JPH05329941A - 立体モデル造形装置 - Google Patents
立体モデル造形装置Info
- Publication number
- JPH05329941A JPH05329941A JP13906992A JP13906992A JPH05329941A JP H05329941 A JPH05329941 A JP H05329941A JP 13906992 A JP13906992 A JP 13906992A JP 13906992 A JP13906992 A JP 13906992A JP H05329941 A JPH05329941 A JP H05329941A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- crystal element
- wave length
- contrast ratio
- dimensional model
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 液状光硬化性樹脂に液晶素子を介して処理パ
ターンの光を照射し、該光硬化性樹脂を硬化させる工程
を含む立体モデル造形装置において、前記液晶素子の最
大コントラスト比が、光硬化性樹脂の光重合開始波長域
であって、かつその波長が３６０ｎｍから５００ｎｍの
範囲にある前記液晶素子を用いる。 【効果】 短時間で精度の良い透明性のある立体モデル
を造形することができる。
ターンの光を照射し、該光硬化性樹脂を硬化させる工程
を含む立体モデル造形装置において、前記液晶素子の最
大コントラスト比が、光硬化性樹脂の光重合開始波長域
であって、かつその波長が３６０ｎｍから５００ｎｍの
範囲にある前記液晶素子を用いる。 【効果】 短時間で精度の良い透明性のある立体モデル
を造形することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は立体モデルの造形装置に
関し、特に液状の光硬化性樹脂の表面の所定部分に光を
照射して樹脂を硬化せしめることによって立体モデルの
一断面を形成し、順次その過程を繰返して立体モデルを
造形する装置に関する。
関し、特に液状の光硬化性樹脂の表面の所定部分に光を
照射して樹脂を硬化せしめることによって立体モデルの
一断面を形成し、順次その過程を繰返して立体モデルを
造形する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】合成樹脂による成形物の作製には、金型
成形法が多く用いられている。しかし、金型成形法は金
型の作製に多額の費用を要し、また成形物を得るまでに
多くの期間がかかるなどの問題があった。
成形法が多く用いられている。しかし、金型成形法は金
型の作製に多額の費用を要し、また成形物を得るまでに
多くの期間がかかるなどの問題があった。
【０００３】金型成形法の上述した問題点を解決する方
法として、近年、液晶素子を用い、造形物の３次元立体
情報を断層情報にした２次元平面情報に基づき、液晶素
子の各画素を電圧のオン、オフにより開閉し、すなわち
各画素を選択または非選択して液晶素子に断面情報に応
じたパターンを表示させ、このパターンを通して光源か
らの光を液状光硬化性樹脂に照射し、所望形状に硬化さ
せ、硬化した樹脂層を順次積層させ、立体モデルを得る
造形方法がある。ここで光を透過、遮断するために使用
される液晶素子は、一般に可視光領域特に視感度の高い
５５０ｎｍ付近の波長域で最大コントラスト比となるよ
う設計されたものが用いられる。このような液晶素子
と、前記波長域で光重合反応をおこす光硬化性樹脂組成
物とを用いて立体モデルの作製を行う方法がある。
法として、近年、液晶素子を用い、造形物の３次元立体
情報を断層情報にした２次元平面情報に基づき、液晶素
子の各画素を電圧のオン、オフにより開閉し、すなわち
各画素を選択または非選択して液晶素子に断面情報に応
じたパターンを表示させ、このパターンを通して光源か
らの光を液状光硬化性樹脂に照射し、所望形状に硬化さ
せ、硬化した樹脂層を順次積層させ、立体モデルを得る
