JPH0533338B2 - - Google Patents
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- JPH0533338B2 JPH0533338B2 JP13551784A JP13551784A JPH0533338B2 JP H0533338 B2 JPH0533338 B2 JP H0533338B2 JP 13551784 A JP13551784 A JP 13551784A JP 13551784 A JP13551784 A JP 13551784A JP H0533338 B2 JPH0533338 B2 JP H0533338B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L9/00—Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
- G01L9/0041—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
- G01L9/0072—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in capacitance
- G01L9/0075—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in capacitance using a ceramic diaphragm, e.g. alumina, fused quartz, glass
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、超精密圧力測定に使用される圧力セ
ンサ製造方法に関するものである。
ンサ製造方法に関するものである。
[従来の技術]
圧力センサには、第4図に示すように、そのベ
ース1の表面に、微小間隔に設定した真空間隙
(表面凹部)3を介して薄板状の石英ガラスから
なる受圧板2を貼設するとともに、その真空間隙
3を挟むセンサベース1と受圧板2とに、固定電
極4と可変位電極5とを対設してなる構造のもの
がある。すなわち、この構造に係るものでは、そ
の受圧板2に外圧が作用すると、該受圧板2が内
面の可変位電極5と共に変位して、真空間隙3の
容量あるいは間隔が圧力に応じて変化することを
利用するようにしたものであつて、具体的には、
固定電極4と可変位電極5との間の静電容量の変
化や間隔変化による共振周波数の変化を電気的に
検出して圧力を精密測定できるようにしている。
ース1の表面に、微小間隔に設定した真空間隙
(表面凹部)3を介して薄板状の石英ガラスから
なる受圧板2を貼設するとともに、その真空間隙
3を挟むセンサベース1と受圧板2とに、固定電
極4と可変位電極5とを対設してなる構造のもの
がある。すなわち、この構造に係るものでは、そ
の受圧板2に外圧が作用すると、該受圧板2が内
面の可変位電極5と共に変位して、真空間隙3の
容量あるいは間隔が圧力に応じて変化することを
利用するようにしたものであつて、具体的には、
固定電極4と可変位電極5との間の静電容量の変
化や間隔変化による共振周波数の変化を電気的に
検出して圧力を精密測定できるようにしている。
しかして、従来この種構成、原理にもとづく圧
力センサをつくる場合では、必要な加工を施した
ベース1に別体の受圧板2を接着して貼設するよ
うにするのが通例である。しかし、接着剤を介し
貼着するようにすると、その貼着面Aで不可避に
接着ひずみを生じ、圧力センサの高感度化が阻害
されるという不都合がある。つまり、センサの感
圧時において、受圧板2の感圧面がほぼ完全弾性
体として変形するのに対し、その接着剤の部分は
変形のヒステリシスを描くことになるためであ
る。
力センサをつくる場合では、必要な加工を施した
ベース1に別体の受圧板2を接着して貼設するよ
うにするのが通例である。しかし、接着剤を介し
貼着するようにすると、その貼着面Aで不可避に
接着ひずみを生じ、圧力センサの高感度化が阻害
されるという不都合がある。つまり、センサの感
圧時において、受圧板2の感圧面がほぼ完全弾性
体として変形するのに対し、その接着剤の部分は
変形のヒステリシスを描くことになるためであ
る。
また、他の製造方法として、ベース1に受圧板
2を溶融接合することも行なわれている。しか
し、この方法では千数百度の高温下で受圧板2を
溶融して接合することになるため、その貼着面A
に熱収縮で大きな熱ひずみを生ずることになり、
また加熱時に受圧板2の内面にコーテイングして
ある電極5を蒸発飛散せしめるという不都合も生
じている。
2を溶融接合することも行なわれている。しか
