JPH05324764A - ベタパターン作成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 作成プロセスを少なくし、かつ設計ミスを誘
発しないＣＡＤを用いたベタパターン作成方法を提供す
る。 【構成】 バイアランド８の周囲に座標２４〜２７を指
定すると、これら座標で設定された点を結びバイアラン
ド８を含まない多角形パターンＣが作成される。同じよ
うに、座標２８〜３５を指定すると、これら座標で設定
された点を結び、バイアランド８を含まずかつ多角形パ
ターンＣとでバイアランド８を囲む多角形パターンＤが
作成される。これら多角形パターンＣとＤをベタパター
ンとすることで、バイアランド８と距離をおいて多角形
パターンＣとＤからなるベタパターンが形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、コンピュータ援用によ
る設計ＣＡＤ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ Ａｉｄ−ｅｄ Ｄｅ
ｓｉｇｎ）システムを用いた多層基板におけるベタパタ
ーン作成方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図４は多層基板の設計用ＣＡＤシステム
の制御系の一例を示すブロック図である。図において、
１０１はコンピュータ装置で、このコンピュータ装置１
０１は演算を行うＣＰＵ１０２およびこのＣＰＵ１０２
で演算を行うためのプログラムや演算結果を記憶するメ
モリ１０３で構成される。１０４はキーボード、１０５
はマウスで、これらキーボード１０４およびマウス１０
５は前記コンピュータ装置１０１に接続されて、多層基
板上の所定の位置にスルーホールや導体パターンを形成
するために必要な座標データの入力等、多層基板を設計
するために必要なデータの入力手段を構成している。

【０００３】１０６はコンピュータ装置１０１に接続さ
れたディスプレイで、キーボード１０４やマウス１０５
から入力された座標データ等を基にコンピュータ装置１
０１で演算したスルーホール，導体パターンの配置等の
図形データをこのディスプレイ１０６に表示する。上記
ＣＡＤシステムを用いて基板上に導体パターンを形成す
るために必要なベタパターンの作成方法は、以下に示す
２種類がある。

【０００４】その一つは幅付きラインパターン発生法
で、図５はこの幅付きラインパターン発生法の概略を示
す説明図である。この幅付きラインパターン発生法は、
座標１，２および線幅３を指定すると、線幅３が直径の
円と、その線幅３を１辺とする正方形の中心を座標１か
ら座標２に向かい直線的に移動した軌跡を組み合わせた
パターンを発生させるものである。また、この幅付きラ
インパターン発生法では１点と線幅を指定することで線
幅が直径の円をパターンとして発生させることができ
る。

【０００５】もう１つは多角形パターン発生法で、図６
はこの多角形パターン発生法の概略を示す説明図であ
る。この多角形パターン発生法は、例えば座標４，５，
６，７を指定すると、これら座標で囲まれた多角形のパ
ターンを発生させるものである。図７はスルーホールを
有するとともに、このスルーホールより距離を離して導
体パターンを形成した多層基板の一例を示す説明図で、
８はスルーホールのバイアランド、９ａはこのバイアラ
ンド８と距離を離して形成される電源，ＧＮＤ等の導
体、９ｂは導体９ａとバイアランド８との間に介在する
非導体部である。

【０００６】従来、このようなパターンをＣＡＤを用い
て設計するには、上記した幅付きラピパターン発生法と
多角形パターン発生法を組み合わせて、以下のような手
順により行っていた。図８は導体を形成するための従来
のベタパターン作成の手順を示す説明図である。

【０００７】まず、図８（ａ）に示すように、幅付きラ
インパターンで所定の位置にバイアランド８を作成す
る。次に図８（ｂ）に示すように、図８（ａ）に示すバ
イアランド８の周囲を、図５で説明した幅付きラインパ
ターン発生法でバイアランド８と同心円のパターン１０
を作成し、バイアランド８を電源，ＧＮＤ等の導体とな
る部分と隔離をする。

【０００８】そして、図８（ｃ）に示すように、図６で
説明した多角形パターン発生法を用い、先ず座標１１〜
１４を順に指定し、同心円パターン１０と外接する多角
形パターンＡを作成し、次に座標１５〜２２を順に指定
し、前記多角形パターンＡとで同心円パターン１０を囲
む多角形パターンＢを作成する。次に図８（ｄ）に示す
ように、同心円パターン１０と多角形パターンＡ，Ｂで
囲まれた隙間を幅付きラインパターン発生法を用いライ
ンパターン２３で埋めて行き、隙間が無くなるまでこの
作業を続けて、多角形パターンＡと多角形パターンＢで
囲まれたバイアランド８のまわりと、多角形パターンＡ
と多角形パターンＢのそれぞれ内側を区別する。

