JPH05333268A - 円弧照明装置 - Google Patents
円弧照明装置Info
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- JPH05333268A JPH05333268A JP4142323A JP14232392A JPH05333268A JP H05333268 A JPH05333268 A JP H05333268A JP 4142323 A JP4142323 A JP 4142323A JP 14232392 A JP14232392 A JP 14232392A JP H05333268 A JPH05333268 A JP H05333268A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70791—Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels
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- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
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- H04N5/00—Details of television systems
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 大型液晶基板等の露光に用いられる反射型投
影露光装置に用いられるような円弧照明装置に於いて、
従来、光利用効率が低く、照明むらが生じていた課題を
解決し、小型で優れた光利用効率、均一な照明を得る円
弧照明装置を提供することを目的とする。 【構成】 光源３５と集光光学系２３と回転ミラー２４
と折り返しミラー２７とからなり、光源の光利用効率が
高く、照明むらの少ない、また大型基板の露光に好適な
円弧照明装置を提供することができる。
影露光装置に用いられるような円弧照明装置に於いて、
従来、光利用効率が低く、照明むらが生じていた課題を
解決し、小型で優れた光利用効率、均一な照明を得る円
弧照明装置を提供することを目的とする。 【構成】 光源３５と集光光学系２３と回転ミラー２４
と折り返しミラー２７とからなり、光源の光利用効率が
高く、照明むらの少ない、また大型基板の露光に好適な
円弧照明装置を提供することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は反射型投影露光装置等の
円弧照明装置に関するものであり、特に大画面液晶表示
装置のような大型基板を露光するのに好適な円弧照明装
置を提供するものである。
円弧照明装置に関するものであり、特に大画面液晶表示
装置のような大型基板を露光するのに好適な円弧照明装
置を提供するものである。
【０００２】
【従来の技術】図４は、従来例の１つである１：１反射
型投影露光装置の投影光学系の構成を示したものであ
る。凹面鏡１、凸面鏡２からなり、マスク３に円弧スリ
ット照明光４を照射し、マスク上のパターンを基板５上
に投影し、マスク３と基板５をＢ方向とその逆方向に走
査し露光するものである。この装置に必要な円弧スリッ
ト照明光を作るには円弧状ランプの像を拡大する方法
と、点光源ランプを回転対称型の反射鏡を用いて円弧状
にする方法とがある。特に後者は、遠紫外光を用いると
きにも有効であるが、この種の光学系としては球面鏡を
用いた特開昭５４−１２３８７７及び、楕円を回転させ
て作る４次曲面反射鏡を用いた特開昭５６−８４３４９
がある。図５はその原理構成であり、反射鏡１０，１
１，１２が球面鏡ないし４次曲面反射鏡となっている。
ここで７は点光源ランプ、８はスリット位置、９は球面
反射鏡、１３はピンホールである。
型投影露光装置の投影光学系の構成を示したものであ
る。凹面鏡１、凸面鏡２からなり、マスク３に円弧スリ
ット照明光４を照射し、マスク上のパターンを基板５上
に投影し、マスク３と基板５をＢ方向とその逆方向に走
査し露光するものである。この装置に必要な円弧スリッ
ト照明光を作るには円弧状ランプの像を拡大する方法
と、点光源ランプを回転対称型の反射鏡を用いて円弧状
にする方法とがある。特に後者は、遠紫外光を用いると
きにも有効であるが、この種の光学系としては球面鏡を
用いた特開昭５４−１２３８７７及び、楕円を回転させ
て作る４次曲面反射鏡を用いた特開昭５６−８４３４９
がある。図５はその原理構成であり、反射鏡１０，１
１，１２が球面鏡ないし４次曲面反射鏡となっている。
ここで７は点光源ランプ、８はスリット位置、９は球面
反射鏡、１３はピンホールである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな構成では、以下に述べる３点の課題がある。先ず照
明むらの課題である。図６は点光源ランプ７の放電電極
を示す図であり、１４，１５はそれぞれ電極である。点
光源ランプ７の発光は電極１４，１５間でのアーク７ａ
によって生じるが、電極面での放電位置は時間的に変化
するため、結果として発光の位置が時間的にふらつくこ
とになる。従って図５に於ける反射鏡１０による点光源
ランプ７の像もふらつくことになり、これが照明のむら
につながっていた。第２の課題は円弧状スリットを通し
て光束を整形することによる光利用効率の低下である。
第３の課題は、近年開発が進んでいる大型液晶基板等の
露光に於いては円弧照明光も大きなものが要求され、結
果として、反射鏡等も大型化しコスト面や製作上の困難
を生じるということである。
