JPH05303090A - ブラックマトリックス基板およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 液晶ディスプレイ等のフラットディスプレ
イ、ＣＣＤ等のイメージャー、あるいはカラーセンサ等
のカラーフィルタに用いることのできる寸法精度が高く
遮光性に優れ反射率の低いブラックマトリックス基板、
および、そのようなブラックマトリックス基板を低コス
トで製造することのできる製造方法を提供する。 【構成】 透明基板上にブラックマトリックス用パター
ンを有する親水性樹脂を含有したレリーフを形成し、こ
のレリーフを無電解メッキ液に接触させレリーフ内に略
均一に金属粒子を析出させることによりブラックマトリ
ックス用パターンを有する遮光層を形成してブラックマ
トリックス基板とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はブラックマトリックス基
板およびその製造方法に係り、特に、寸法精度が高く遮
光性に優れたブラックマトリックス基板およびその製造
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、フラットディスプレーとして、モ
ノクロあるいはカラーの液晶ディスプレイが注目されて
いる。液晶ディスプレイには、３原色の制御を行うため
にアクティブマトリックス方式および単純マトリックス
方式とがあり、いずれの方式においてもカラーフィルタ
が用いられている。そして、カラーの液晶ディスプレイ
は構成画素部を３原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）とし、液晶の電気
的スイッチングにより３原色の各光の透過を制御してカ
ラー表示を行うものである。

【０００３】このカラーフィルタは、透明基板上に各着
色層と保護層と透明電極層を形成して構成されている。
そして、発色効果や表示コントラストを上げるために、
着色層のＲ，Ｇ，Ｂの各画素の境界部分に遮光層（ブラ
ックマトリックス）が形成される。また、アクティブマ
トリックス方式の液晶ディスプレイでは、薄膜トランジ
スタ（ＴＦＴ）をスイッチング素子として用いているた
め、光リーク電流を抑制する必要がある。このため、遮
光層（ブラックマトリックス）に対してより高い遮光性
が要求される。このような遮光層はカラーの液晶ディス
プレイのみではなく、モノクロの液晶ディスプレイにも
同様の理由で必要とされている。

【０００４】従来、ブラックマトリックスとしては、ク
ロム薄膜をフォトエッチングしてレリーフ形成したも
の、親水性樹脂レリーフを染色したもの、黒色顔料を分
散した感光液を用いてレリーフ形成したもの、黒色電着
塗料を電着して形成したもの、印刷により形成したもの
等がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
クロム薄膜をフォトエッチングしてレリーフ形成したも
のは寸法精度が高いものの、蒸着やスパッタ等の真空成
膜工程が必要であることや、製造工程が複雑であるため
に製造コストが高く、また、強い外光の下での表示コン
トラストを高めるためにクロムの反射率を抑える必要が
生じ、このため、製造コストが更にかかる低反射クロム
のスパッタ等を行う必要があった。また、上述の黒色染
料や顔料を分散した感光性レジストを用いる方法は、製
造コストは安価となるが、感光性レジストが黒色のため
フォトプロセスが不充分となり易いことや、充分な遮光
性が得難い等、高品質なブラックマトリックスが得られ
ないという問題があった。さらに、上述の印刷方法によ
るブラックマトリックス形成も製造コストの低減は可能
であるが、寸法精度が低いという問題があった。

【０００６】本発明は上述のような事情に鑑みてなされ
たものであり、液晶ディスプレイ等のフラットディスプ
レイ、ＣＣＤ等のイメージャー、あるいはカラーセンサ
等のカラーフィルタに用いることのできる寸法精度が高
く遮光性に優れ反射率の低いブラックマトリックス基
板、および、そのようなブラックマトリックス基板を低
コストで製造することのできる製造方法を提供すること
を目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は透明基板と、該透明基板上に形成さ
れた内部に金属粒子を含有する遮光層とを有するような
構成とした。

