図2に示した半導体
封止装置を用いた場合と同様に良好な樹脂封止を行うこ
とができる。
【0043】またこの金型装置は、封止用樹脂シートの
厚さが変化した場合や3次元に半導体チップを積層する
場合なども、そのままこの装置を使用することができ、
まさに多品種少量生産に最適である。
【0044】実施例2 次に本発明の第2の実施例として、他の金型装置を用い
た成型方法について説明する。
【0045】まず、クレゾ―ルノボラックタイプのエポ
キシ樹脂(EOCN−195XL:住友化学社製)10
0重量部、硬化剤としてフェノ―ル樹脂54重量部、充
填剤として溶融シリカを350重量部、触媒としてベン
ジルジメチルアミン0.5重量部、その他の添加剤とし
てカ―ボンブラック3重量部、シランカップリング剤3
重量部を粉砕、混合、溶融し、ロールにかけてこれを1
3×13mmにカットして、厚さ400μm の未硬化樹脂
からなる封止用樹脂シートを作製した。
【0046】この封止用樹脂シートを用いてフィルムキ
ャリアに搭載された半導体チップを挾み加圧成型する。
ここでは図7に示すように半導体チップ5の能動面側で
は凹部を有する通常の金型6を用い、半導体チップ5の
裏面側にのみ枠状金型8およびプレス金型9を用いた。
なお、ここでもプレス金型9の外周部にエアベント溝T
が形成されている。そしてさらに枠状金型8にばね10
が取り付けられており、圧力をかけるとこのばね10に
より枠状金型8にのみ圧力がかかり、その後ばね10が
変形すると押し込み板12がプレス金型9に接触し圧力
をかけるようになっている。そしてさらに圧力をかける
と押し込み板12と枠状金型8とが接触する位置までプ
レス金型9が押し込まれる。このような金型装置を用い
た場合にも、金型6および枠状金型8でフィルムキャリ
アを挟み固定しながらプレス金型9により封止用樹脂シ
ート1,2を加圧成型することができるため、リード3
の変形や、半導体チップ5の傾きがなくかつ、フィルム
キャリア上へのバリの発生のない樹脂封止型半導体装置
を得ることが可能となる。本実施例においてこのように
して製造された樹脂封止型半導体装置のパッケージの厚
さは0.8mmであった。
【0047】この金型装置は位置調整が簡単であり、特
に一方の封止用樹脂シートの厚さが一定である場合に有
効である。
【0048】実施例3 次に本発明の第3の実施例として、さらに他の金型装置
を用いた成型方法について説明する。
【0049】まず、クレゾ―ルノボラックタイプのエポ
キシ樹脂(EOCN−195XL:住友化学社製)10
0重量部、硬化剤としてフェノ―ル樹脂54重量部、充
填剤として溶融シリカを350重量部、触媒としてベン
ジルジメチルアミン0.5重量部、その他の添加剤とし
てカ―ボンブラック3重量部、シランカップリング剤3
重量部を粉砕、混合、溶融し、ロールにかけてこれを1
3×13mmにカットして、厚さ400μm の未硬化樹脂
からなる封止用樹脂シートを作製した。
【0050】この封止用樹脂シートを用いてフィルムキ
ャリアに搭載された半導体チップを挾み加圧成型する。
ここでは図8に示すように図7に示した金型装置におけ
るばねをシリコーンゴム11に代えたものを用いてお
り、同様に、圧力をかけるとこのシリコーンゴム11に
より枠状金型8にのみ圧力がかかり、その後シリコーン
ゴム11が変形すると押し込み板12がプレス金型9に
接触し圧力をかけるようになっている。またここでもプ
レス金型9の外周部にエアベント溝Tが形成されてい
る。そして、押し込み板12によってプレス金型9は枠
状金型8の内周面を摺動しながら封止用樹脂シート2に
接触し一定の位置まで押し込まれる。この結果金型6お
よび枠状金型8でフィルムキャリアを挟み固定しながら
プレス金型9で封止用樹脂シートおよびフィルムキャリ
アを加圧成型することができるため、リード3の変形や
パッケージ内での半導体チップ5の傾きがなく、しかも
エアベント溝Tによってエアや余剰の樹脂が排出される
ため、パッケ−ジにおけるボイドの発生がなく、かつ、
フィルムキャリア上へのバリの発生もない樹脂封止型半
導体装置を得ることが可能となる。本実施例において、
このようにして製造された樹脂封止型半導体装置のパッ
ケージの厚さは0.8mmであった。
【0051】実施例4 次に本発明の第4の実施例として、図9に示すようにフ
ィルムキャリアの上部および下部に高さ50μm 、幅8
00μm のシリコーンゴム製のダム13を設けた例につ
いて説明する。
【0052】なおこのダム13は例えばフィルムキャリ
アの作製時にシリコーンゴムをスクリーン印刷法により
塗布することによって形成できる。
【0053】一方、フェノールノボラックタイプのエポ
キシ樹脂100重量部、硬化剤としてジシアンジアミド
6部、充填剤として溶融シリカを240重量部、触媒と
してベンジルジメチルアミン0.5重量部、その他の添
加剤としてカ―ボンブラック3重量部、シランカップリ
ング剤3重量部を粉砕、混合、溶融し、ロールにかけて
これを13×13mmにカットして、厚さ400μm の未
硬化樹脂からなる封止用樹脂シートを作製した。
【0054】この封止用樹脂シートを用いて、前記フィ
ルムキャリアに搭載された半導体チップを挾み加圧成型
する。ここでは図7に示したばね10の弾力性を利用し
た金型装置を用いており、実施例2と同様に、圧力をか
