JPH05307128A - 広帯域光ファイバカプラの製造方法 - Google Patents
広帯域光ファイバカプラの製造方法Info
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- JPH05307128A JPH05307128A JP11157492A JP11157492A JPH05307128A JP H05307128 A JPH05307128 A JP H05307128A JP 11157492 A JP11157492 A JP 11157492A JP 11157492 A JP11157492 A JP 11157492A JP H05307128 A JPH05307128 A JP H05307128A
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- branching ratio
- optical fiber
- fusion
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 伝搬定数差を付けるためのコア径の差を高い
精度で管理する必要がなく、容易に製造することができ
る。 【構成】 市販の光ファイバから2本無作為に取り出
す。通常ばらつきにより光ファイバ11,12に伝搬定
数の差が0.4cm-1程度ある。これら光ファイバ11,1
2を融着延伸して融着部26を作る。この融着延伸は光
ファイバ11,12が単に光結合すればよい。分岐比を
測定し、最低分岐比が40%程度になるように融着部2
6を制御する。つまり分岐比が小さ過ぎる場合は光ファ
イバに張力を与えるが加熱温度を低くして延伸が生じな
いようにする。そのようにすると時間と共に融着部の両
コアが互いに正確に平行な状態になろうとして間隔が広
くなり分岐比が大きくなる。逆に融着したときに分岐比
が大き過ぎた場合は、張力を著しく弱めて光ファイバを
たるませて融着部の両コアを接近させ、分岐比が小さく
なるようにする。
精度で管理する必要がなく、容易に製造することができ
る。 【構成】 市販の光ファイバから2本無作為に取り出
す。通常ばらつきにより光ファイバ11,12に伝搬定
数の差が0.4cm-1程度ある。これら光ファイバ11,1
2を融着延伸して融着部26を作る。この融着延伸は光
ファイバ11,12が単に光結合すればよい。分岐比を
測定し、最低分岐比が40%程度になるように融着部2
6を制御する。つまり分岐比が小さ過ぎる場合は光ファ
イバに張力を与えるが加熱温度を低くして延伸が生じな
いようにする。そのようにすると時間と共に融着部の両
コアが互いに正確に平行な状態になろうとして間隔が広
くなり分岐比が大きくなる。逆に融着したときに分岐比
が大き過ぎた場合は、張力を著しく弱めて光ファイバを
たるませて融着部の両コアを接近させ、分岐比が小さく
なるようにする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は複数の光ファイバを相
互に融着、延伸させてこれら光ファイバ間を相互に光学
的に結合させる光ファイバカプラの製造方法、特にその
結合波長帯域が広い広帯域光ファイバカプラの製造方法
に関する。
互に融着、延伸させてこれら光ファイバ間を相互に光学
的に結合させる光ファイバカプラの製造方法、特にその
結合波長帯域が広い広帯域光ファイバカプラの製造方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の融着延伸法で作られた光ファイバ
カプラの分岐比の波長依存特性を図6Aに示す。これは
帯域幅が比較的狭い光ファイバカプラであって、この場
合、ある波長、この例では1.35μm で分岐比が0,す
なわち一方の光ファイバからの光がすべて他方の光ファ
イバに伝搬してしまう状態が存在する。
カプラの分岐比の波長依存特性を図6Aに示す。これは
帯域幅が比較的狭い光ファイバカプラであって、この場
合、ある波長、この例では1.35μm で分岐比が0,す
なわち一方の光ファイバからの光がすべて他方の光ファ
イバに伝搬してしまう状態が存在する。
【0003】これに対して広帯域光ファイバカプラの分
岐比の波長依存特性は、例えば図6Bに示すようなもの
である。この場合は最小分岐比が0となる波長がなく、
最小分岐比がほゞ40%位となっている。これは最も一
般的な性能を持つ広帯域光ファイバカプラであって、波
長1.3μm および1.55μm において共に分岐比が約5
0%となっている。
岐比の波長依存特性は、例えば図6Bに示すようなもの
である。この場合は最小分岐比が0となる波長がなく、
最小分岐比がほゞ40%位となっている。これは最も一
般的な性能を持つ広帯域光ファイバカプラであって、波
長1.3μm および1.55μm において共に分岐比が約5
0%となっている。
【0004】このように最小分岐比が0とならない広帯