うな構成では、以下に述べる３点の課題がある。先ず照
明むらの課題である。図６は点光源ランプ７の放電電極
を示す図であり、１４，１５はそれぞれ電極である。点
光源ランプ７の発光は電極１４，１５間でのアーク７ａ
によって生じるが、電極面での放電位置は時間的に変化
するため、結果として発光の位置が時間的にふらつくこ
とになる。従って図５に於ける反射鏡１０による点光源
ランプ７の像もふらつくことになり、これが照明のむら
につながっていた。第２の課題は円弧状スリットを通し
て光束を整形することによる光利用効率の低下である。
第３の課題は、近年開発が進んでいる大型液晶基板等の
露光に於いては円弧照明光も大きなものが要求され、結
果として、反射鏡等も大型化しコスト面や製作上の困難
を生じるということである。
【０００４】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、光源の光利用効率が高く、照明むらの少ない、また
大型基板の露光に好適な円弧照明装置を提供することを
目的とする。
で、光源の光利用効率が高く、照明むらの少ない、また
大型基板の露光に好適な円弧照明装置を提供することを
目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明は光源と集光光学系と回転ミラーと折り返しミ
ラーとからなるものである。
に本発明は光源と集光光学系と回転ミラーと折り返しミ
ラーとからなるものである。
【０００６】
【作用】この構成によって、光源を出射した光は集光光
学系により収束されるとともに光路上に設けられた回転
ミラーによって反射され、回転ミラーの回転に伴い回転
ミラーの回転軸を中心とする円弧を描く。更に前記円弧
の途中に設けられた折り返しミラーによりマスク上に垂
直に照射されることにより、円弧照明を得ることができ
る。
学系により収束されるとともに光路上に設けられた回転
ミラーによって反射され、回転ミラーの回転に伴い回転
ミラーの回転軸を中心とする円弧を描く。更に前記円弧
の途中に設けられた折り返しミラーによりマスク上に垂
直に照射されることにより、円弧照明を得ることができ
る。
【０００７】
（実施例１）以下本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。
照しながら説明する。
【０００８】図１は円弧照明装置の主要部の斜視図であ
り、２２は光源３５（例えば、超高圧水銀灯や紫外レー
ザ等）から出射した後、楕円ミラー３６、平面ミラー３
７で反射された光線であり、２３は集光光学系であり、
図１には屈折光学系として図示しているが、反射光学系
でもよい。２４は回転ミラーであり、薄板硝子の両面に
紫外域でも反射率の高いアルミニウム等を蒸着したもの
である。２５はモーターである。２６はミラーホルダー
であり回転ミラー２４とモーター２５とを接続する。２
７は折り返しミラーであって円錐面の一部を成してい
る。２８はマスク位置である。折り返しミラー２７につ
いて詳述するために図２を用いる。図２は円弧照明装置
の断面図を示す図であり、１６は光源１６ａから出た光
の主光線であり、１７は集光光学系、１８は階Ｔ年ミラ
ーであり、モーター１９に取り付けられている。２０は
折り返しミラーであり、２１はマスク位置である。本構
成により、光源を出た集光レンズ１７により、マスク位
置２１上に集光されるが、光路途中に設けらえた回転ミ
ラー１８がモーター１９により回転することにより、走
査される。走査された光はモーター１９の回転軸を対称
軸とする円錐を描くので主光線１６の回転ミラー１８へ
の入射角をθｉとする時、頂角θａ＝９０°−θｉであ
る円錐面のうち回転ミラーが回転した時に光が照射され
る部分のみを切り出して折り返しミラーとして、折り返
しミラー２０を対称軸を一致させて設けることにより、
マスク位置２１上に垂直入射させることができ、マスク
位置２１上での光の走査軌跡はモーター１９の回転軸を
中心とする円弧を描くこととなる。さらに本実施例によ
れば回転ミラー２４は両面ミラーになっているので１回
転で２走査できることになり、モーター２５に対する負
荷を軽くできる効果がある。
り、２２は光源３５（例えば、超高圧水銀灯や紫外レー
ザ等）から出射した後、楕円ミラー３６、平面ミラー３
７で反射された光線であり、２３は集光光学系であり、
図１には屈折光学系として図示しているが、反射光学系
でもよい。２４は回転ミラーであり、薄板硝子の両面に
紫外域でも反射率の高いアルミニウム等を蒸着したもの
である。２５はモーターである。２６はミラーホルダー
であり回転ミラー２４とモーター２５とを接続する。２
７は折り返しミラーであって円錐面の一部を成してい
る。２８はマスク位置である。折り返しミラー２７につ
いて詳述するために図２を用いる。図２は円弧照明装置
の断面図を示す図であり、１６は光源１６ａから出た光
の主光線であり、１７は集光光学系、１８は階Ｔ年ミラ
ーであり、モーター１９に取り付けられている。２０は
折り返しミラーであり、２１はマスク位置である。本構
成により、光源を出た集光レンズ１７により、マスク位
置２１上に集光されるが、光路途中に設けらえた回転ミ
ラー１８がモーター１９により回転することにより、走
査される。走査された光はモーター１９の回転軸を対称
軸とする円錐を描くので主光線１６の回転ミラー１８へ
の入射角をθｉとする時、頂角θａ＝９０°−θｉであ
る円錐面のうち回転ミラーが回転した時に光が照射され
る部分のみを切り出して折り返しミラーとして、折り返
しミラー２０を対称軸を一致させて設けることにより、
マスク位置２１上に垂直入射させることができ、マスク