【０００９】上記作業をスルーホールの数分だけ繰り返
して、図７に示すようなパターンが形成される。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかし、以上述べた従
来のベタパターン作成方法では、幅付きラインパターン
発生法と多角形パターン発生法の両方を組み合わせてベ
タパターンを作成しているので、作業者の入力データが
多く負担がかかるという問題があり、また、ＣＡＤシス
テム側でも作成プロセスが多い事によるパターンニング
工数の増大やパターンデータ量の増大で、ＣＡＤシステ
ム側にも多く負担がかかるという問題がある。

【００１１】さらに、多角形パターンと同心円パターン
との間に生じる隙間を幅付きラインパターン発生法を用
いて埋める過程で、幅付きラインパターンを大きく取り
すぎる等の設計ミスにより、本来導体パターンが形成さ
れる箇所が切断される所謂パターンオープンを引き起こ
す危険性が大きい事という問題があった。本発明は作成
プロセスが多いことで作業者およびＣＡＤシステムの両
方に多くの負担がかかるという問題、また、幅付きライ
ンパターン発生法を用いることでパターンオープンの危
険性があるという問題を除去するためになされたもの
で、作成プロセスが少なく、かつパターンオープンを引
き起こすような設計ミスを誘発しないベタパターン作成
方法を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ため、本発明は、スルーホールが形成される多層基板で
該スルーホール以外の部分にスルーホールより距離を離
して導体パターンを形成するためのベタパターン作成方
法において、多層基板を設計するために必要なデータの
入力手段と、入力されたデータを基に多層基板を設計す
るための演算と演算手順および演算結果の記憶を行う処
理手段と、図形データとしての演算結果を表示する表示
手段とを備えたＣＡＤシステムを用い、前記入力手段に
より座標を指定してスルーホールの周囲に複数個の点を
設定し、処理手段でスルーホールを含まないように前記
複数個の点を結んで多角形を発生させ、この多角形内を
導体を形成するためのベタパターンとするものである。

【００１３】

【作用】上述した本発明は、多層基板を設計するにあた
りＣＡＤシステムを用いて、座標を指定してスルーホー
ルの周囲に複数個の点を設定し、スルーホールを含まな
いように前記複数個の点を結んで多角形を発生させ、こ
の多角形内を導体を形成するためのベタパターンとする
もので、これにより、スルーホールが形成される多層基
板で該スルーホール以外の部分にスルーホールより距離
を離して導体パターンを形成することができる。

【００１４】

【実施例】以下、図面を参照して実施例を説明する。図
１は本発明の第１の実施例におけるベタパターン作成方
法を示す説明図、図２は本実施例を適用して設計したパ
ターンの一例を示す説明図である。まず、図２におい
て、８はスルーホールのバイアランド、９ａはこのバイ
アランド８と距離を離して形成される電源，ＧＮＤ等の
導体、９ｂは導体９ａとバイアランド８との間に介在す
る非導体部である。

【００１５】次に図１を用いて図２に示す導体９を形成
するための本実施例におけるベタパターンの作成方法を
説明する。なお、本実施例で用いられるＣＡＤシステム
は図４で説明したものと同様である。まず、従来の技術
図８（ａ）で説明したようにバイアランド８を作成す
る。次に、キーボード１０４あるいはマウス１０５を操
作してこのバイアランド８の周囲に座標２４〜２７を順
に指定し、これを受けてコンピュータ装置１０１は、こ
れら座標で設定された点を結び、バイアランド８を含ま
ない多角形パターンＣを作成する。同じように、座標２
８〜３５を順に指定し、これら座標で設定された点を結
び、バイアランド８を含まずかつ多角形パターンＣとで
バイアランド８を囲む多角形パターンＤを作成する。コ
ンピュータ装置１０１はこれら多角形パターンＣとＤの
それぞれ内側をベタパターンとすることで、バイアラン
ド８と距離をおいて多角形パターンＣとＤからなるベタ
パターンが形成され、このベタパターンの部分を導体
部、それ以外の部分を非導体部とすることで、以降、上
記手順をスルーホールの数だけ繰り返して、多角形パタ
ーンの組み合わせのみで、図２に示すようなスルーホー
ルより距離を離して導体を形成した多層基板の設計が行
える。