域光ファイバカプラを作る方法として国際公開番号WO
87/00934号公報に示されている方法は、使用す
る2本の光ファイバの伝搬定数に差をつけることとして
いる。しかしこの2本の光ファイバの伝搬定数に単に差
をつけただけでは目的とする広帯域光ファイバカプラを
作ることはできない。それは光ファイバカプラの最小分
岐比を単に0とすれば良いのではなく、図6Bに示した
ように典型的な広帯域光ファイバカプラにおいては、最
小分岐比が約40%程度である必要があるからである。
最小分岐比が40%より大きくても、小さくても目的と
する性能を持つ広帯域光ファイバカプラを実現すること
ができない。2本の光ファイバの伝搬定数の差と最小分
岐比とは極めて強い相間があり、使用する2本の光ファ
イバの伝搬定数差を極めて精度良く管理しなければなら
ない。
域光ファイバカプラを作る方法として国際公開番号WO
87/00934号公報に示されている方法は、使用す
る2本の光ファイバの伝搬定数に差をつけることとして
いる。しかしこの2本の光ファイバの伝搬定数に単に差
をつけただけでは目的とする広帯域光ファイバカプラを
作ることはできない。それは光ファイバカプラの最小分
岐比を単に0とすれば良いのではなく、図6Bに示した
ように典型的な広帯域光ファイバカプラにおいては、最
小分岐比が約40%程度である必要があるからである。
最小分岐比が40%より大きくても、小さくても目的と
する性能を持つ広帯域光ファイバカプラを実現すること
ができない。2本の光ファイバの伝搬定数の差と最小分
岐比とは極めて強い相間があり、使用する2本の光ファ
イバの伝搬定数差を極めて精度良く管理しなければなら
ない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】この伝搬定数差を光フ
ァイバのコア径の差によって得ようとすると最小分岐比
を所望値に対し±5%の範囲内に管理するためには、コ
ア径の差をおおよそ±0.01μm の精度以内で管理しな
ければならないことが本発明者によって解析された。こ
のような高い精度で光ファイバのコアの径の差を管理す
ることは現在のところは勿論、近い将来においても非常
に困難と考えられる。
ァイバのコア径の差によって得ようとすると最小分岐比
を所望値に対し±5%の範囲内に管理するためには、コ
ア径の差をおおよそ±0.01μm の精度以内で管理しな
ければならないことが本発明者によって解析された。こ
のような高い精度で光ファイバのコアの径の差を管理す
ることは現在のところは勿論、近い将来においても非常
に困難と考えられる。
【0006】この発明の目的は、光ファイバの伝搬定数
の差を精度良く管理する必要がなく、従ってコア径の差
が±0.01μm の精度内になるように光ファイバを加工
するような必要もなく、極めて容易に広帯域の光ファイ
バカプラを製造することができる広帯域光ファイバカプ
ラの製造方法を提供することにある。
の差を精度良く管理する必要がなく、従ってコア径の差
が±0.01μm の精度内になるように光ファイバを加工
するような必要もなく、極めて容易に広帯域の光ファイ
バカプラを製造することができる広帯域光ファイバカプ
ラの製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明によれば伝搬定
数が異なる少なくとも2本の光ファイバを用意する。こ
の伝搬定数の差は適当な値、すなわち任意の値でもよ
い。このように実用された伝搬定数に適当に差がある少
なくとも2本以上の光ファイバを少なくとも融着させて
互いに光結合させる。この場合、光結合させるためには
必要に応じて融着させると共に延伸させる。この融着
は、要は光ファイバ間が光結合し、その光結合状態を測
定することができればよい。
数が異なる少なくとも2本の光ファイバを用意する。こ
の伝搬定数の差は適当な値、すなわち任意の値でもよ
い。このように実用された伝搬定数に適当に差がある少
なくとも2本以上の光ファイバを少なくとも融着させて
互いに光結合させる。この場合、光結合させるためには
必要に応じて融着させると共に延伸させる。この融着
は、要は光ファイバ間が光結合し、その光結合状態を測
定することができればよい。
【0008】次にこの光結合した2本以上の光ファイバ
の分岐比を測定して、その最小分岐比が目的とする値に
なるようにその融着部を処理する。この処理は延伸する
ことなく、単に加熱したり、あるいは延伸と加熱とを併
用して行う。
の分岐比を測定して、その最小分岐比が目的とする値に
なるようにその融着部を処理する。この処理は延伸する
ことなく、単に加熱したり、あるいは延伸と加熱とを併
用して行う。
【0009】
【実施例】まずこの発明の製造方法に用いる光ファイバ
カプラの製造装置を図1を参照して説明する。これは従
来の光ファイバカプラ製造装置と同様のものである。2
本の光ファイバ11および12は互いに接近されて両端