【０００８】また、本発明は透明基板上に形成した親水
性樹脂を含有する感光性レジスト層を、ブラックマトリ
ックス用パターンを有するフォトマスクを介して露光・
現像して前記透明基板上にレリーフを形成し、この透明
基板を無電解メッキの触媒となる金属化合物の水溶液に
接触させ、金属化合物をレリーフ中に含有させ乾燥した
後、熱処理を施し、その後、前記透明基板上のレリーフ
を無電解メッキ液に接触させることによりブラックマト
リックス用パターンを有する遮光層を形成するような構
成とした。

【０００９】さらに、本発明は透明基板上に形成した親
水性樹脂と無電解メッキの触媒となる金属化合物とを含
有する感光性レジスト層を、ブラックマトリックス用パ
ターンを有するフォトマスクを介して露光・現像し水洗
して乾燥した後、熱処理を施して前記透明基板上にレリ
ーフを形成し、その後、前記透明基板上のレリーフを無
電解メッキ液に接触させることによりブラックマトリッ
クス用パターンを有する遮光層を形成するような構成と
した。

【００１０】

【作用】透明基板上に形成されたブラックマトリックス
用のレリーフに無電解メッキを行って金属を析出して遮
光層を形成するが、この際、上記レリーフには親水性樹
脂が含有されているので、無電解メッキ液がこのレリー
フに充分浸透してレリーフ内に略均一に金属粒子が析出
される。このため、形成されたブラックマトリックス基
板は、光学濃度が高いとともに反射率の低い寸法精度の
良好なものであり、また、真空プロセス等が不要である
ため、製造コストの低減が可能となる。

【００１１】

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１は、本発明により製造されたブラック
マトリックス基板を用いたアクティブマトリックス方式
による液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の一例を示す斜視図
であり、図２は同じく概略断面図である。図１および図
２において、ＬＣＤ１はカラーフィルタ１０と透明ガラ
ス基板２０とをシール材３０を介して対向させ、その間
に捩れネマティック（ＴＮ）液晶からなる厚さ約５〜１
０μｍ程度の液晶層４０を形成し、さらに、カラーフィ
ルタ１０と透明ガラス基板２０の外側に偏光板５０，５
１が配設されて構成されている。

【００１２】図３はカラーフィルタ１０の拡大部分断面
図である。図３においてカラーフィルタ１０は、透明基
板１３上に遮光層（ブラックマトリックス）１４を形成
したブラックマトリックス基板１２と、このブラックマ
トリックス基板１２のブラックマトリックス１４間に形
成された着色層１６と、このブラックマトリックス１４
と着色層１６を覆うように設けられた保護層１８および
透明電極１９を備えている。このカラーフィルタ１０は
透明電極１９が液晶層４０側に位置するように配設され
ている。そして、着色層１６は赤色パターン１６Ｒ、緑
色パターン１６Ｇ、青色パターン１６Ｂからなり、各着
色パターンの配列は図１に示されるようにモザイク配列
となっている。尚、着色パターンの配列はこれに限定さ
れるものではなく、三角配列、ストライプ配列等として
もよい。

【００１３】また、透明ガラス基板２０上には表示電極
２２が各着色パターン１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂに対応す
るように設けられ、各表示電極２２は薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）２４を有している。また、各表示電極２２間
にはブラックマトリックス１４に対応するように走査線
（ゲート電極母線）２６ａとデータ線２６ｂが配設され
ている。

【００１４】このようなＬＣＤ１では、各着色パターン
１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂが画素を構成し、偏光板５１側
から照明光を照射した状態で各画素に対応する表示電極
をオン、オフさせることで液晶層４０がシャッタとして
作動し、着色パターン１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂのそれぞ
れの画素を光が透過してカラー表示が行われる。

【００１５】カラーフィルタ１０を構成するブラックマ
トリックス基板１２の透明基板１３としては、石英ガラ
ス、低膨脹ガラス、ソーダライムガラス等の可撓性のな
いリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂
板等の可撓性を有するフレキシブル材等を用いることが
できる。このなかで、特にコーニング社製７０５９ガラ
スは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高
温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にア
ルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、ア
クティブマトリックス方式によるＬＣＤ用のカラーフィ
ルタに適している。