し、この方法では千数百度の高温下で受圧板2を
溶融して接合することになるため、その貼着面A
に熱収縮で大きな熱ひずみを生ずることになり、
また加熱時に受圧板2の内面にコーテイングして
ある電極5を蒸発飛散せしめるという不都合も生
じている。
[発明が解決しようとする問題点]
本発明は、かかる事情に着目してなされたもの
であつて、既述に特定した圧力センサの製造方法
として、上記のような接着ひずみ等のトラブルを
蒙らず非常に高感度の圧力センサをつくり出すこ
とが容易に可能となり、しかもその製造工程やコ
ストにも何ら特別のものを必要としない、従来に
比類無い画期的方法提供しようとするものであ
る。
であつて、既述に特定した圧力センサの製造方法
として、上記のような接着ひずみ等のトラブルを
蒙らず非常に高感度の圧力センサをつくり出すこ
とが容易に可能となり、しかもその製造工程やコ
ストにも何ら特別のものを必要としない、従来に
比類無い画期的方法提供しようとするものであ
る。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、センサベースに石英ガラス製受圧板
を貼着するにさいし、Siのアルコキシドを有機溶
媒に溶解せしめてなる溶液をその貼着面に塗布し
て両者を接着するようにしたことを特徴としてい
る。
を貼着するにさいし、Siのアルコキシドを有機溶
媒に溶解せしめてなる溶液をその貼着面に塗布し
て両者を接着するようにしたことを特徴としてい
る。
[作用]
すなわち、本発明の製造方法によれば、加水分
解、焼成の段階を経て最終的に受圧板と同質の石
英ガラスを生成するところのSiのアルコキシドを
溶質とする溶液を接着剤として用い、該接着剤を
介して受圧板をセンサベースに接着することによ
り、少なくともその接着層を受圧板と均質一体の
ものとして接着するものである。
解、焼成の段階を経て最終的に受圧板と同質の石
英ガラスを生成するところのSiのアルコキシドを
溶質とする溶液を接着剤として用い、該接着剤を
介して受圧板をセンサベースに接着することによ
り、少なくともその接着層を受圧板と均質一体の
ものとして接着するものである。
[実施例]
以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明
する。
する。
まず、第1図に図示するように、表面に所定の
表面凹部3を凹設したセンサベース1と薄板状に
成形した受圧板2とを準備する。ここに、ベース
1はシリコン(Si)または石英ガラス(SiO2)
からなる一方、受圧板2は所定の石英ガラス
(SiO2)からなる。そして、ベース1の表面凹部
3の底部と受圧板2の内面とに、各々前述の固定
電極4と可変電極5とを金属コーテイングして設
けている。
表面凹部3を凹設したセンサベース1と薄板状に
成形した受圧板2とを準備する。ここに、ベース
1はシリコン(Si)または石英ガラス(SiO2)
からなる一方、受圧板2は所定の石英ガラス
(SiO2)からなる。そして、ベース1の表面凹部
3の底部と受圧板2の内面とに、各々前述の固定
電極4と可変電極5とを金属コーテイングして設
けている。
しかして、受圧板2を所定の位置でベース1に
貼着するにさいし、その貼着面Aに当るベース1
側の表面に、以下に詳述するような溶液の薄膜層
(接着剤層)6を塗布する。すなわち、この溶液
はSi(OR)4で表わされるSiのアルコキシドをエタ
ノール等の有機溶媒に溶解せしめてなるもので、
これに必要に応じ加水分解用の水および触媒用の
酸または塩基を加えたものである。今、本発明に
供するその好適な溶液配合例を掲げると、次の通
りである。
貼着するにさいし、その貼着面Aに当るベース1
側の表面に、以下に詳述するような溶液の薄膜層
(接着剤層)6を塗布する。すなわち、この溶液
はSi(OR)4で表わされるSiのアルコキシドをエタ
ノール等の有機溶媒に溶解せしめてなるもので、
これに必要に応じ加水分解用の水および触媒用の
酸または塩基を加えたものである。今、本発明に
供するその好適な溶液配合例を掲げると、次の通
りである。
ケイ酸エチル、Si(OC2H5)4 1mol
水(H2O) 24mol
塩酸(HCL) 0.03mol
エタノール(C2H5OH) 200ml
なお、この混合溶液は例えば80℃で1時間還流
して均一化した後、使用に供する。
して均一化した後、使用に供する。
さて、ベース1の貼着面Aにかかる薄膜層6と
して塗布した溶液は、下記のような反応式で加水
分解される。そこで、第2図に示す如く、受圧板
2と共に溶液を塗布したベース1を真空加熱炉8
に収容して、例えば、120℃程度の温度で乾燥す
ると、前記溶液の薄膜層6は水酸化ケイ素からな
るゲル状の薄膜層7に変化する。
して塗布した溶液は、下記のような反応式で加水