けるとこのばね10によりまず枠状金型8にのみ圧力が
かかり、金型6および枠状金型8がダム13を介してフ
ィルムキャリア7を挟み密着性よく固定する。その後ば
ね10が変形すると、押し込み板12がプレス金型9に
接触し圧力をかけるようになっている。そしてさらに圧
力をかけると最大限押し込み板12と枠状金型8とが接
触する位置までプレス金型9が押し込まれる。この方法
では金型6および枠状金型8でフィルムキャリア7を挟
み固定しながら、プレス金型9により封止用樹脂シート
1,2を加圧成型することができるため、リード3の変
形やパッケージ内での半導体チップ5の傾きがなくかつ
フィルムキャリア上へのバリの発生のない樹脂封止型半
導体装置を得ることが可能となる。しかもこの例では、
フィルムキャリアに弾性部材であるシリコーンゴムから
なるダム13が形成されているため、フィルムキャリア
に金型6および枠状金型8を直接当接せしめたときに多
少の隙間が生じるような場合も、この隙間が前記シリコ
ーンゴムによって埋められ、フィルムキャリアが金型6
および枠状金型8により密着性よく固定される。従って
金型6および枠状金型8の寸法精度を特に厳しく設定し
なくとも、加圧成型時のばりの発生を抑えることが可能
となる。本実施例においてこのようにして製造された樹
脂封止型半導体装置のパッケージの厚さは0.8mmであ
った。
【0055】比較例1 図1に示した金型装置に代えて、図10に示した従来の
金型装置を用いた以外は、実施例1とまったく同様にし
て樹脂封止型半導体装置を製造した。
【0056】このようにして製造された樹脂封止型半導
体装置は、リード方向に平均3mmのバリが生じていた。
またリードの変形およびパッケージ内での半導体チップ
の傾きが認められた。
【0057】比較例2 図7に示した金型装置に代えて、図10に示した従来の
金型装置を用いた以外は、実施例2とまったく同様にし
て樹脂封止型半導体装置を製造した。
【0058】このようにして製造された樹脂封止型半導
体装置は、リード方向に平均5mmのバリが生じていた。
またリードの変形およびパッケージ内での半導体チップ
の傾きが認められた。
【0059】比較例3 図8に示した金型装置に代えて、図10に示した従来の
金型装置を用いた以外は、実施例3とまったく同様にし
て樹脂封止型半導体装置を製造した。
【0060】このようにして製造された樹脂封止型半導
体装置は、リード方向に平均4mmのバリが生じていた。
またリードの変形およびパッケージ内での半導体チップ
の傾きが認められた。
【0061】比較例4 図7に示した金型装置に代えて、図10に示した従来の
金型装置を用いた以外は、実施例4とまったく同様にし
て樹脂封止型半導体装置を製造した。
【0062】このようにして製造された樹脂封止型半導
体装置は、リード方向に平均2mmのバリが生じていた。
またリードの変形およびパッケージ内での半導体チップ
の傾きが認められた。
【0063】なお前述した実施例では、半導体チップの
両面に封止用樹脂シ―トを配置して加圧成型したものに
ついて説明したが、本発明においては半導体チップの裏
面側を銅箔等の金属材としたもの、半導体チップの片側
面のみに封止用樹脂シートを配置して加圧成型したもの
など必要に応じて適宜変更可能である。
【0064】さらにまた、エアベント溝は、枠状金型の
内周部に形成しても良い。
【0065】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、バリの発生が少なく多ピン化対応可能で、かつ極め
て信頼性の高い樹脂封止型半導体装置の製造方法を提供
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明実施例の樹脂封止型半導体装置の製造工
程を示す断面図
【図2】本発明で用いられる半導体封止装置を示す概略
【図3】本発明で用いられる封止用樹脂シート収容容器
を示す断面図
【図4】本発明の実施例で用いられる金型装置を示す断
面図および部分斜視図。
【図5】本発明で用いられる他の半導体封止装置を示す
概略図
【図6】本発明で用いられるさらに他の半導体封止装置
を示す概略図
【図7】本発明の他の実施例で用いられる金型装置を示
す断面図
【図8】本発明のさらに他の実施例で用いられる金型装
置を示す断面図
【図9】本発明の他の実施例で用いられるフィルムキャ
リアを示す断面図
【図10】従来例の封止工程を示す断面図
【符号の説明】
1 封止用樹脂シート 2 封止用樹脂シート 3 リード 4 バンプ 5 半導体チップ 6 金型 7 フィルム 8 枠状金型 9 プレス金型 T エアベント溝 C 樹脂溜め 10 ばね 11 シリコーンゴム 12 押し込み板 13 ダム 100 供給リール 200 半導体チップ搭載部 300 シート貼着部 400 圧縮成型部 500 巻取リール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 善積 章 神奈川県川崎市幸区小向東芝町 1 株式 会社東芝総合研究所内 (72)発明者 田窪 知章 神奈川県川崎市幸区小向東芝町 1 株式 会社東芝総合研究所内 (72)発明者 山地 泰弘 神奈川県川崎市幸区小向東芝町 1 株式 会社東芝総合研究所内 (72)発明者 藤枝 新悦 神奈川県川崎市幸区小向東芝町 1 株式 会社東芝総合研究所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外部リード構成体に接続された半導体チ
