JPH0533534U - 試料保持装置 - Google Patents

試料保持装置

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JPH0533534U
JPH0533534U JP8965891U JP8965891U JPH0533534U JP H0533534 U JPH0533534 U JP H0533534U JP 8965891 U JP8965891 U JP 8965891U JP 8965891 U JP8965891 U JP 8965891U JP H0533534 U JPH0533534 U JP H0533534U
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JP
Japan
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sample
wafer
holder
gas
holding device
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Application number
JP8965891U
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Inventor
雅司 井上
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Nippon Steel Corp
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Sumitomo Metal Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウエハの姿勢が不安定になった場合でも、そ
の表面に疵を生じさせないようにウエハを保持すること
を可能とする。 【構成】 平板状の試料であるウエハWの表面に保持体
2を対向させ、該保持体2の前記ウエハWとの対向面に
開口するガス噴出路21からガスを前記ウエハWに吹き
付け、該ウエハWをその表裏面間に生じる圧力差により
保持する試料保持装置において、保持体2の縁部の試料
W側の端部に、その先端が試料Wの縁部よりも外側に突
出する保護部材である複数のウエハガイド3,3,…を
備えている。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、半導体ウエハ等の板状の試料を、該試料へのガスの吹き付けにより 非接触にて保持する試料保持装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体の製造においては、ウエハを各工程間にて搬送することが必要であり、 その際、その表面に損傷を与えることなくウエハを保持、搬送し得る試料保持装 置が求められている。
【0003】 図1は従来の試料保持装置を示す縦断面図であり、図中2は円板状の保持体で ある。この試料保持装置は、保持体2を、その一面が保持対象となるウエハWの 表面に近接,対向するように位置決めし、保持体2中央部の厚み方向に設けたガ ス噴出路21の噴出口20からN2 ガス,空気等のガスをウエハWの表面に吹き 付け、ウエハWを保持体2に接触することなく保持するものである。
【0004】 このときウエハWと、保持体2との間には、保持体2とウエハWとの間のガス の通流に伴うベルヌーイ効果により、圧力が低い負圧部分が安定的に生じ、ウエ ハWは保持体2に向けて押圧される。一方、ガス噴出口20近傍にはガスがウエ ハWの表面に衝突するときの動圧による反発力が生じ、この反発力とウエハWの 自重との合力がウエハWに働く押圧力と釣り合ったときにウエハWは、保持体2 との間に所定の隙間を維持して保持されるのである。このような試料保持装置お いては、一般的に、保持体2のウエハWへの対向面はウエハWの表面よりも小さ くなっていた。
【0005】
【考案が解決しようとする課題】
しかしながら、前述の如き従来の試料保持装置では、保持体2のウエハWへの 対向面はウエハWの表面よりも小さいため、ウエハWに働く押圧力と、前記反発 力とウエハWの自重との合力との釣り合いがくずれ、ウエハWの姿勢が不安定に なった場合、ウエハWの表面が保持体2の縁部に接触し、ウエハWの表面に疵が 生じる虞があった。
【0006】 本考案は斯かる事情に鑑みなされたものであり、ウエハの姿勢が不安定になっ た場合でも、その表面に疵を生じさせないようにウエハを保持することが可能で ある試料保持装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