位置２１上での光の走査軌跡はモーター１９の回転軸を
中心とする円弧を描くこととなる。さらに本実施例によ
れば回転ミラー２４は両面ミラーになっているので１回
転で２走査できることになり、モーター２５に対する負
荷を軽くできる効果がある。
【０００９】以上のように本実施例によれば、回転ミラ
ーの法線と回転軸が垂直になるように回転ミラーを設け
ることにより、モーターの負荷を軽くすることができ
る。
ーの法線と回転軸が垂直になるように回転ミラーを設け
ることにより、モーターの負荷を軽くすることができ
る。
【００１０】（実施例２）以下本発明の第２の実施例に
ついて図面を参照しながら説明する。
ついて図面を参照しながら説明する。
【００１１】図３に於いて、２９は光源１６ａ（例え
ば、超高圧水銀灯や紫外レーザ等）から出射した光線で
あり、３０は集光光学系であり、図３には屈折光学系と
して図示しているが、反射光学系でもよい。３１は回転
ミラーであり、薄板硝子に紫外域でも反射率の高いアル
ミニウム等を蒸着したものである。３２はモーターであ
る。３３は折り返しミラーであって円錐面の一部を成し
ている。３４はマスク位置である。図１の構成と異なる
のは回転ミラー３１をミラー面の法線と回転軸とに垂直
でない角度を持たせたことである。
ば、超高圧水銀灯や紫外レーザ等）から出射した光線で
あり、３０は集光光学系であり、図３には屈折光学系と
して図示しているが、反射光学系でもよい。３１は回転
ミラーであり、薄板硝子に紫外域でも反射率の高いアル
ミニウム等を蒸着したものである。３２はモーターであ
る。３３は折り返しミラーであって円錐面の一部を成し
ている。３４はマスク位置である。図１の構成と異なる
のは回転ミラー３１をミラー面の法線と回転軸とに垂直
でない角度を持たせたことである。
【００１２】上記のように構成された円弧照明装置につ
いて、以下その動作を説明する。先ず、光線２９は集光
光学系３０により、集束され、光路途中に設けられた回
転ミラー３１により、走査される。このとき光線２９の
光軸と回転ミラー３１の回転軸とは一致している。走査
された光線は更に折り返しミラー３３により、マスク位
置３４に垂直に折り返され、実施例１と同様に円弧の失
跡を描く。以上のように回転ミラー面の法線と回転軸と
を垂直以外の角を成して設け、回転軸と光源の高軸とを
一致させることにより、照明光の軌跡である円弧の中心
が振れないことと及び、回転ミラーの大きさを最小限に
できるという効果が得られる。なお第１の実施例におい
て回転ミラーは両面ミラーとしたが、レーザスキャナー
等に常用されるポリゴンミラー等でも同様の効果が得ら
れる。
いて、以下その動作を説明する。先ず、光線２９は集光
光学系３０により、集束され、光路途中に設けられた回
転ミラー３１により、走査される。このとき光線２９の
光軸と回転ミラー３１の回転軸とは一致している。走査
された光線は更に折り返しミラー３３により、マスク位
置３４に垂直に折り返され、実施例１と同様に円弧の失
跡を描く。以上のように回転ミラー面の法線と回転軸と
を垂直以外の角を成して設け、回転軸と光源の高軸とを
一致させることにより、照明光の軌跡である円弧の中心
が振れないことと及び、回転ミラーの大きさを最小限に
できるという効果が得られる。なお第１の実施例におい
て回転ミラーは両面ミラーとしたが、レーザスキャナー
等に常用されるポリゴンミラー等でも同様の効果が得ら
れる。
【００１３】
【発明の効果】以上のように本発明は光源と集光光学系
と回転ミラーと円錐面の一部である折り返しミラーとを
設けることにより、従って従来用いられていたような円
弧状スリットが必要なくなり、全ての光を利用できるの
で光利用効率が高くなる。また光を繰り返し走査するこ
とにより、照度が平均化され照度むらが少なくなる。更
に光学系も小さくて済む優れた円弧照明装置を実現でき
るものである。
と回転ミラーと円錐面の一部である折り返しミラーとを
設けることにより、従って従来用いられていたような円
弧状スリットが必要なくなり、全ての光を利用できるの
で光利用効率が高くなる。また光を繰り返し走査するこ
とにより、照度が平均化され照度むらが少なくなる。更
に光学系も小さくて済む優れた円弧照明装置を実現でき
るものである。
【図１】本発明の第１の実施例に於ける円弧照明装置の
斜視図
斜視図
【図２】同実施例に於ける円弧照明装置の断面図
【図３】本発明の第２の実施例に於ける円弧照明装置の
断面図
断面図
【図４】従来例の１つである１：１反射型投影露光装置
の投影光学系を示す図
の投影光学系を示す図
【図５】従来の円弧照明装置の原理構成図
【図６】同円弧証明装置による光源の放電電極を示す図
１６ 主光線 １７，２３，３０ 集光光学系 １８，２４，３１ 回転ミラー １９，２５，３２ モーター ２０，２７，３３ 折り返しミラー ２１，２８，３４ マスク位置 ２２，２９ 光線
Claims (3)
- 【請求項１】 光源と集光光学系と回転ミラーと折り返
しミラーとからなる円弧照明装置。 - 【請求項２】 回転ミラーの面の法線が回転軸と垂直に
なっていることを特徴とする請求項１記載の円弧照明装
置。 - 【請求項３】 回転ミラーの面の法線が回転軸と垂直以
外の角を為していることを特徴とする請求項１記載の円
弧照明装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4142323A JPH05333268A (ja) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | 円弧照明装置 |
| KR1019930009858A KR0132137B1 (ko) | 1992-06-03 | 1993-06-02 | 원호조명장치 |