部がクランプ13,14により保持される。一方のクラ
ンプ14は固定され、他方のクランプ13は延伸用クラ
ンプであって、モータ15により駆動されて光ファイバ
11,12の長手方向に沿って固定クランプ14から離
れる方向に移動させることができ、つまり光ファイバ1
1,12に張力を印加することができる。
カプラの製造装置を図1を参照して説明する。これは従
来の光ファイバカプラ製造装置と同様のものである。2
本の光ファイバ11および12は互いに接近されて両端
部がクランプ13,14により保持される。一方のクラ
ンプ14は固定され、他方のクランプ13は延伸用クラ
ンプであって、モータ15により駆動されて光ファイバ
11,12の長手方向に沿って固定クランプ14から離
れる方向に移動させることができ、つまり光ファイバ1
1,12に張力を印加することができる。
【0010】クランプ13,14間の中間部において、
光ファイバ11,12のむき出されたクラッド部を接触
させた状態で加熱手段としてのバーナ16,17によっ
て加熱して両光ファイバ11,12を融着させることが
できる。この融着部26はある範囲内にわたって行うた
めバーナ16,17は移動ステージ18に保持され、光
ファイバ11,12の長手方向に沿ってある範囲内を移
動させることができる。このようにして光ファイバ1
1,12のクラッドを互いに接触させた状態で加熱し、
かつ延伸機つまりクランプ13およびモータ15によっ
て光ファイバ11,12に延伸させるように応力を与
え、その光ファイバの融着部26を細くすると同時に内
部の両コアを互いに接近させて、その両光ファイバ1
1,12を互いに光結合させる。
光ファイバ11,12のむき出されたクラッド部を接触
させた状態で加熱手段としてのバーナ16,17によっ
て加熱して両光ファイバ11,12を融着させることが
できる。この融着部26はある範囲内にわたって行うた
めバーナ16,17は移動ステージ18に保持され、光
ファイバ11,12の長手方向に沿ってある範囲内を移
動させることができる。このようにして光ファイバ1
1,12のクラッドを互いに接触させた状態で加熱し、
かつ延伸機つまりクランプ13およびモータ15によっ
て光ファイバ11,12に延伸させるように応力を与
え、その光ファイバの融着部26を細くすると同時に内
部の両コアを互いに接近させて、その両光ファイバ1
1,12を互いに光結合させる。
【0011】その光結合状態を測定するため、一方の光
ファイバ11の一端に光源19から光を入射し、その光
が光ファイバ11の他端より出射する光量と、その他端
側において他方の光ファイバ12より出射する光量とを
それぞれ光検出器21,22で検出し、これら光検出器
21,22の出力から分岐比測定器23でその分岐比を
測定する。その測定結果を制御器24に与え、制御器2
4は目的とする分岐比が得られるようにモータ15およ
び移動ステージ18を制御する。分岐比は例えば光ファ
イバ11の入射光量に対するその同一光ファイバ11の
出射光量、つまり光検出器21の検出出力の割合を%で
表示したものである。つまり光ファイバ11,12の結
合が強くなると、分岐比は小さくなる。
ファイバ11の一端に光源19から光を入射し、その光
が光ファイバ11の他端より出射する光量と、その他端
側において他方の光ファイバ12より出射する光量とを
それぞれ光検出器21,22で検出し、これら光検出器
21,22の出力から分岐比測定器23でその分岐比を
測定する。その測定結果を制御器24に与え、制御器2
4は目的とする分岐比が得られるようにモータ15およ
び移動ステージ18を制御する。分岐比は例えば光ファ
イバ11の入射光量に対するその同一光ファイバ11の
出射光量、つまり光検出器21の検出出力の割合を%で
表示したものである。つまり光ファイバ11,12の結
合が強くなると、分岐比は小さくなる。
【0012】次にこの発明による実施例を図2を参照し
て説明しよう。図2Aに示すようにこの実施例において
は、まず伝搬定数が異なる二つの光ファイバ11および
12を用意する。この光ファイバ11および12の伝搬
定数の差は適当な値、つまり任意の値でよく、通常一般
に作られている光ファイバにおいては製造メーカの違い
により、あるいは製造ロットの違いにより伝搬定数が異
なっている。従って市販されている光ファイバの2本を
ただ任意に取り出して用意すればよい。たとえば図6B
に示すような典型的な広帯域光ファイバカプラに必要な
伝搬定数差は、約0.4 cm-1である必要があるのに対し
て、この発明によればこの伝搬定数の差は前記差に対し
て1桁程度の差つまり0.04cm-1乃至4.0cm-1程度があ
ってもよく、場合によっては0.04cm-1以下、4.0cm-1
以上の伝搬定数の差であってもよい。
て説明しよう。図2Aに示すようにこの実施例において
は、まず伝搬定数が異なる二つの光ファイバ11および
12を用意する。この光ファイバ11および12の伝搬