【００１６】ここで、本発明によるブラックマトリック
ス基板１２の製造の一例を図４を参照して説明する。先
ず透明基板１３上に親水性樹脂を含有する感光性レジス
トを塗布して厚さ０．１〜５．０μｍ、好ましくは０．
１〜０．２μｍ程度の感光性レジスト層３を形成する
（図４（Ａ））。感光性レジストの塗布厚が０．１μｍ
未満の場合、金属粒子の析出が不充分となり、充分な光
学濃度を有する遮光層が得られず、また、塗布厚が５．
０μｍを越えると解像度が低下するので好ましくない。
また、表面凹凸の点から、塗布厚を２．０μｍ以下とす
ることが好ましい。次に、ブラックマトリックス用のフ
ォトマスク９を介して感光性レジスト層３を露光する
（図４（Ｂ））。そして、露光後の感光性レジスト層３
を現像してブラックマトリックス用のパターンを有する
レリーフ４を形成する（図４（Ｃ））。次に、この透明
基板１３を無電解メッキの触媒となる金属化合物の水溶
液に浸漬し水洗して乾燥した後、熱処理（１００〜２０
０℃、５〜３０分間）を施して触媒含有レリーフ５とす
る（図４（Ｄ））。そして、透明基板１３上の触媒含有
レリーフ５を無電解メッキ液に接触させることにより遮
光層とし、ブラックマトリックス１４を形成する（図４
（Ｅ））。

【００１７】また、本発明によるブラックマトリックス
基板１２の製造の他の例を図５を参照して説明する。先
ず透明基板１３上に親水性樹脂および無電解メッキの触
媒となる金属化合物の水溶液を含有する感光性レジスト
を塗布して厚さ０．１〜５．０μｍ程度の感光性レジス
ト層７を形成する（図５（Ａ））。次に、ブラックマト
リックス用のフォトマスク９を介して感光性レジスト層
７を露光する（図５（Ｂ））。そして、露光後の感光性
レジスト層７を現像して乾燥した後、熱処理（１００〜
２００℃、５〜３０分間）を施してブラックマトリック
ス用のパターンを有する触媒含有レリーフ８を形成する
（図５（Ｃ））。次に、透明基板１３上の触媒含有レリ
ーフ８を無電解メッキ液に接触させることにより遮光層
とし、ブラックマトリックス１４を形成する（図５
（Ｄ））。

【００１８】本発明において用いる感光性レジストとし
ては、例えばゼラチン、カゼイン、グルー、卵白アルブ
ミン等の天然タンパク質、カルボキシメチルセルロー
ス、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキ
サイド、無水マレイン酸共重合体、及び上記の樹脂のカ
ルボン酸変性物あるいはスルホン酸変性物等の親水性樹
脂を１種、あるいは複数種を混合したものに対し、例え
ば、ジアゾ基を有するジアゾニウム化合物およびパラホ
ルムアルデヒドの反応生成物であるジアゾ樹脂、アジド
基を有するアジド化合物、ポリビニルアルコールにケイ
皮酸を縮合したケイ皮酸縮合樹脂、スチルバゾリウム塩
を用いた樹脂、重クロム酸アンモニウム等の光硬化型の
感光性基を有するものを添加することで感光性を付与し
たものを挙げることができる。尚、感光性基は上述の光
硬化型感光性基に限定されないことは勿論である。

【００１９】このように、感光性レジスト中に親水性樹
脂が含有されていることにより、上述のように触媒含有
レリーフ５，８が無電解メッキ液と接触した際に、無電
解メッキ液が触媒含有レリーフに浸透し易くなり、触媒
含有レリーフ中に均一に金属粒子が析出することにな
る。したがって、形成されたブラックマトリックス１４
は充分な黒さと低反射率を有することになり、従来のク
ロム薄膜形成における金属層による反射という問題が解
消され得る。

【００２０】本発明において用いる無電解メッキの触媒
となる金属化合物は、例えばパラジウム、金、銀、白
金、銅等の塩化物、硝酸塩等の水溶性塩、及び錯化合物
が用いられ、水溶液として市販されている無電解メッキ
用のアクチベータ溶液をそのまま用いることができる。
このような金属化合物を上述のように感光性レジスト中
に含有させる場合、０．００００１〜０．００１重量％
程度含有されることが好ましい。