第1考案の試料保持装置は、平板状の試料の表面に保持体を対向させ、該保持 体の前記試料との対向面に開口するガス噴出路からガスを前記試料に吹き付け、 該試料をその表裏面間に生じる圧力差により保持する試料保持装置において、前 記保持体の縁部の試料側の端部に、その先端が前記試料の縁部よりも外側に突出 し、前記対向面と同一の面を有する複数の試料保護部材を備えることを特徴とす る。
【0008】 第2考案の試料保持装置は、平板状の試料の表面に保持体を対向させ、該保持 体の前記試料との対向面に開口するガス噴出路からガスを前記試料に吹き付け、 該試料をその表裏面間に生じる圧力差により保持する試料保持装置において、前 記保持体の縁部の試料側の端部に、その先端が前記試料の縁部よりも外側に突出 し、その接続部の試料側の面が前記対向面と交わる複数の試料保護部材を試料側 に傾斜させて備えることを特徴とする。
【0009】 第3考案の試料保持装置は、第1考案又は第2考案の試料保持装置において、 前記保持体の前記試料との対向面の縁部近傍に溝を周設し、前記試料に吹き付け たガスを吸引する吸引孔を前記溝に連通させてあることを特徴とする。
【0010】 第4考案の試料保持装置は、平板状の試料の表面に保持体を対向させ、該保持 体の前記試料との対向面に開口するガス噴出路からガスを前記試料に吹き付け、 該試料をその表裏面間に生じる圧力差により保持する試料保持装置において、前 記保持体の縁部に、前記試料側へ垂設された部材を備えることを特徴とする。
【0011】
【作用】
第1考案の試料保持装置では、保持体の試料との対向面よりもその表面が大き い試料の姿勢が不安定になった場合、試料は保持体側へ接触しようとするが、試 料保護部材が保持体の外側に突出しているため、試料は、その縁部が試料保護部 材に接触するだけでその表面が保持体側に接触しない。
【0012】 第2考案の試料保持装置では、保持体の試料との対向面よりもその表面が大き い試料の姿勢が不安定になった場合、第1考案の試料保持装置と同様に、試料は 、その縁部が試料保護部材に接触するだけでその表面が保持体側に接触しない。 またこれに加えて、試料が安定した保持姿勢で保持体側に吸い寄せられた場合で も、試料保護部材が、試料側に傾斜しているため、その縁部が試料保護部材に接 触するだけでその表面が保持体に接触しない。
【0013】 第3考案の試料保持装置では、保持体の試料との対向面の縁部近傍に溝を周設 し、この溝に外部の吸引装置に連なる吸引孔を連通させて試料に吹き付けたガス を吸引し、全て回収するので、保持体の外に吹き出されたガスによりパーティク ルが飛散し、それによって試料等が汚染されることがない。
【0014】 第4考案の試料保持装置では、その表面が、保持体の試料との対向面よりも小 さい試料を保持する場合、試料の姿勢が不安定になっても、保持体の縁部に備え られた、試料側へ垂設された部材によって試料の外方向への移動が係止されるの で、試料は、その縁部が保持体の前記対向面に接触するだけでその表面が保持体 に接触しない。
【0015】
【実施例】
以下、本考案をその実施例を示す図面に基づき具体的に説明する。図2は本考 案に係る試料保持装置の第1の実施例を示す縦断面図である。
【0016】 図中2は円板状をなす保持体である。保持体2の略中央にはガス噴出路21が 設けられており、ガス噴出路21は試料としてのウエハWが対向すべき面に開口 (20)している。ガス噴出路21には図示しないガス供給源からガスが導入さ れるようになっており、導入されたガスは、ガス噴出路21内を通流し噴出口2 0からウエハWに吹き付けられるようになっている。
【0017】 保持体2の周縁のウエハW側の端部には、ウエハWの外周相当位置より外側に 突出し、先端が垂下したピン状のウエハガイド3,3,…が、保持体2のウエハ 対向面と連続する面上に設けられている。これらのウエハガイド3,3,…は、 ウエハWの姿勢が不安定となった場合のウエハWの表面の保持体2への接触を防 ぐ保護部材と、ウエハWの平行移動を規制する案内部材との両方の機能を兼ね備 えるものである。
【0018】 以上の如く構成された装置においては、ガス噴出路21の噴出口20からN2 ガス,空気等のガスをウエハWの表面に吹き付け、ウエハWを保持体2に接触す ることなく保持する。このときウエハWと保持体2との間には、保持体2とウエ ハWとの間のガスの通流に伴うベルヌーイ効果により、圧力が低い負圧部分が安 定的に生じ、ウエハWは保持体2に向けて押圧される。一方、ガス噴出口20近 傍にはガスがウエハWの表面に衝突するときの動圧による反発力が生じ、この反 発力とウエハWの自重との合力がウエハWに働く押圧力と釣り合ったときにウエ ハWは、保持体2との間に所定の隙間を維持して保持されるのである。