分解される。そこで、第2図に示す如く、受圧板
2と共に溶液を塗布したベース1を真空加熱炉8
に収容して、例えば、120℃程度の温度で乾燥す
ると、前記溶液の薄膜層6は水酸化ケイ素からな
るゲル状の薄膜層7に変化する。
Si(OC2H5)4
―――→
4H2OSi(OH)4+4C2H5OH↑
この状態で、受圧板2をベース1の貼着面Aに
真空中で接合し、第3図に示す如く、さらに適宜
の加圧手段(おもり)9で加圧しつつ、可及的低
い温度、即ち約600℃で焼成する。すると、前記
水酸化ケイ素からなる薄膜層7はさらに下記のよ
うに熱分解し、最終的に受圧板2と同質の石英ガ
ラスの接着層10となつて、受圧板2とベース1
とを一体に結合する。
真空中で接合し、第3図に示す如く、さらに適宜
の加圧手段(おもり)9で加圧しつつ、可及的低
い温度、即ち約600℃で焼成する。すると、前記
水酸化ケイ素からなる薄膜層7はさらに下記のよ
うに熱分解し、最終的に受圧板2と同質の石英ガ
ラスの接着層10となつて、受圧板2とベース1
とを一体に結合する。
Si(OH)4
―――→
焼成SiO2+2H2O↑
以上のような製造方法にしたがえば、第4図に
示す先に述べた構成の圧力センサが容易に得られ
ることになる。そして、特にこの方法で得られる
圧力センサでは、その受圧板2がベース1との貼
着面Aにおいて同質の石英ガラスの接着層10を
介し接合し少なくとも受圧板2と接着層10とが
完全に均質一体化されるため(ベース1が石英ガ
ラスからなるときは三者が均質一体化されるた
め)、従来のような例えば有機系接着剤の如き異
種の接着剤を使用する場合の接着ひずみを蒙ら
ず、またその焼成温度も上記のように従来の溶融
接合に比べて非常に低い温度に抑えられるから熱
ひずみも小さいという構造上の特徴が得られるこ
とになる。このため、この種圧力センサでは接着
ひずみ等による構造上の測定誤差因子が有効に除
去されて、非常に感度の高いものとすることが可
能である。
示す先に述べた構成の圧力センサが容易に得られ
ることになる。そして、特にこの方法で得られる
圧力センサでは、その受圧板2がベース1との貼
着面Aにおいて同質の石英ガラスの接着層10を
介し接合し少なくとも受圧板2と接着層10とが
完全に均質一体化されるため(ベース1が石英ガ
ラスからなるときは三者が均質一体化されるた
め)、従来のような例えば有機系接着剤の如き異
種の接着剤を使用する場合の接着ひずみを蒙ら
ず、またその焼成温度も上記のように従来の溶融
接合に比べて非常に低い温度に抑えられるから熱
ひずみも小さいという構造上の特徴が得られるこ
とになる。このため、この種圧力センサでは接着
ひずみ等による構造上の測定誤差因子が有効に除
去されて、非常に感度の高いものとすることが可
能である。
また、この方法ではその製造工程も従来の接着
方法と別段変わりないものであるし、むしろ溶融
接合に比較すると接合温度が遥かに低くて十分な
ものであるから製造コストも廉価で足る。
方法と別段変わりないものであるし、むしろ溶融
接合に比較すると接合温度が遥かに低くて十分な
ものであるから製造コストも廉価で足る。
以上、本発明の製造方法をその一実施例につい
て説明したが、本発明で使用するSiのアルコキシ
ド(Si(OR)4)溶液は勿論前記実施例の成分配合
例のものに限らず、その加水分解時間や接着層
(SiO2層)10の膜厚等の目的、使用条件に応じ
て調整可能である。本発明者が知見したSiのアル
コキシド(特にケイ酸エチル)に対する有機溶媒
等の好ましい配合割合は、次の如くである。
て説明したが、本発明で使用するSiのアルコキシ
ド(Si(OR)4)溶液は勿論前記実施例の成分配合
例のものに限らず、その加水分解時間や接着層
(SiO2層)10の膜厚等の目的、使用条件に応じ
て調整可能である。本発明者が知見したSiのアル
コキシド(特にケイ酸エチル)に対する有機溶媒
等の好ましい配合割合は、次の如くである。
Si(OC2H5)4 1mol
H2O 2〜30mol
HCL(NH4OH) 0.02〜0.2mol
C2H5OH(CH3OH)膜厚に応じて調整
なお、Siのアルコキシドは大気中の水分を吸着
させて自然に加水分解させることも可能である。
そして、使用条件によつて加水分解速度をあまり
高める必要がないときには、必ずしも反応促進用
の触媒を要しない。すなわち、場合によつては、
有機溶媒にSiのアルコキシドのみを溶解せしめた
溶液を用いることも可能である。
させて自然に加水分解させることも可能である。
そして、使用条件によつて加水分解速度をあまり
高める必要がないときには、必ずしも反応促進用
の触媒を要しない。すなわち、場合によつては、
有機溶媒にSiのアルコキシドのみを溶解せしめた
溶液を用いることも可能である。