造形方法がある。ここで光を透過、遮断するために使用
される液晶素子は、一般に可視光領域特に視感度の高い
５５０ｎｍ付近の波長域で最大コントラスト比となるよ
う設計されたものが用いられる。このような液晶素子
と、前記波長域で光重合反応をおこす光硬化性樹脂組成
物とを用いて立体モデルの作製を行う方法がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
液晶素子を用いた立体モデル造形装置では、使用する液
晶素子の最大コントラスト比を、視感度特性の最高感度
波長に一致させており、このような特性を持った液晶素
子を用いて立体モデルを作製する場合、最大視感度波長
近傍の波長で光硬化性樹脂の重合反応を開始させるため
に、この波長域で吸光係数の高い光重合開始剤や増感剤
が用いられる。しかし、これらの増感剤を用いた場合、
造形された立体モデルは黄褐色に着色してしまう。また
透明性のある立体モデルを作製するために、例えばエポ
キシアクリレート系樹脂に、光重合開始剤としてイルガ
キュアー６５１（チバガイギー社製、最大吸収波約４０
０ｎｍ）を混合した光硬化性樹脂を用いた場合、前記液
晶素子の最大コントラスト波長域では光重合反応が起こ
らず、光重合反応は液晶素子を透過した４００ｎｍ付近
の光によって起こる。しかし、この波長域での前記液晶
素子の特性は、選択部での透過率は著しく低下し、非選
択部の透過率も上昇する特性を示すものとなる。この結
果、選択部での樹脂の十分な硬化度を得るためには、光
の照射時間を長くする必要があるが、非選択部も漏れ光
によって硬化してしまい、精度の良い造形物の作製が困
難であった。さらに前記液晶素子を用いて造形物を作る
場合、可視光で硬化する光硬化性樹脂を使用するため樹
脂の取扱いや、立体モデル造形装置の操作を暗室で行う
必要があるなどの制約があった。
液晶素子を用いた立体モデル造形装置では、使用する液
晶素子の最大コントラスト比を、視感度特性の最高感度
波長に一致させており、このような特性を持った液晶素
子を用いて立体モデルを作製する場合、最大視感度波長
近傍の波長で光硬化性樹脂の重合反応を開始させるため
に、この波長域で吸光係数の高い光重合開始剤や増感剤
が用いられる。しかし、これらの増感剤を用いた場合、
造形された立体モデルは黄褐色に着色してしまう。また
透明性のある立体モデルを作製するために、例えばエポ
キシアクリレート系樹脂に、光重合開始剤としてイルガ
キュアー６５１（チバガイギー社製、最大吸収波約４０
０ｎｍ）を混合した光硬化性樹脂を用いた場合、前記液
晶素子の最大コントラスト波長域では光重合反応が起こ
らず、光重合反応は液晶素子を透過した４００ｎｍ付近
の光によって起こる。しかし、この波長域での前記液晶
素子の特性は、選択部での透過率は著しく低下し、非選
択部の透過率も上昇する特性を示すものとなる。この結
果、選択部での樹脂の十分な硬化度を得るためには、光
の照射時間を長くする必要があるが、非選択部も漏れ光
によって硬化してしまい、精度の良い造形物の作製が困
難であった。さらに前記液晶素子を用いて造形物を作る
場合、可視光で硬化する光硬化性樹脂を使用するため樹
脂の取扱いや、立体モデル造形装置の操作を暗室で行う
必要があるなどの制約があった。
【０００５】本発明は上記のような問題点を解決するも
ので、その目的とするところは光硬化性樹脂の重合開始
波長域、特に紫外から近紫外波長域で選択画素部および
非選択画素部で透過あるいは遮光性に優れ、高いコント
ラスト比を有する液晶素子を用い、短時間で造形精度に
優れた透明性のある造形物を形成することができる立体
モデル造形装置を提供することにある。
ので、その目的とするところは光硬化性樹脂の重合開始
波長域、特に紫外から近紫外波長域で選択画素部および
非選択画素部で透過あるいは遮光性に優れ、高いコント
ラスト比を有する液晶素子を用い、短時間で造形精度に
優れた透明性のある造形物を形成することができる立体
モデル造形装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の立体モデル造形
装置では上記問題を解決するために、光硬化性樹脂の光