【0019】 また、前述の如くウエハWを保持体2に接触することなく保持する場合、ウエ ハWに働く押圧力と、前記反発力とウエハWの自重との合力との釣り合いがくず れ、ウエハWの姿勢が不安定になると、ウエハWが保持体2側に接触しようとす るが、このような状態となった場合、装置の構造上、ウエハWは、その縁部がウ エハガイド3に接触するのみであり、ウエハW上にデバイスを作成するために重 要であるウエハWの表面は、保持体2側に接触しない。
【0020】 次に、本考案に係る試料保持装置の第2の実施例について説明する。図3は本 考案に係る試料保持装置の第2の実施例を示す縦断面図であり、図3において図 2と一致するものには同番号を付しその説明を省略する。
【0021】 第2の実施例において、前述の如き第1の実施例と異なるのは、ウエハガイド 3,3,…が、ウエハW側に所定角度傾いていることである。
【0022】 このような構成の第2の実施例では、ウエハWの姿勢が不安定になると、ウエ ハWが保持体2側に接触しようとするが、このような状態となった場合、第1の 実施例と同様に、ウエハWは、その縁部がウエハガイド3に接触するのみであり 、ウエハW上にデバイスを作成するために重要であるウエハWの表面は、保持体 2側に接触しない。また、ウエハガイド3,3,…が、ウエハW側に所定角度傾 いているので、ウエハW全体が保持体2側に吸い付けられても、ウエハWの縁部 の複数箇所が全てのウエハガイド3,3,…に接触し、ウエハWの表面は保持体 2側には接触しない状態となるので、ウエハWの表面が保護される。
【0023】 次に、本考案に係る試料保持装置の第3の実施例及び第4の実施例について説 明する。図4は本考案に係る試料保持装置の第3の実施例を示す縦断面図、図5 は本考案に係る試料保持装置の第4の実施例を示す縦断面図であり、図4におい て図2と一致するもの及び図5において図3と一致するものには同番号を付し、 その説明を省略する。
【0024】 第3の実施例におけるウエハガイド3,3,…の構造は第1の実施例と同じで あり、第4の実施例におけるウエハガイド3,3,…の構造は第2の実施例と同 じである。図4及び図5において、保持体2におけるウエハWとの対向面の外周 近傍には環状溝4が周設されており、環状溝4の上側には、吸引装置により噴出 ガスを吸引する吸引孔5が設けられている。吸引孔5は複数個設けてもよく、そ の場合は複数の吸引孔5を上述の位置を中心にして略対称に設けるのが望ましい 。
【0025】 以上の如く構成された第3の実施例の装置及び第4の実施例の装置を使用して 、ガスをガス導入路11及びガス噴出路21を経て噴出口20からウエハWの表 面に吹き付けると、ウエハWは、前述の如き理論によって保持体2との間に所定 の隙間を維持して保持されるが、このとき保持体2とウエハWとの間を流れるガ スが前述の如き位置に開口する吸込孔5に吸入されるので、保持体2の外に吹き 出されたガスによりパーティクルが飛散し、それによって試料等が汚染されるこ とがない。
【0026】 次に、本考案に係る試料保持装置の第5の実施例について説明する。図6は本 考案に係る試料保持装置の第5の実施例を示す縦断面図である。
【0027】 第5の実施例では、保持体2の径はウエハWの径より大きくしてあり、保持体 2周縁の下側にはウエハガイド6,6,…が垂設されている。このような構成の 第5の実施例においては、ウエハWの姿勢が不安定になり、ウエハWが保持体2 側に接触しようとする場合、保持体2の径がウエハWの径より大きいため、ウエ ハWは、その縁部が保持体2に接触するのみであり、ウエハW上にデバイスを作 成するために重要であるウエハWの表面は、保持体2側に接触しない。また、ウ エハガイド6,6,…は、ウエハWの外方向への移動を係止するので、ウエハW の姿勢が不安定になり、ウエハWが外方向へ移動した場合でも、ウエハWの表面 は、保持体2側に接触しない。
【0028】
【考案の効果】
以上の如く第1考案の試料保持装置では、保持体の試料との対向面よりもその 表面が大きい試料の姿勢が不安定になった場合、試料は、保持体の外側に突出し た試料保護部材にその縁部が接触するだけで、その表面が保持体側に接触しない ため、その表面に疵を生じさせないようにウエハを保持することができる。