定数の差は適当な値、つまり任意の値でよく、通常一般
に作られている光ファイバにおいては製造メーカの違い
により、あるいは製造ロットの違いにより伝搬定数が異
なっている。従って市販されている光ファイバの2本を
ただ任意に取り出して用意すればよい。たとえば図6B
に示すような典型的な広帯域光ファイバカプラに必要な
伝搬定数差は、約0.4 cm-1である必要があるのに対し
て、この発明によればこの伝搬定数の差は前記差に対し
て1桁程度の差つまり0.04cm-1乃至4.0cm-1程度があ
ってもよく、場合によっては0.04cm-1以下、4.0cm-1
以上の伝搬定数の差であってもよい。
【0013】このように光ファイバ11,12に対して
伝搬定数の差をもたらすのは前述したように市販されて
いる光ファイバの任意の2本をもってきてもよいが、積
極的にその1本を延伸し、これと延伸しないものとを用
いることにより両光ファイバ間に伝搬定数の差を設け
る。あるいは2本の光ファイバ11,12を共に延伸す
るが、その延伸量を異ならせることによって伝搬定数の
差を設ける。または2本の光ファイバをそれぞれクラッ
ド部分をエッチングによりその外径に差を付け、つまり
一方をエッチングすることなく、他方のみをエッチング
し、あるいは両者ともエッチングするが、そのエッチン
グ量を異ならせて光ファイバ11および12に伝搬定数
の差を付ける。
伝搬定数の差をもたらすのは前述したように市販されて
いる光ファイバの任意の2本をもってきてもよいが、積
極的にその1本を延伸し、これと延伸しないものとを用
いることにより両光ファイバ間に伝搬定数の差を設け
る。あるいは2本の光ファイバ11,12を共に延伸す
るが、その延伸量を異ならせることによって伝搬定数の
差を設ける。または2本の光ファイバをそれぞれクラッ
ド部分をエッチングによりその外径に差を付け、つまり
一方をエッチングすることなく、他方のみをエッチング
し、あるいは両者ともエッチングするが、そのエッチン
グ量を異ならせて光ファイバ11および12に伝搬定数
の差を付ける。
【0014】次に図2Bに示すように、光ファイバ1
1,12の中間部におけるクラッド部分を互いに接触さ
せた状態において、その部分をバーナ16,17で加熱
すると共に両光ファイバ11,12に張力F1 を与えて
両光ファイバ11,12を融着延伸させる。このように
して光ファイバ11,12の融着部26の両クラッド部
分が細くなると共にコア部分も細くなり、かつ両コア部
分が互いに接近して光ファイバ11と12とが光学的に
結合し、つまり一方の光ファイバ11より伝搬して来た
光が融着部26で他方の光ファイバ12にも分岐して伝
搬するようになる。
1,12の中間部におけるクラッド部分を互いに接触さ
せた状態において、その部分をバーナ16,17で加熱
すると共に両光ファイバ11,12に張力F1 を与えて
両光ファイバ11,12を融着延伸させる。このように
して光ファイバ11,12の融着部26の両クラッド部
分が細くなると共にコア部分も細くなり、かつ両コア部
分が互いに接近して光ファイバ11と12とが光学的に
結合し、つまり一方の光ファイバ11より伝搬して来た
光が融着部26で他方の光ファイバ12にも分岐して伝
搬するようになる。
【0015】この光ファイバ11と12との光結合は任
意でよい、つまり両光ファイバ11および12が単に光
結合すればよく、その結合の程度は任意でよい。従って
従来の光ファイバカプラの製造において行われている融
着延伸と同一条件で行ってもよい。また前述したように
光ファイバ11,12が例えばそのクラッド部分がエッ
チングされて薄くされている場合においては、両光ファ
イバ11,12を接触させて単に融着させるだけで特に
延伸を行わなくても光ファイバ11,12は光学的に結
合するようになる。
意でよい、つまり両光ファイバ11および12が単に光
結合すればよく、その結合の程度は任意でよい。従って
従来の光ファイバカプラの製造において行われている融
着延伸と同一条件で行ってもよい。また前述したように
光ファイバ11,12が例えばそのクラッド部分がエッ
チングされて薄くされている場合においては、両光ファ
イバ11,12を接触させて単に融着させるだけで特に
延伸を行わなくても光ファイバ11,12は光学的に結
合するようになる。
【0016】次に図2Cに示すように図2Bに示した光
結合を可能とされた光ファイバ11,12において、そ
の光ファイバ11,12の結合状態、つまり分岐比を測
定してその分岐比が所定の状態となるように、両光ファ
イバ11および12の融着部26を処理し、つまりその
融着部26について前記光結合させる工程に対し、加熱
温度を変更し、あるいは延伸力をF1 からF2 に変化、
またはその両者を行って光ファイバ11,12の結合状
態を変化させて融着部26における最小分岐比が目的と
する値になるように処理する。
結合を可能とされた光ファイバ11,12において、そ