重合開始波長域に最大コントラスト比を持ち、かつその
波長域が３６０ｎｍから５００ｎｍにある液晶素子を用
いたことを特徴としている。本発明に使用する液晶素子
は、その最大コントラスト比が３６０〜５００ｎｍにあ
れば、どのような動作モードのものでも使用できるが、
ＴＮモードでは走査線数を増加させて時分割駆動する場
合、コントラスト比が低下し光のスイッチング性能が低
下する。またＳＴＮモードでは、複屈折効果のため着色
が生じ、使用する波長域で十分な光のスイッチング性能
が得られないなどの欠点がある。これらの点で、高時分
割駆動した時に前記光重合開始波長域で、高いスイッチ
ング性能が得られる２層式ＳＴＮモード型の液晶素子が
好ましい。液晶素子の最大コントラスト比は、３６０〜
５００ｎｍにある必要があるが、２層式ＳＴＮモード型
液晶素子を形成する駆動セルおよび光学補償セルのレタ
ーデーションを変化させることにより調整することがで
きる。光重合開始波長が３６０ｎｍ未満の光硬化性樹脂
を硬化させる場合、液晶素子を構成する液晶物質が紫外
光を吸収し、短時間で液晶素子の特性劣化を生じる。ま
た光重合開始波長が５００ｎｍを越える光硬化性樹脂を
硬化する場合、硬化した光硬化性樹脂が着色してしまい
透明性のある立体モデルの作製ができないことや、可視
光で光硬化性樹脂が硬化してしまうため、樹脂の扱いに
制約が生じる。
装置では上記問題を解決するために、光硬化性樹脂の光
重合開始波長域に最大コントラスト比を持ち、かつその
波長域が３６０ｎｍから５００ｎｍにある液晶素子を用
いたことを特徴としている。本発明に使用する液晶素子
は、その最大コントラスト比が３６０〜５００ｎｍにあ
れば、どのような動作モードのものでも使用できるが、
ＴＮモードでは走査線数を増加させて時分割駆動する場
合、コントラスト比が低下し光のスイッチング性能が低
下する。またＳＴＮモードでは、複屈折効果のため着色
が生じ、使用する波長域で十分な光のスイッチング性能
が得られないなどの欠点がある。これらの点で、高時分
割駆動した時に前記光重合開始波長域で、高いスイッチ
ング性能が得られる２層式ＳＴＮモード型の液晶素子が
好ましい。液晶素子の最大コントラスト比は、３６０〜
５００ｎｍにある必要があるが、２層式ＳＴＮモード型
液晶素子を形成する駆動セルおよび光学補償セルのレタ
ーデーションを変化させることにより調整することがで
きる。光重合開始波長が３６０ｎｍ未満の光硬化性樹脂
を硬化させる場合、液晶素子を構成する液晶物質が紫外
光を吸収し、短時間で液晶素子の特性劣化を生じる。ま
た光重合開始波長が５００ｎｍを越える光硬化性樹脂を
硬化する場合、硬化した光硬化性樹脂が着色してしまい
透明性のある立体モデルの作製ができないことや、可視
光で光硬化性樹脂が硬化してしまうため、樹脂の扱いに
制約が生じる。
【０００７】本発明に使用する光硬化性樹脂は、光重合
開始波長が３６０〜５００ｎｍのものを使用する。該光
重合開始波長は、使用する光硬化性樹脂および光重合開
始材により調整することができる。光硬化性樹脂として
は、光カチオン重合系樹脂および光ラジカル重合系樹脂
が使用できる。光カチオン重合系樹脂としては、例えば
ノボラック型エポキシ化合物や脂環式エポキシ化合物が
使用できる。ノボラック型エポキシ化合物の市販品とし
ては、例えば日本化薬（株）製ＥＣＯＮ−１０２Ｓ，１
０３，１０４Ｓ，１０２０，１０２７、油化シェルエポ
キシ（株）製エピコート１８０Ｓ７５等が挙げられる。
脂環式エポキシ化合物の市販品としては、例えばチバガ
イギー社製ＣＹ−１７５，１７７，１７９，Ｕ．Ｃ．
Ｃ．社製ＥＲＬ−４２３４，４２９９，４２２１，４２
０６等が挙げられる。
開始波長が３６０〜５００ｎｍのものを使用する。該光
重合開始波長は、使用する光硬化性樹脂および光重合開
始材により調整することができる。光硬化性樹脂として
は、光カチオン重合系樹脂および光ラジカル重合系樹脂
が使用できる。光カチオン重合系樹脂としては、例えば
ノボラック型エポキシ化合物や脂環式エポキシ化合物が
使用できる。ノボラック型エポキシ化合物の市販品とし
ては、例えば日本化薬（株）製ＥＣＯＮ−１０２Ｓ，１