| US08/070,170 US5416630A (en) | 1992-06-03 | 1993-06-02 | Circular arc illumination apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4142323A JPH05333268A (ja) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | 円弧照明装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05333268A true JPH05333268A (ja) | 1993-12-17 |
Family
ID=15312680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4142323A Pending JPH05333268A (ja) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | 円弧照明装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5416630A (ja) |
| JP (1) | JPH05333268A (ja) |
| KR (1) | KR0132137B1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NO301191B1 (no) * | 1993-05-13 | 1997-09-22 | Cargoscan As | Anordning ved måling av gjenstanders dimensjoner |
| US5673134A (en) * | 1994-07-15 | 1997-09-30 | Sony Corporation | Light exposure and illuminating apparatus |
| DE19641656A1 (de) * | 1996-10-09 | 1998-04-23 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Vorrichtung zum Erzeugen ringförmiger Bilder |
| US20040087999A1 (en) * | 2002-10-31 | 2004-05-06 | Gjalt Bosma | Vascular filter with improved anchor or other position retention |
| KR200483811Y1 (ko) | 2017-05-23 | 2017-06-27 | 김보근 | 아동 보호차량 탑승인원 자동 확인 무선기 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54123877A (en) * | 1978-03-18 | 1979-09-26 | Canon Inc | Baking unit |
| US4458302A (en) * | 1981-06-03 | 1984-07-03 | Hitachi, Ltd. | Reflection type optical focusing apparatus |
| JPS57200012A (en) * | 1981-06-03 | 1982-12-08 | Hitachi Ltd | Luminaire and luminaire for exposing device |
| JPS5964830A (ja) * | 1982-10-05 | 1984-04-12 | Canon Inc | 照明装置 |
| US4947030A (en) * | 1985-05-22 | 1990-08-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Illuminating optical device |
| US4759593A (en) * | 1986-03-21 | 1988-07-26 | Eastman Kodak Company | High resolution optical scanner |
| JPH0727125B2 (ja) * | 1986-05-23 | 1995-03-29 | 株式会社日立製作所 | 光走査装置 |
| US5255114A (en) * | 1991-11-12 | 1993-10-19 | Eastman Kodak Company | High resolution scanner |
-
1992
- 1992-06-03 JP JP4142323A patent/JPH05333268A/ja active Pending
-
1993
- 1993-06-02 US US08/070,170 patent/US5416630A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-06-02 KR KR1019930009858A patent/KR0132137B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR0132137B1 (ko) | 1998-04-14 |
| US5416630A (en) | 1995-05-16 |
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