の光ファイバ11,12の結合状態、つまり分岐比を測
定してその分岐比が所定の状態となるように、両光ファ
イバ11および12の融着部26を処理し、つまりその
融着部26について前記光結合させる工程に対し、加熱
温度を変更し、あるいは延伸力をF1 からF2 に変化、
またはその両者を行って光ファイバ11,12の結合状
態を変化させて融着部26における最小分岐比が目的と
する値になるように処理する。
【0017】例1 例えば図2Bにおいて光ファイバ11および12を光結
合させるために、従来における光ファイバカプラの製造
法における融着延伸時の加熱温度、張力をそのまま適用
した。その結合状態における分岐比を測定したところ、
図3Aに示す状態となった。つまり光ファイバ11の一
端に入射された波長1.55μm の光はその光ファイバ1
1の他端よりその入射光の約24%であった。また、こ
の時の最小分岐比は10%程度であり、すなわち光ファ
イバ11に入射さた光はその10%程度しかその光ファ
イバ11の他端から出射されず、あと残りの90%は光
ファイバ12側に分岐してしまう状態であった。従って
波長1.3μm と波長1.55μm においてそれぞれ分岐比
が50%となるようにするためには、これらの波長の中
間において最小分岐比を40%程度にする必要がある。
合させるために、従来における光ファイバカプラの製造
法における融着延伸時の加熱温度、張力をそのまま適用
した。その結合状態における分岐比を測定したところ、
図3Aに示す状態となった。つまり光ファイバ11の一
端に入射された波長1.55μm の光はその光ファイバ1
1の他端よりその入射光の約24%であった。また、こ
の時の最小分岐比は10%程度であり、すなわち光ファ
イバ11に入射さた光はその10%程度しかその光ファ
イバ11の他端から出射されず、あと残りの90%は光
ファイバ12側に分岐してしまう状態であった。従って
波長1.3μm と波長1.55μm においてそれぞれ分岐比
が50%となるようにするためには、これらの波長の中
間において最小分岐比を40%程度にする必要がある。
【0018】そこで図2Cの工程において図2Bの工程
における光ファイバ11,12に対する延伸応力を一定
としたまま光ファイバ11,12に対する加熱温度を低
くし、延伸はしないようにする。このようにすると融着
部26におけるコアの間隔が広くなる。つまり光ファイ
バ11,12は図2Dに示すように、その心線に対して
外被27が被せられ、融着部26の両側においてはクラ
ッド部分がむき出されており、この外被27は融着部2
6に対してかなり太くなっている。この光ファイバ1
1,12はその外被27を接触させた状態でクランプ1
3,14により保持され、その融着部26に対し張力が
与えられるが、クランプ13,14における光ファイバ
11,12のコアの中心間の間隔d1 に対して融着部2
6におけるコアの間隔d2 はかなり小さく、クランプ1
3,14の位置からするとコアが互いに漸次接近した状
態になっている。このためクランプ13,14により引
き延ばされるような応力F1 が光ファイバ11,12に
与えられると、たるんでいる両コアが張るように作用
し、融着部26におけるコアに、その間隔d2 が大にな
る方向の力F3 が作用する。
における光ファイバ11,12に対する延伸応力を一定
としたまま光ファイバ11,12に対する加熱温度を低
くし、延伸はしないようにする。このようにすると融着
部26におけるコアの間隔が広くなる。つまり光ファイ
バ11,12は図2Dに示すように、その心線に対して
外被27が被せられ、融着部26の両側においてはクラ
ッド部分がむき出されており、この外被27は融着部2
6に対してかなり太くなっている。この光ファイバ1
1,12はその外被27を接触させた状態でクランプ1
3,14により保持され、その融着部26に対し張力が
与えられるが、クランプ13,14における光ファイバ
11,12のコアの中心間の間隔d1 に対して融着部2
6におけるコアの間隔d2 はかなり小さく、クランプ1
3,14の位置からするとコアが互いに漸次接近した状
態になっている。このためクランプ13,14により引
き延ばされるような応力F1 が光ファイバ11,12に
与えられると、たるんでいる両コアが張るように作用
し、融着部26におけるコアに、その間隔d2 が大にな
る方向の力F3 が作用する。
【0019】よって融着部26に対する加熱温度が下げ
られているため融着部26がそれ程軟化してない状態に
おいて、このように光ファイバ11,12に張力が与え
られると、融着部26は延伸することなく、そのコアの
間隔d2 が離されるように作用し、両コア間の光結合が
小さくなり、従ってこの場合は時間と共に分岐比が大き
くなる。そこで光ファイバ11の出射される光を観測し
て図4Aに示すように波長1.55μm における分岐比が
56%になったときに加熱および張力の印加を停止す