０３，１０４Ｓ，１０２０，１０２７、油化シェルエポ
キシ（株）製エピコート１８０Ｓ７５等が挙げられる。
脂環式エポキシ化合物の市販品としては、例えばチバガ
イギー社製ＣＹ−１７５，１７７，１７９，Ｕ．Ｃ．
Ｃ．社製ＥＲＬ−４２３４，４２９９，４２２１，４２
０６等が挙げられる。
【０００８】光ラジカル重合系樹脂としては、例えばア
クリレートまたはメタクリレート化合物やスピロアセタ
ールとアクリル基またはメタクリル基を有するスピラル
化合物等が使用できる。アクリレートまたはメタクリレ
ート化合物の市販品としては、例えば東亜合成化学社製
アロニックスＭ５７００，Ｍ６１００，Ｍ８０３０，Ｍ
１５２，Ｍ２０５，Ｍ２１５，Ｍ３１５，Ｍ３２５，Ｍ
４００，Ｍ４０５，Ｍ７２００、新中村化学工業社製Ａ
ＢＰＥ−４，Ｕ−４ＨＡ，ＣＢ−１，ＣＢＸ−１、日本
化薬社製カヤラドＲ６０４，ＤＰＣＡ−３０，ＤＰＣＡ
−６０，カヤマ−ＰＭ−１，ＰＭ−２、サンノブコ社製
フォトマー４０６１，５００７、昭和高分子社製リポキ
シＶＲ６０，ＶＲ９０，ＳＰ１５０９、大阪有機社製ビ
スコート５４０等が挙げられる。スピロアセタールとア
クリル基またはメタクリル基を有するスピラル化合物の
市販品としては、例えば昭和高分子社製スピラックえ−
４０００Ｘ，Ｕ３０００等が挙げられる。
クリレートまたはメタクリレート化合物やスピロアセタ
ールとアクリル基またはメタクリル基を有するスピラル
化合物等が使用できる。アクリレートまたはメタクリレ
ート化合物の市販品としては、例えば東亜合成化学社製
アロニックスＭ５７００，Ｍ６１００，Ｍ８０３０，Ｍ
１５２，Ｍ２０５，Ｍ２１５，Ｍ３１５，Ｍ３２５，Ｍ
４００，Ｍ４０５，Ｍ７２００、新中村化学工業社製Ａ
ＢＰＥ−４，Ｕ−４ＨＡ，ＣＢ−１，ＣＢＸ−１、日本
化薬社製カヤラドＲ６０４，ＤＰＣＡ−３０，ＤＰＣＡ
−６０，カヤマ−ＰＭ−１，ＰＭ−２、サンノブコ社製
フォトマー４０６１，５００７、昭和高分子社製リポキ
シＶＲ６０，ＶＲ９０，ＳＰ１５０９、大阪有機社製ビ
スコート５４０等が挙げられる。スピロアセタールとア
クリル基またはメタクリル基を有するスピラル化合物の
市販品としては、例えば昭和高分子社製スピラックえ−
４０００Ｘ，Ｕ３０００等が挙げられる。
【０００９】光重合系開始材として、光ラジカル重合開
始材および光カチオン重合開始材が使用できる。本発明
に使用される光ラジカル重合開始材としては、例えばベ
ンゾフェノン化合物が使用できる。該化合物の市販品と
して、例えばチバガイギー社製イルガキュアー１８４，
３６９，６５１，９０７、メルク社製ダロキュアー１１
７３，１１１６，２９５９、バスフ社製ルシリンＬＲ８
７２８等が挙げられる。
始材および光カチオン重合開始材が使用できる。本発明
に使用される光ラジカル重合開始材としては、例えばベ
ンゾフェノン化合物が使用できる。該化合物の市販品と
して、例えばチバガイギー社製イルガキュアー１８４，
３６９，６５１，９０７、メルク社製ダロキュアー１１
７３，１１１６，２９５９、バスフ社製ルシリンＬＲ８
７２８等が挙げられる。
【００１０】本発明に使用される光カチオン重合開始材
としては、例えばメタロセン化合物やスルホニウム塩等
が使用できる。メタロセン化合物の市販品としては、例
えばチバガイギー社製イルガキュアー２６１等が挙げら
れる。スルホニウム塩の市販品としては、例えば旭電化
社製のオプトマーＳＰ−１００，ＳＰ−１７０等が挙げ
られる。
としては、例えばメタロセン化合物やスルホニウム塩等
が使用できる。メタロセン化合物の市販品としては、例
えばチバガイギー社製イルガキュアー２６１等が挙げら
れる。スルホニウム塩の市販品としては、例えば旭電化
社製のオプトマーＳＰ−１００，ＳＰ−１７０等が挙げ
られる。
【００１１】
【作用】本発明による立体モデル造形装置によれば、短
時間で造形精度に優れた透明性のある立体モデルを、充
分な遮光性を必要としない環境で作製することができ
る。
時間で造形精度に優れた透明性のある立体モデルを、充
分な遮光性を必要としない環境で作製することができ
る。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しながら