【００２１】無電解メッキ液は、例えば次亜リン酸、次
亜リン酸ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、Ｎ−ジ
メチルアミンボラン、ボラジン誘導体、ヒドラジン、ホ
ルマリン等の還元剤と、例えばニッケル、コバルト、
鉄、銅、クロム等の水溶性の被還元性重金属塩と、メッ
キ速度、還元効率等を向上させるカセイソーダ、水酸化
アンモニウム等の塩基性化合物と、無機酸、有機酸等ｐ
Ｈ調節剤、クエン酸ナトリウム、酢酸ナトリウム等のオ
キシカルボン酸、ホウ酸、炭酸、有機酸、無機酸のアル
カリ塩に代表される緩衝剤と、重金属イオンの安定性を
目的とした錯化剤の他、促進剤、安定剤、界面活性剤等
とを有する無電解メッキ液が使用される。また、２種以
上の無電解メッキ液を併用してもよい。例えば、まず、
核（例えば無電解メッキの触媒となる金属化合物として
パラジウムを使用した場合はパラジウムの核）を作り易
い水素化ホウ素ナトリウムのようなホウ素系還元剤を含
む無電解メッキ液を用い、次に、金属析出速度の速い次
亜リン酸系還元剤を含む無電解メッキ液を用いることが
できる。

【００２２】上述したいずれのブラックマトリックス基
板の製造方法においても、得られた遮光層の波長５４５
ｎｍにおける反射率は、最大３０％、通常５％以下であ
り、これは、従来のクロム薄膜による遮光層の反射率
（５０〜８０％）に比べ、極めて低く、良好な表示品位
を得ることができる。

【００２３】また、この遮光層は、内部に分散している
金属粒子の粒子径が最大０．０５μｍ、通常０．０１〜
０．０２μｍであり、ムラの無い均一な膜を形成してい
る。尚、上述したいずれのブラックマトリックス基板の
製造方法においても、メッキ時間を変化させることで光
学濃度が３．０以上の遮光層を得ることができるが、前
述したＴＦＴへの遮光やコントラストの向上の点から、
光学濃度１．５以上が好ましい。光学濃度１．５以下の
場合では、遮光層として十分に機能せず、ブラックマト
リックス基板として供し得ない。

【００２４】更に、遮光層の膜厚についても感光性レジ
ストの塗布膜厚を変化させることで自由に設定すること
ができるが、前述したようにブラックマトリックス基板
の表面凹凸、解像力および光学濃度の点から、遮光層の
膜厚は、０．１〜５．０μｍ、好ましくは０．１〜２．
０μｍの範囲とする。

【００２５】上述のようなブラックマトリックス基板１
２のブラックマトリックス１４間における赤色パターン
１６Ｒ、緑色パターン１６Ｇ、青色パターン１６Ｂから
なる着色層１６の形成は、染色法、分散法、印刷法、電
着法等の公知の種々の方法に従って行うことができる。

【００２６】カラーフィルタ１０のブラックマトリック
ス１４と着色層１６を覆うように設けられる保護層１８
は、カラーフィルタ１０の表面平滑化、信頼性の向上、
および液晶層４０への汚染防止等を目的とするものであ
り、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹
脂等の透明樹脂、あるいは二酸化ケイ素等の透明無機化
合物等を用いて形成することができる。保護層の厚さは
０．１〜１０μｍ程度が好ましい。

【００２７】透明共通電極１９としては、酸化インジウ
ムスズ（ＩＴＯ）膜を用いることができる。ＩＴＯ膜は
蒸着法、スパッタ法等の公知の方法により形成すること
ができ、厚さは２００〜２０００Å程度が好ましい。