【0029】 第2考案の試料保持装置では、第1考案の試料保持装置の効果に加えて、試料 が安定した保持姿勢で保持体側に吸い寄せられた場合でも、試料は、試料側に傾 斜した試料保護部材に、その縁部が試料ガイドに接触するだけで、その表面が保 持体に接触しないため、その表面に疵を生じさせないようにウエハを保持するこ とができる。
【0030】 第3考案の試料保持装置では、ガスを吸引する溝及びこれに連通させた吸引孔 を設けているので、保持体の周方向におけるガスの流れ状態を均一化して試料を 保持体に安定して保持することができ、かつガスを全て回収するため外部へパー ティクルが飛散する虞もない。
【0031】 第4考案の試料保持装置では、試料の姿勢が不安定になっても、保持体の縁部 に備えられた、試料側へ垂設された部材によって試料の外方向への移動が係止さ れるので、試料はその縁部が保持体の前記対向面に接触するだけでその表面が保 持体に接触しないため、その表面に疵を生じさせないようにウエハを保持するこ とができる。
【0032】 このように本考案は優れた効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の試料保持装置を示す縦断面図である。
【図2】本考案に係る試料保持装置の第1の実施例を示
す縦断面図である。
【図3】本考案に係る試料保持装置の第2の実施例を示
す縦断面図である。
【図4】本考案に係る試料保持装置の第3の実施例を示
す縦断面図である。
【図5】本考案に係る試料保持装置の第4の実施例を示
す縦断面図である。
【図6】本考案に係る試料保持装置の第5の実施例を示
す縦断面図である。
【符号の説明】
2 保持体 3,6 ウエハガイド 4 環状溝 5 吸引孔 W ウエハ

Claims (4)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平板状の試料の表面に保持体を対向さ
    せ、該保持体の前記試料との対向面に開口するガス噴出
    路からガスを前記試料に吹き付け、該試料をその表裏面
    間に生じる圧力差により保持する試料保持装置におい
    て、 前記保持体の縁部の試料側の端部に、その先端が前記試
    料の縁部よりも外側に突出し、前記対向面と同一の面を
    有する複数の試料保護部材を備えることを特徴とする試
    料保持装置。
  2. 【請求項2】 平板状の試料の表面に保持体を対向さ
    せ、該保持体の前記試料との対向面に開口するガス噴出
    路からガスを前記試料に吹き付け、該試料をその表裏面
    間に生じる圧力差により保持する試料保持装置におい
    て、 前記保持体の縁部の試料側の端部に、その先端が前記試
    料の縁部よりも外側に突出し、その接続部の試料側の面
    が前記対向面と交わる複数の試料保護部材を試料側に傾
    斜させて備えることを特徴とする試料保持装置。
  3. 【請求項3】 前記保持体の前記試料との対向面の縁部
    近傍に溝を周設し、前記試料に吹き付けたガスを吸引す
    る吸引孔を前記溝に連通させてあることを特徴とする請
    求項1又は請求項2記載の試料保持装置。
  4. 【請求項4】 平板状の試料の表面に保持体を対向さ
    せ、該保持体の前記試料との対向面に開口するガス噴出
    路からガスを前記試料に吹き付け、該試料をその表裏面
    間に生じる圧力差により保持する試料保持装置におい
    て、 前記保持体の縁部に、前記試料側へ垂設された部材を備
    えることを特徴とする試料保持装置。
JP8965891U 1991-10-04 1991-10-04 試料保持装置 Pending JPH0533534U (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11502049A (ja) * 1995-01-13 1999-02-16 ザクリイトエ アクトシオネルノエ オブスケストボ ナウクノ−プロイズボドストベナザ フイルマ ″アズ″ プラズマジェットでウェーハを処理する装置
JP2005536878A (ja) * 2002-08-22 2005-12-02 インテグレイテッド ダイナミックス エンジニアリング インコーポレーテッド 基板処理システム
JP4731500B2 (ja) * 2007-01-18 2011-07-27 大日本スクリーン製造株式会社 基板支持装置、表面電位測定装置、膜厚測定装置および基板検査装置
WO2014106870A1 (ja) * 2013-01-04 2014-07-10 リンク・パワー株式会社 小物ワーク用 保持・搬送装置

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