説明する。
説明する。
【００１３】図１は本発明の立体モデルを作製するため
の立体モデル作製装置の模式的断面図である。この装置
は計算機１，制御部２，光源３，液晶素子４，液晶素子
制御回路５，液晶素子駆動回路６，容器７，液状光硬化
性樹脂８，Ｚ軸昇降装置９等で構成されている。１０は
すでに硬化した樹脂を示す。
の立体モデル作製装置の模式的断面図である。この装置
は計算機１，制御部２，光源３，液晶素子４，液晶素子
制御回路５，液晶素子駆動回路６，容器７，液状光硬化
性樹脂８，Ｚ軸昇降装置９等で構成されている。１０は
すでに硬化した樹脂を示す。
【００１４】立体モデル造形のためには、造形すべき立
体モデルを例えば垂直方向に薄くスライスした断面デー
タを計算機１によって計算し、１層毎に所定の平面デー
タを作製し、この平面データを液晶制御回路５，液晶駆
動回路６を介して液晶素子４に出力する。次にＺ軸昇降
装置９を制御部２で制御し硬化層の厚さだけの液状光硬
化性樹脂層をＺ軸昇降装置上に形成し、光源を一定の時
間点灯し、液晶素子４に表示された所定の断面データに
応じた硬化物１０を形成する。引き続き液晶素子４に断
面データを出力し、Ｚ軸昇降装置９を硬化層の厚さだけ
降下させ液状光硬化性樹脂層を形成し、光線１８を照
射、硬化物１０を形成する。このサイクルを繰り返すこ
とによって立体モデルを造形することができる。
体モデルを例えば垂直方向に薄くスライスした断面デー
タを計算機１によって計算し、１層毎に所定の平面デー
タを作製し、この平面データを液晶制御回路５，液晶駆
動回路６を介して液晶素子４に出力する。次にＺ軸昇降
装置９を制御部２で制御し硬化層の厚さだけの液状光硬
化性樹脂層をＺ軸昇降装置上に形成し、光源を一定の時
間点灯し、液晶素子４に表示された所定の断面データに
応じた硬化物１０を形成する。引き続き液晶素子４に断
面データを出力し、Ｚ軸昇降装置９を硬化層の厚さだけ
降下させ液状光硬化性樹脂層を形成し、光線１８を照
射、硬化物１０を形成する。このサイクルを繰り返すこ
とによって立体モデルを造形することができる。
【００１５】液晶素子４は、図２のように対向したＸ電
極１１，Ｙ電極１２によって構成され、光を透過遮断制
御する画素部１３は、このＸ，Ｙ電極の交点で形成され
る。本実施例に用いた液晶素子は、図３のような偏光子
１４と駆動セル１５と光学補償セル１６と検光子１７か
らなる２層式ＳＴＮモードで、駆動セル１５のレターデ
ーションΔｎ・ｄ＝０．７１、光学補償セル１６のレタ
ーデーションΔｎ・ｄ＝０．６９、液晶の捻れ角は２４
０度で、駆動セル１５と光学補償セル１６の捻れ方向は
互いに逆方向に構成される。この液晶素子は４３０ｎｍ
に最大コントラスト比を持ち、図４のような分光透過特
性を持つ。該液晶素子を用い、エポキシアクリレート系
樹脂として、大阪有機社製ビスコート５４０を５００重
量部、大阪有機社製イソボニルアクリレートを３０重量
部、バスフ社製ビニルピロリドンを２０重量部に、この
波長域で光重合を開始する開始材として、バスフ社製ル
シリンＬＲ８７２８を５重量部加え立体モデルを作製し
た。この結果、短時間で精度の良い立体モデルを作製す
ることができた。
極１１，Ｙ電極１２によって構成され、光を透過遮断制
御する画素部１３は、このＸ，Ｙ電極の交点で形成され
る。本実施例に用いた液晶素子は、図３のような偏光子
１４と駆動セル１５と光学補償セル１６と検光子１７か
らなる２層式ＳＴＮモードで、駆動セル１５のレターデ
ーションΔｎ・ｄ＝０．７１、光学補償セル１６のレタ
ーデーションΔｎ・ｄ＝０．６９、液晶の捻れ角は２４
０度で、駆動セル１５と光学補償セル１６の捻れ方向は
互いに逆方向に構成される。この液晶素子は４３０ｎｍ
に最大コントラスト比を持ち、図４のような分光透過特
性を持つ。該液晶素子を用い、エポキシアクリレート系
樹脂として、大阪有機社製ビスコート５４０を５００重
量部、大阪有機社製イソボニルアクリレートを３０重量
部、バスフ社製ビニルピロリドンを２０重量部に、この
波長域で光重合を開始する開始材として、バスフ社製ル
シリンＬＲ８７２８を５重量部加え立体モデルを作製し