【００２８】次に、実験例を示して本発明を更に詳細に
説明する。 （実験例１）試料１ 透明基板としてコーニング社製７０５９ガラス（厚さ＝
１．１ｍｍ）を用い、スピンコート法（回転数＝８００
r.p.m.）により下記組成の感光性レジストを透明基板上
に塗布し、その後、７０℃、５分間の条件で乾燥して感
光性レジスト層（厚さ＝２μｍ）を形成した。 （感光性レジストの組成） ・ポリビニルアルコール１０％水溶液 （日本合成化学製ゴーセナールＴ−３３０） …２０重量部 ・ジアゾ樹脂２０％水溶液（シンコー技研製Ｄ−０１１） …０．８重量部 ・水 …１５重量部 次に、感光性レジスト層に対してブラックマトリックス
用のフォトマスク（線幅＝２０μｍ）を介して露光を行
った。露光用の光源は超高圧水銀灯２ｋｗを用い、１０
秒間照射した。その後、常温の水を用いてスプレー現像
を行いエアー乾燥してブラックマトリックス用の線幅２
０μｍのレリーフを形成した。

【００２９】次に、この透明基板を塩化パラジウム水溶
液（日本カニゼン製レッドシューマー）に１０秒間浸漬
し、水洗、水切り後、１５０℃、１５分間の熱処理を施
して、上記のレリーフを触媒含有レリーフとした。

【００３０】その後、透明基板をホウ素系還元剤を含む
３０℃のニッケルメッキ液（奥野製薬製ニッケルメッキ
液トップケミアロイＢ−１）に３分間浸漬させ、水洗乾
燥して遮光層（ブラックマトリックス）を形成し、ブラ
ックマトリックス基板（試料１）を得た。試料２〜４ また、感光性レジスト層の厚さを、それぞれ１μｍ，４
μｍ，１０μｍとした他は、試料１と同様にしてブラッ
クマトリックス基板（試料２〜４）を作成した。試料５ また、試料１に用いたのと同じ透明基板を用いてスピン
コート法（回転数＝８００r.p.m.）により下記組成の感
光性レジストを塗布し、その後、７０℃、５分間の条件
で乾燥して感光性レジスト層（厚さ＝２μｍ）を形成し
た。 （感光性レジストの組成） ・ポリビニルアルコール１０％水溶液 （日本合成化学製ゴーセナールＴ−３３０） …２０重量部 ・ジアゾ樹脂２０％水溶液（シンコー技研製Ｄ−０１１） …０．８重量部 ・塩化パラジウム水溶液 （日本カニゼン製レッドシューマー） …１５重量部 次に、感光性レジスト層に対してブラックマトリックス
用のフォトマスク（線幅＝２０μｍ）を介して露光を行
った。露光用の光源は超高圧水銀灯２ｋｗを用い、１０
秒間照射した。その後、常温の水を用いてスプレー現像
を行いエアー乾燥後、１５０℃、１５分間の熱処理を施
してブラックマトリックス用の線幅２０μｍの触媒含有
レリーフを形成した。

【００３１】次に、透明基板をホウ素系還元剤を含む３
０℃のニッケルメッキ液（奥野製薬製ニッケルメッキ液
トップケミアロイＢ−１）に２０秒間浸漬し、その後、
さらに次亜リン酸系還元剤を含む３０℃のニッケルメッ
キ液（奥野製薬製ニッケルメッキ液Ｔｓｐ５５ニッケル
Ａ／Ｃ＝１／２）に２分間浸漬し、水洗乾燥して遮光層
（ブラックマトリックス）を形成し、ブラックマトリッ
クス基板（試料５）を得た。試料６〜８ また、感光性レジスト層の厚さを、それぞれ１μｍ，４
μｍ，１０μｍとした他は、試料５と同様にしてブラッ
クマトリックス基板（試料６〜８）を作成した。比較試料１ 透明基板としてコーニング社製７０５９ガラス（厚さ＝
１．１ｍｍ）を用い、この基板をフッ酸に浸漬してガラ
スのエッチングを行って、基板表面に前処理を施した。
この後、塩化第一スズと塩酸とにより基板の表面にスズ
イオンを吸着させた後、試料１と同様に塩化パラジウム
処理と無電解ニッケルメッキを行い、この後、常法によ
りブラックマトリックス基板（比較試料１）を得た。比較試料２ 試料１で用いたのと同じ透明基板を用いてスピンコート
法（回転数＝２００r.p.m.）により下記組成の感光性レ
ジストを塗布し、乾燥して感光性レジスト層（厚さ１μ
ｍ）を形成した。