なお、上記配合成分からなる溶液では、これを
きわめて薄い膜厚(μmオーダー未満)のものと
して塗布することが可能であつて、それ故センサ
ベース1に対する受圧板2の接合にさいし、その
組立誤差を無視できるものとすることができる有
利性もある。
きわめて薄い膜厚(μmオーダー未満)のものと
して塗布することが可能であつて、それ故センサ
ベース1に対する受圧板2の接合にさいし、その
組立誤差を無視できるものとすることができる有
利性もある。
[発明の効果]
以上述べたように、本発明はSiのアルコキシド
を有機溶媒に溶解せしめてなる溶液をその貼着面
に塗布して石英ガラス製受圧板をセンサベースに
接着するようにしたものであるから、接着層が受
圧板と同質一体化して非常に高感度の圧力検出特
性を与えるひずみのない接合構造を具備せしめる
ことが可能である。また、その製造方法自体も何
ら特別のものを要せず、むしろ溶融接合に比較す
ると低温接合が可能であるから製造コストダウン
を図れる利点をもつ。
を有機溶媒に溶解せしめてなる溶液をその貼着面
に塗布して石英ガラス製受圧板をセンサベースに
接着するようにしたものであるから、接着層が受
圧板と同質一体化して非常に高感度の圧力検出特
性を与えるひずみのない接合構造を具備せしめる
ことが可能である。また、その製造方法自体も何
ら特別のものを要せず、むしろ溶融接合に比較す
ると低温接合が可能であるから製造コストダウン
を図れる利点をもつ。
第1図、第2図および第3図は、本発明の一実
施例を示す圧力センサの製造工程を示す各断面図
である。第4図は、上記工程で得られるところの
圧力センサの構造を示す断面図である。 1…センサベース、2…石英ガラス製受圧板、
3…真空間隙(表面凹部)、4…固定電極、5…
可変位電極、6…薄膜層(溶液)、7…薄膜層
(ゲル)、8…真空加熱炉、9…加圧手段、10…
接着層(SiO2)、A…貼着面。
施例を示す圧力センサの製造工程を示す各断面図
である。第4図は、上記工程で得られるところの
圧力センサの構造を示す断面図である。 1…センサベース、2…石英ガラス製受圧板、
3…真空間隙(表面凹部)、4…固定電極、5…
可変位電極、6…薄膜層(溶液)、7…薄膜層
(ゲル)、8…真空加熱炉、9…加圧手段、10…
接着層(SiO2)、A…貼着面。
Claims (1)
- 1 センサベースに石英ガラス製受圧板を貼着す
るにさいし、Siのアルコキシドを有機溶媒に溶解
せしめてなる溶液をその貼着面に塗布して両者を
接着するようにしたことを特徴とする圧力センサ
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13551784A JPS6114532A (ja) | 1984-06-30 | 1984-06-30 | 圧力センサの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13551784A JPS6114532A (ja) | 1984-06-30 | 1984-06-30 | 圧力センサの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6114532A JPS6114532A (ja) | 1986-01-22 |
JPH0533338B2 true JPH0533338B2 (ja) | 1993-05-19 |
Family
ID=15153612
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13551784A Granted JPS6114532A (ja) | 1984-06-30 | 1984-06-30 | 圧力センサの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6114532A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5260155B2 (ja) * | 2008-06-16 | 2013-08-14 | 株式会社堀場エステック | 静電容量型圧力センサ及びその製造方法 |
CN113432763B (zh) * | 2021-06-17 | 2023-07-21 | 中北大学 | 夹芯式pvdf压力计真空环境压制装置及方法 |
-
1984
- 1984-06-30 JP JP13551784A patent/JPS6114532A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6114532A (ja) | 1986-01-22 |
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