た。この結果、短時間で精度の良い立体モデルを作製す
ることができた。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば光
硬化性樹脂の重合開始波長域、特に紫外から近紫外波長
域で高いコントラスト比を有する液晶素子を用いて造形
を行うことにより、短時間で精度の良い透明性のある立
体モデルを造形することができる。
硬化性樹脂の重合開始波長域、特に紫外から近紫外波長
域で高いコントラスト比を有する液晶素子を用いて造形
を行うことにより、短時間で精度の良い透明性のある立
体モデルを造形することができる。
【図１】本発明に係わる立体モデル造形装置の一実施例
の構成を示す断面図である。
の構成を示す断面図である。
【図２】本実施例に係わる液晶素子の一実施例の画素部
の構成図である。
の構成図である。
【図３】本発明に係わる液晶素子の一実施例の構成を示
す図である。
す図である。
【図４】本実施例に係わる液晶素子の一実施例の分光特
性を示す図である。
性を示す図である。
１ 計算機 ２ 制御部 ３ 光源 ４ 液晶素子 ５ 液晶素子制御回路 ６ 液晶素子駆動回路 ７ 容器 ８ 液状光硬化性樹脂 ９ Ｚ軸昇降装置 １０ 硬化した樹脂 １１ Ｘ電極 １２ Ｙ電極 １３ 画素部 １４ 偏光子 １５ 駆動セル １６ 光学補償セル
Claims (1)
- 【請求項１】 液状光硬化性樹脂に液晶素子を介して処
理パターンの光を照射し、該光硬化性樹脂を硬化させる
工程を含む立体モデル造形装置において、前記液晶素子
の最大コントラスト比が、光硬化性樹脂の光重合開始波
長域であって、かつその波長が３６０ｎｍから５００ｎ
ｍの範囲にある前記液晶素子を用いたことを特徴とする
立体モデル造形装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13906992A JPH05329941A (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | 立体モデル造形装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13906992A JPH05329941A (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | 立体モデル造形装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05329941A true JPH05329941A (ja) | 1993-12-14 |
Family
ID=15236772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13906992A Pending JPH05329941A (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | 立体モデル造形装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05329941A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103213282A (zh) * | 2013-04-11 | 2013-07-24 | 西安工程大学 | 用于面曝光快速成形系统的二次交错曝光方法 |
| CN105922587A (zh) * | 2016-05-19 | 2016-09-07 | 深圳长朗三维科技有限公司 | 一种连续光固化三维打印设备及其使用方法 |
-
1992
- 1992-05-29 JP JP13906992A patent/JPH05329941A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103213282A (zh) * | 2013-04-11 | 2013-07-24 | 西安工程大学 | 用于面曝光快速成形系统的二次交错曝光方法 |
| CN103213282B (zh) * | 2013-04-11 | 2015-08-26 | 西安工程大学 | 用于面曝光快速成形系统的二次交错曝光方法 |