【００３２】 （感光性レジストの組成） ・１０％ゼラチン水溶液 …１０重量部 ・１０％重クロム酸アンモニウム水溶液 …３重量部 次に、感光性レジスト層に対してブラックマトリックス
用のフォトマスク（線幅＝２０μｍ）を介して露光を行
った。露光用の光源は超高圧水銀灯２ｋｗを用い、１０
秒間照射した。その後、常温の水を用いてスプレー現像
を行いエアー乾燥してブラックマトリックス用の線幅２
０μｍのレリーフを形成した。

【００３３】次に、この透明基板を、６０〜７０℃の１
％塩化第１スズ溶液（１規定塩酸酸性）に６０〜１２０
秒間浸漬し、次いで０．３％塩化パラジウム溶液（１規
定塩酸酸性）に３０℃で３０〜６０秒間浸漬後水洗し
た。水洗後直ちに７０〜８０℃のニッケルメッキ液（日
本カニゼン製ブルーシューマー）に浸漬し、無電解メッ
キを試みたが、スズが全面に付着しているため、ニッケ
ルはレリーフだけではなく、基板全体に析出してしま
い、ブラックマトリックスの形成はできなかった。

【００３４】次に、上記の各ブラックマトリックス基板
（試料１〜８、比較試料１〜２）について、ブラックマ
トリックスの光学濃度ＯＤ、波長５４５ｎｍにおける反
射率Ｒ、解像度（ライン・アンド・スペース）および遮
光層中に析出したニッケル粒子の粒子径を測定した。測
定結果は表１に示した。

【００３５】

【表１】

【００３６】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によればブ
ラックマトリックス基板は、内部にまで金属を含有して
なる遮光層（ブラックマトリックス）を有しており、こ
のブラックマトリックスは光学濃度が高いとともに反射
率が低く寸法精度の高いものであり、したがってブラッ
クマトリックス基板は信頼性が高く高コントラストが可
能なカラーフィルタを構成し得るものであるとともに、
真空プロセス等が不要であるため、製造コストの低減が
可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明により製造されたブラックマトリックス
基板を用いたアクティブマトリックス方式による液晶デ
ィスプレイの一例を示す斜視図である。

【図２】図１に示される液晶ディスプレイの概略断面図
である。

【図３】図１に示される液晶ディスプレイに用いられて
いるカラーフィルタの拡大部分断面図である。

【図４】本発明によるブラックマトリックス基板の製造
方法を説明するための工程図である。

【図５】本発明によるブラックマトリックス基板の製造
方法を説明するための工程図である。

【符号の説明】

５，８…触媒含有レリーフ ９…ブラックマトリックス用のフォトマスク １０…カラーフィルタ １２…ブラックマトリックス基板 １３…透明基板 １４…ブラックマトリックス（遮光層） １６…着色層 １６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ…着色パターン

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板と、該透明基板上に形成された
   内部に金属粒子を含有する遮光層とを有することを特徴
   とするブラックマトリックス基板。
2. 【請求項２】 透明基板上に形成した親水性樹脂を含有
   する感光性レジスト層を、ブラックマトリックス用パタ
   ーンを有するフォトマスクを介して露光・現像して前記
   透明基板上にレリーフを形成し、この透明基板を無電解
   メッキの触媒となる金属化合物の水溶液に接触させ、金
   属化合物をレリーフ中に含有させ乾燥した後、熱処理を
   施し、その後、前記透明基板上の触媒含有レリーフを無
   電解メッキ液に接触させることによりブラックマトリッ
   クス用パターンを有する遮光層を形成することを特徴と
   するブラックマトリックス基板の製造方法。
3. 【請求項３】 透明基板上に形成した親水性樹脂と無電
   解メッキの触媒となる金属化合物とを含有する感光性レ
   ジスト層を、ブラックマトリックス用パターンを有する
   フォトマスクを介して露光・現像し水洗して乾燥した
   後、熱処理を施して前記透明基板上に触媒含有レリーフ
   を形成し、その後、前記透明基板上のレリーフを無電解
   メッキ液に接触させることによりブラックマトリックス
   用パターンを有する遮光層を形成することを特徴とする
   ブラックマトリックス基板の製造方法。