    ップ上に未硬化樹脂からなる封止用樹脂シートを配置す
    るとともに、前記封止用樹脂シートの外周部を囲繞する
    内周部を有する枠状金型と前記枠状金型と嵌合するプレ
    ス金型とから構成され、前記枠状金型の内周部またはプ
    レス金型の外周部のいずれかに溝を配設してなる金型装
    置を用意する工程と、前記枠状金型を前記外部リード構
    成体の外部リード部に当接せしめる工程と、前記枠状金
    型と嵌合する前記プレス金型で前記未硬化樹脂からなる
    封止用樹脂シートを前記半導体チップに加圧しながら硬
    化せしめる工程とを含む樹脂封止型半導体装置の製造方
    法において前記枠状金型内の内周部およびプレス金型の
    外周部の少なくとも一方にエアベント溝が設けられてい
    ることを特徴とする樹脂封止型半導体装置の製造方法。
JP4245246A 1992-03-31 1992-09-14 樹脂封止型半導体装置の製造方法 Pending JPH05343458A (ja)

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JP4245246A JPH05343458A (ja) 1992-04-07 1992-09-14 樹脂封止型半導体装置の製造方法
KR1019930005371A KR0124494B1 (ko) 1992-03-31 1993-03-31 플라스틱 패키지 반도체 디바이스와 그 제조방법 및 제조장치

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10125705A (ja) * 1996-10-18 1998-05-15 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法及び半導体装置
US6114013A (en) * 1996-11-28 2000-09-05 Nitto Denko Corporation Sealing label for sealing semiconductor element
US6428300B2 (en) * 1999-03-24 2002-08-06 International Business Machines Corporation Ultra mold for encapsulating very thin packages
US6743389B2 (en) 1999-03-26 2004-06-01 Apic Yamada Corporation Resin molding machine and method of resin molding
US6881611B1 (en) 1996-07-12 2005-04-19 Fujitsu Limited Method and mold for manufacturing semiconductor device, semiconductor device and method for mounting the device
JP2006311523A (ja) * 2005-03-29 2006-11-09 Kyocera Corp 圧電発振子

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6881611B1 (en) 1996-07-12 2005-04-19 Fujitsu Limited Method and mold for manufacturing semiconductor device, semiconductor device and method for mounting the device
JPH10125705A (ja) * 1996-10-18 1998-05-15 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法及び半導体装置
US6114013A (en) * 1996-11-28 2000-09-05 Nitto Denko Corporation Sealing label for sealing semiconductor element
US6428300B2 (en) * 1999-03-24 2002-08-06 International Business Machines Corporation Ultra mold for encapsulating very thin packages
US6743389B2 (en) 1999-03-26 2004-06-01 Apic Yamada Corporation Resin molding machine and method of resin molding
JP2006311523A (ja) * 2005-03-29 2006-11-09 Kyocera Corp 圧電発振子

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