る。このときほゞ波長1.3μm ,1.55μm において分
岐比はそれぞれ50%程度、つまり最小分岐比が約40
%程度になる。
られているため融着部26がそれ程軟化してない状態に
おいて、このように光ファイバ11,12に張力が与え
られると、融着部26は延伸することなく、そのコアの
間隔d2 が離されるように作用し、両コア間の光結合が
小さくなり、従ってこの場合は時間と共に分岐比が大き
くなる。そこで光ファイバ11の出射される光を観測し
て図4Aに示すように波長1.55μm における分岐比が
56%になったときに加熱および張力の印加を停止す
る。このときほゞ波長1.3μm ,1.55μm において分
岐比はそれぞれ50%程度、つまり最小分岐比が約40
%程度になる。
【0020】第2工程(図2B)に対して加熱温度を弱
くする手段としてはバーナ16,17に対するガス流量
を制限したり、あるいは融着部26からバーナ16,1
7の距離をそれぞれ遠ざけることによって行い、または
電熱により加熱する場合においては、その電熱器に対す
る電流を減少することによって融着部26に対する加熱
温度を下げる。あるいは同様にその電熱器を融着部26
から離すことによって融着部26における加熱温度を下
げることができる。
くする手段としてはバーナ16,17に対するガス流量
を制限したり、あるいは融着部26からバーナ16,1
7の距離をそれぞれ遠ざけることによって行い、または
電熱により加熱する場合においては、その電熱器に対す
る電流を減少することによって融着部26に対する加熱
温度を下げる。あるいは同様にその電熱器を融着部26
から離すことによって融着部26における加熱温度を下
げることができる。
【0021】例2 例1と同様に伝搬定数の異なる光ファイバを用意してそ
れを融着延伸し、そのときの分岐比を測定したところ、
つまり第2工程(図2B)を終了したときに図3Bに示
すように波長1.55μm において分岐比が75%となっ
た。つまりこの場合は、前記例1と異なり、最小分岐比
が目的とする値よりかなり大きくなった場合であり、従
ってこの場合においては、次の第3工程(図2C)にお
いてその分岐比を小さくする必要がある。
れを融着延伸し、そのときの分岐比を測定したところ、
つまり第2工程(図2B)を終了したときに図3Bに示
すように波長1.55μm において分岐比が75%となっ
た。つまりこの場合は、前記例1と異なり、最小分岐比
が目的とする値よりかなり大きくなった場合であり、従
ってこの場合においては、次の第3工程(図2C)にお
いてその分岐比を小さくする必要がある。
【0022】このため第2工程(図2B)における場合
より延伸応力を約6分の1に小さくすると共に、融着部
26に対する加熱温度を低くした。このように延伸応力
がかなり小さくなるとクランプ13,14間がわずか短
くなり、また融着部26に対する加熱温度も低くされて
いるため、クランプ13,14間の光ファイバ11,1
2のコアが第2工程よりもたるむように作用し、融着部
26において両コアが互いに接近する。よって光ファイ
バ11の入射光に対する他端の出射光は少なくなり、す
なわち分岐比が増加する。波長1.55μm における分岐
比が図4Bに示すように50%程度に低下したときに、
その加熱および延伸応力の印加を停止した。このとき分
岐比の最小値は約40%となり、目的とする広帯域光フ
ァイバカプラが得られた。
より延伸応力を約6分の1に小さくすると共に、融着部
26に対する加熱温度を低くした。このように延伸応力
がかなり小さくなるとクランプ13,14間がわずか短
くなり、また融着部26に対する加熱温度も低くされて
いるため、クランプ13,14間の光ファイバ11,1
2のコアが第2工程よりもたるむように作用し、融着部
26において両コアが互いに接近する。よって光ファイ
バ11の入射光に対する他端の出射光は少なくなり、す
なわち分岐比が増加する。波長1.55μm における分岐
比が図4Bに示すように50%程度に低下したときに、
その加熱および延伸応力の印加を停止した。このとき分
岐比の最小値は約40%となり、目的とする広帯域光フ
ァイバカプラが得られた。
【0023】例3 光ファイバ11,12を任意に選んで組み合わせ、第2
工程(図2B)において例1と同様に融着延伸して光結
合させた。このとき分岐比は例1の場合と同様に図3A
に示したようになった。つまり最小分岐比は10%程度
であり、その光ファイバ11に対し入力された光に対し
て光ファイバ12に分岐する量が多過ぎた。
工程(図2B)において例1と同様に融着延伸して光結
合させた。このとき分岐比は例1の場合と同様に図3A
に示したようになった。つまり最小分岐比は10%程度
であり、その光ファイバ11に対し入力された光に対し
て光ファイバ12に分岐する量が多過ぎた。
【0024】この場合においては第3工程(図2C)で
最小分岐比を大きくしなければならないが、このため加
熱温度を第2工程よりも低くして、その場合の温度を低