【００１６】図３は本発明の第２の実施例を示す説明図
で、この第２の実施例はバイアランドの周囲を囲む多角
形パターンの形状を第１の実施例と変えたものであり、
第１の実施例と同様、多角形パターン発生法のみを用い
てベタパターンを作成するものである。すなわち、まず
バイアランド８の周囲に座標３７〜４６を順に指定し、
これら座標で設定された点を結び、バイアランド８を含
まない多角形パターンＥを発生させ、次に座標４７〜５
６を順に指定し、これら座標で設定された点を結び、バ
イアランド８を含まずかつ多角形パターンＥとでバイア
ランド８を八角形で囲む多角形パターンＦを発生し完了
する。

【００１７】上記第２の実施例のようにバイアランド８
の周囲を四角以上、例えば上記したように八角形で囲む
ことで、完成した多層基板を高周波回路用として用いる
場合、バイアランド８とそれを囲む多角形パターンＥ，
Ｆとからなる電源，ＧＮＤ等の導体パターンとの間隔が
ほぼ一定に近づくことから、さらに高周波特性が良くな
るという効果がある。

【００１８】なお、上記第１および第２の実施例におい
て、座標の取り方は上記に限らず任意で、バイアランド
８の周囲に距離をおいて多角形パターンが形成されるも
のであればよい。また、上記第１および第２の実施例と
も、多角形パターンＣとＤおよび多角形パターンＥ，Ｆ
にそれぞれ重なる部分を設けているが、これは多角形パ
ターン同士の間が不連続になってこの多角形パターンか
ら形成された導体パターンが切断された状態となること
を防ぐためである。

【００１９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、ＣＡＤ
システムを用いたベタパターン作成方法において、入力
手段により座標を指定してスルーホールの周囲に複数個
の点を設定し、処理手段でスルーホールを含まないよう
に前記複数個の点を結んで多角形を発生させ、この多角
形内を導体を形成するためのベタパターンとするもので
ある。

【００２０】このように、多角形パターンの組み合わせ
のみでベタパターンを作成することで、作業者の入力デ
ータが少なくなり、かつＣＡＤシステム側でも作成プロ
セスが少なくなってパターンニング工数や記憶するパタ
ーンデータ量が減少し、作業者とＣＡＤシステムの両方
にかかる負担が少なくなるという効果を有する。また、
多角形パターンの組み合わせのみでベタパターンを作成
することで、パターンオープンを引き起こすような設計
ミスを誘発することが少なくなるという効果を有する。

【００２１】さらに、設計ミスが少なくなることから、
パターンチェック工数が削減できるという効果を有す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例におけるベタパターン作
成方法を示す説明図である。

【図２】本実施例を適用して設計したパターンを有する
多層基板の一例を示す説明図である。

【図３】第２の実施例におけるベタパターン作成方法を
示す説明図である。

【図４】多層基板の設計用ＣＡＤシステムの制御系の一
例を示すブロック図である。

【図５】幅付きラインパターン発生法の概略を示す説明
図である。

【図６】多角形パターン発生法の概略を示す説明図であ
る。

【図７】スルーホールより距離を離して導体パターンを
形成した多層基板の一例を示す説明図である。

【図８】従来のベタパターン作成の手順を示す説明図で
ある。

【符号の説明】

８ バイアランド ２４〜２７ 座標 Ｃ 多角形パターン ２８〜３５ 座標 Ｄ 多角形パターン

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 スルーホールが形成される多層基板で該
   スルーホール以外の部分にスルーホールより距離を離し
   て導体パターンを形成するためのベタパターン作成方法
   において、 多層基板を設計するために必要なデータの入力手段と、
   入力されたデータを基に多層基板を設計するための演算
   と演算手順および演算結果の記憶を行う処理手段と、図
   形データとしての演算結果を表示する表示手段とを備え
   たＣＡＤシステムを用い、 前記入力手段により座標を指定してスルーホールの周囲
   に複数個の点を設定し、 処理手段でスルーホールを含まないように前記複数個の
   点を結んで多角形を発生させ、この多角形内を導体を形
   成するためのベタパターンとすることを特徴とするベタ
   パターン作成方法。