| CN105922587A (zh) * | 2016-05-19 | 2016-09-07 | 深圳长朗三维科技有限公司 | 一种连续光固化三维打印设备及其使用方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Terrones et al. | Effects of optical attenuation and consumption of a photobleaching initiator on local initiation rates in photopolymerizations | |
| EP0272582B1 (en) | Light control sheets | |
| TW399157B (en) | Liquid crystal display device and method for producing the same | |
| WO2016065663A1 (zh) | 液晶面板及其制作方法 | |
| JP2011235571A (ja) | 微細パターン製造方法および微細パターン付き基板 | |
| US5793454A (en) | Liquid crystal display device and method for producing the same | |
| KR20160143526A (ko) | 액정 광학 소자 | |
| JPH06102498A (ja) | 液晶パネルの製造方法 | |
| JPH05329941A (ja) | 立体モデル造形装置 | |
| US5409744A (en) | Polymer dispersed liquid crystal optical devices | |
| JP2005010731A (ja) | 新規なカラーフィルタの製法 | |
| JPH05329940A (ja) | 立体モデル造形方法 | |
| JPH04156325A (ja) | 非発光形表示デバイスを用いる造形方法および造形装置 | |
| JPH0611606A (ja) | 光制御板の製造方法 | |
| JPH06347765A (ja) | 液晶表示装置 | |
| Lin et al. | Design and fabrication of large area vat photopolymerization 3D printing system using a 32-inch quasi-collimated visible backlight module with local dimming control | |
| EP2060558B1 (en) | Phenyl acrylate derivatives and their use for producing optical films by means of photopolymerisation | |
| JP2870028B2 (ja) | 液晶光学装置及びその駆動方法 | |
| WO2021108348A1 (en) | Adhesive compositions and kits for application of screen protectors | |
| JPH01147406A (ja) | 光制御板用の樹脂組成物 | |
| JP3059030B2 (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
| JPH05212804A (ja) | 立体モデルの製造方法 | |
| Whyte et al. | Volumetric additive manufacturing: A new frontier in layer-less 3D printing | |
| JPH01312527A (ja) | 液晶デバイス及びその製造方法 | |
| US20220113567A1 (en) | Optical forming device and optical modulation device |