くするが例1の場合よりは高くして延伸もする。これに
よって融着部26における光ファイバ11,12のコア
の径が小さくなる割合よりもコア間隔d2 が小さくなる
割合の方が小さくなるようにする。言い換えると、コア
の径に対するコアの間隔が大きくなるように延伸する。
このようにしながら分岐比を測定し、分岐比が図6Bに
示すような状態、すなわち1.55μm で48%位になっ
て加熱、延伸を停止した。このとき最小分岐比は46%
程度となった。
最小分岐比を大きくしなければならないが、このため加
熱温度を第2工程よりも低くして、その場合の温度を低
くするが例1の場合よりは高くして延伸もする。これに
よって融着部26における光ファイバ11,12のコア
の径が小さくなる割合よりもコア間隔d2 が小さくなる
割合の方が小さくなるようにする。言い換えると、コア
の径に対するコアの間隔が大きくなるように延伸する。
このようにしながら分岐比を測定し、分岐比が図6Bに
示すような状態、すなわち1.55μm で48%位になっ
て加熱、延伸を停止した。このとき最小分岐比は46%
程度となった。
【0025】上述の何れの場合においても、第2工程に
おいて光ファイバ11,12を融着して互いに光結合さ
せるが、その工程を連続して第3ステップを行ってもよ
い。つまり両工程とも分岐比を測定しながら連続して行
う。上述において光ファイバに対する応力、つまり引っ
張り力の制御は前述したようにモータによる場合の他
に、錘りによる場合、磁力による場合などで行うことが
できる。
おいて光ファイバ11,12を融着して互いに光結合さ
せるが、その工程を連続して第3ステップを行ってもよ
い。つまり両工程とも分岐比を測定しながら連続して行
う。上述において光ファイバに対する応力、つまり引っ
張り力の制御は前述したようにモータによる場合の他
に、錘りによる場合、磁力による場合などで行うことが
できる。
【0026】前記例1,例2における分岐比の制御と対
応した実験によるグラフを図5に示す。図5において横
軸は融着部26の縦に対する横の比、いわゆるアスペク
ト比を示す。このアスペクト比が小さいとコアの間隔が
接近し、それだけ相手方に対し光が分岐する量が多く、
分岐比は小さくなり、逆にアスペクト比が大きいとコア
の間隔が大きく相手方に分岐する量が少なく分岐比は大
きくなる。
応した実験によるグラフを図5に示す。図5において横
軸は融着部26の縦に対する横の比、いわゆるアスペク
ト比を示す。このアスペクト比が小さいとコアの間隔が
接近し、それだけ相手方に対し光が分岐する量が多く、
分岐比は小さくなり、逆にアスペクト比が大きいとコア
の間隔が大きく相手方に分岐する量が少なく分岐比は大
きくなる。
【0027】例1の第3工程において光ファイバに印加
した応力をある程度の強さとするが、加熱温度を低くし
て延伸しない程度に両光ファイバに張力を与えてコアの
間隔を大きくするようにした場合、時間が経過する程図
中,,,と示すように分岐比が大きくなり、つ
まりコアの間隔が大きくなっていく様子が判る。一方、
例2の第3工程において光ファイバに対する張力を小さ
くすることによって、それまでの光ファイバに与えた張
力に対応したクランプ13,14間に対したるみが生
じ、融着部26の両光ファイバコアが時間と共に接近す
る。その様子は図5中1,2,3,4,5と○印を付け
ない番号で示してあり、それぞれ時間と共に分岐比が小
さくなり、コアの間隔が広がって行く様子が判る。
した応力をある程度の強さとするが、加熱温度を低くし
て延伸しない程度に両光ファイバに張力を与えてコアの
間隔を大きくするようにした場合、時間が経過する程図
中,,,と示すように分岐比が大きくなり、つ
まりコアの間隔が大きくなっていく様子が判る。一方、
例2の第3工程において光ファイバに対する張力を小さ
くすることによって、それまでの光ファイバに与えた張
力に対応したクランプ13,14間に対したるみが生
じ、融着部26の両光ファイバコアが時間と共に接近す
る。その様子は図5中1,2,3,4,5と○印を付け
ない番号で示してあり、それぞれ時間と共に分岐比が小
さくなり、コアの間隔が広がって行く様子が判る。
【0028】上述においては2本の光ファイバを融着さ
せて光ファイバカプラとしたが、3本以上の光ファイバ
を同様に融着して同様の方法によって広帯域光ファイバ
とすることもできる。
せて光ファイバカプラとしたが、3本以上の光ファイバ
を同様に融着して同様の方法によって広帯域光ファイバ
とすることもできる。
【0029】
【発明の効果】以上述べたように、この発明によれば使
用する光ファイバの伝搬定数の差を精密に制御すること
なく、つまりそのコア径の比を精密に制御する必要がな
く、ただ適当に既存の光ファイバを用いれば、通常それ
ら間にばらつきによって伝搬定数に差があるから、それ
を使用してその光ファイバをまず融着して単に光結合さ
せ、その分岐比を測定してこれに応じて目的とする最低
の分岐比が得られるようにその融着部を制御すればよ
く、従来技術と比較して頗る簡単に広帯域光ファイバカ
プラを製造することができる。
用する光ファイバの伝搬定数の差を精密に制御すること
なく、つまりそのコア径の比を精密に制御する必要がな
く、ただ適当に既存の光ファイバを用いれば、通常それ
ら間にばらつきによって伝搬定数に差があるから、それ
を使用してその光ファイバをまず融着して単に光結合さ
せ、その分岐比を測定してこれに応じて目的とする最低
の分岐比が得られるようにその融着部を制御すればよ
く、従来技術と比較して頗る簡単に広帯域光ファイバカ
プラを製造することができる。
【図1】この発明の方法に用いる光ファイバカプラ製造
装置の構成例を示す図。
装置の構成例を示す図。
【図2】この発明による光ファイバカプラの製造方法の
工程を示す図。
工程を示す図。
【図3】例1および2における各第2工程後の結合状態
の波長依存性を示す図。
の波長依存性を示す図。
【図4】例2および3において第3工程を終了し、広帯
域光ファイバカプラを得た状態の波長依存性を示す図。
域光ファイバカプラを得た状態の波長依存性を示す図。
【図5】例1,例2における第3工程における処理によ
り分岐比を制御できることを説明するための実験結果を
示す図。
り分岐比を制御できることを説明するための実験結果を
示す図。
【図6】Aは従来の狭帯域光ファイバカプラの分岐比の
波長依存性を示す図、Bは広帯域光ファイバカプラの分
岐比の波長依存性を示す図。
波長依存性を示す図、Bは広帯域光ファイバカプラの分
岐比の波長依存性を示す図。
Claims (1)
- 【請求項1】 伝搬定数が異なる少なくとも2本以上の
光ファイバを用意する第1工程と、 これら用意された少なくとも2本以上の光ファイバを少
なくとも融着させて相互に光結合させる第2工程と、 その融着された少なくとも2本以上の光ファイバのその
融着部分を加熱および張力を印加して処理して最小分岐
比が目的とする値になるように制御する第3工程と、 を有する広帯域光ファイバカプラの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4111574A JP3066444B2 (ja) | 1992-04-30 | 1992-04-30 | 広帯域光ファイバカプラの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4111574A JP3066444B2 (ja) | 1992-04-30 | 1992-04-30 | 広帯域光ファイバカプラの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05307128A true JPH05307128A (ja) | 1993-11-19 |
JP3066444B2 JP3066444B2 (ja) | 2000-07-17 |
Family
ID=14564830
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4111574A Expired - Fee Related JP3066444B2 (ja) | 1992-04-30 | 1992-04-30 | 広帯域光ファイバカプラの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3066444B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0351808A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ファイバ形カプラの製造方法 |
JPH0363609A (ja) * | 1989-07-31 | 1991-03-19 | Japan Aviation Electron Ind Ltd | 広帯域光ファイバカプラ及びその製造方法 |
-
1992
- 1992-04-30 JP JP4111574A patent/JP3066444B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0351808A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ファイバ形カプラの製造方法 |
JPH0363609A (ja) * | 1989-07-31 | 1991-03-19 | Japan Aviation Electron Ind Ltd | 広帯域光ファイバカプラ及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3066444B2 (ja) | 2000-07-17 |
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