JPH05299672A - 太陽電池素子 - Google Patents

太陽電池素子

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JPH05299672A
JPH05299672A JP4096602A JP9660292A JPH05299672A JP H05299672 A JPH05299672 A JP H05299672A JP 4096602 A JP4096602 A JP 4096602A JP 9660292 A JP9660292 A JP 9660292A JP H05299672 A JPH05299672 A JP H05299672A
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Kunihiro Matsukuma
邦浩 松熊
Shigeru Kokuuchi
滋 穀内
Yasuhiro Kida
康博 木田
Hideyuki Yagi
秀幸 八木
Yasushi Komata
恭 小俣
Yasuaki Uchida
泰明 内田
Kimio Hatsumi
君男 初見
Tadao Asahi
忠夫 朝日
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    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Abstract

(57)【要約】 【目的】 光電変換効率の向上及び製造コストの低減を
図ることにある。 【構成】 p型の第2層14の両側にn型の第1層13
及び複数個のn型の第3層15を有し、第1層13表面
から第2層14に達するn型の第4層16及び第3層1
5表面から第2層14に達するp型の第5層17を設
け、更に第4層16にコンタクトする第1の主電極及び
第3層15並びに第5層17にコンタクトする第2の主
電極を設けて、第1層13側を受光面としている。 【効果】 pn接合が分離されているため光電変換効率
の向上が図れ、かつスクリ−ン印刷によって主電極が形
成できるので製造コストの低減が可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体基体を使用する
太陽電池素子に関する。
【0002】
【従来の技術】現在まだ発電原価が高い太陽光発電が一
般電源として普及するためには、太陽電池の変換効率の
向上と製造コストの低減が必要である。最近、太陽電池
の変換効率の向上とその製造コストの低減が期待できる
裏面接触太陽電池素子及び粒状太陽電池が発表されてい
る。現在では、これら素子の製造原価低減の努力が進め
られており、第5回国際太陽電池科学技術会議(199
0年)、テクニカル ダイジェスト、第508頁にはス
クリ−ン印刷技術を用いる製法に適した裏面接触太陽電
池素子が論じられるようになっている。また、第22回
IEEE太陽電池専門家国際会議(1991年)で低コスト
の粒状太陽電池素子が論じられるようになっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術における
太陽電池素子は、工程数が大幅に低減された簡易なプロ
セスにより製作できる素子構造となっているが、更に製
造コストの低減に関して不十分な点がある。即ち、一対
の主電極及びこれと接続された一対のn+層とp+層と
の接合分離に多くの工数を必要とする問題がある。
【0004】本発明の目的は、上記問題を解決し光電変
換効率の向上及び製造コストの低減を図ることにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的は、p型シリコ
ン基板(またはn型シリコン基板)の主表面にpn接合
を形成するn+層(またはp+層)が島状に接合分離され、
島状に接合分離されたn+層(またはp+層)の一方の一部
がn+シリコン再成長層(またはp+シリコン再成長層)で
貫通され、他方の一部が一方の導電型とは逆のp+シリ
コン再成長層(またはn+シリコン再成長層)で貫通さ
れ、島状に接合分離されたn+層(またはp+層)とn+シ
リコン再成長層(またはp+シリコン再成長層)とが一対
の主電極と接続された構成により達成される。
【0006】n+シリコン再成長層は金−アンチモンと
シリコンとの合金反応によって、p+シリコン再成長層
はアルミニウムとシリコンとの合金反応によってそれぞ
れ形成された層である。この合金反応は、シリコン基板
表面に被覆されたシリコン酸化膜、酸化チタン膜、薄い
n+層、薄いp+層を貫通して、シリコン合金層及びシリ
コン再成長層を形成する。また、銀ペ−スト中に小さな
アルミニウム粒または小さな金アンチモン粒を混合した
ペ−ストとの合金反応においても同様である。一方、銀
ペ−スト中に小さなアルミニウム粒または小さな金アン
チモン粒を混ぜてシリコンと合金反応させた電極は、耐
アルカリエッチング性が良好である。また、シリコン酸
化膜、酸化チタン膜は耐アルカリエッチング性が良好で
ある。
【0007】これらのことから、p型シリコン基板(ま
たはn型シリコン基板)の主表面にpn接合を形成する
n+層(またはp+層)上に、一方の電極となる銀ペ−スト
中に小さなアルミニウム粒を混合したペ−ストと、他方
の電極となる銀ペ−スト中に小さな金アンチモン粒を混
合したペ−ストとを印刷し、焼成して合金反応した後、
アルカリエッチングによりp型シリコン基板(またはn
型シリコン基板)の主表面にpn接合を形成するn+層
(またはp+層)を除去し、更にシリコンを除去すること
により上記目的が達成される。
【0008】
【作用】シリコン太陽電池では、太陽光によって生成し
た電子及び正孔の電荷はpn接合によって分離され、p
型領域には正孔が溜りn型領域には電子が溜り、この電
荷二重層により起電力を発生する。
【0009】上記構成により、p型シリコン及びp+シ
リコン再成長層には正孔が溜り、n+層及びn+シリコン
再成長層には電子が溜り、この電荷二重層により起電力
を発生する。この起電力によって、p型シリコン及びp
+シリコン再成長層に溜った正孔はp+シリコン再成長
層と接するn+層にはリ−クするが、n+層の上に電極
材ペ−ストを印刷し、アルカリエッチングを行うことに
より、n+層はp型シリコンとは島状にpn接合分離さ
れているため一対の他方のn+層にはリ−クすることな
く一対の一方の主電極に引き出される。n+層及びn+シ
リコン再成長層に溜った電子は同様にリ−クすることな
く一対の他方の主電極に引き出される。
【0010】このようにして光電変換効率が向上し、p
n接合分離の為の製造コストが低減される。
【0011】
【実施例】以下本発明の実施例を図面を用いて詳細に説
明する。
【0012】図1は本発明太陽電池素子の一実施例を示
す概略断面図である。本図において、1は受光面となる
第1の主表面11及び裏面となる凹凸面の第2の主表面
12を持つ半導体基板で、第1の主表面11に隣接する
n型導電性の第1の層13、第1の層13及び第2の主
表面12の凹面部に隣接し第1の層13より低不純物濃
度を有するp型導電性の第2の層14、第2の層14及
び第2の主表面12の凸面部に隣接し第2の層14より
高不純物濃度を有するn型導電性の第3の層15、第1
の主表面11の選ばれた複数個の個所から第1の層13
を貫通して第2の層14まで延びる第2の層14より高
不純物濃度を有するn型導電性の第4の層16、第2の
主表面12の凸面部の選ばれた複数個の個所から第3の
層15を貫通して第2の層14まで延びる第2の層14
より高不純物濃度を有するp型導電性の第5の層17か
らなっている。2は第1の主表面11上に酸化チタンで
形成された光反射防止膜、3は光反射防止膜2を貫通し
て第4の層16内に延びる金シリコン合金の第1の部分
31及び光反射防止膜2の選ばれた個所上に形成され第
1の部分31に接触する金アンチモン粒を混合した銀ペ
−ストの第2の部分32からなる第1の主電極、4は第
2の主表面12の凸面部から第5の層17内に延びるア
ルミニウムシリコン合金の第1の部分41及び第2の主
表面12の凸面部上に形成され第1の部分41に接触す
るアルミニウム粒を混合した銀ペ−ストの第2の部分4
2からなる第2の主電極である。
【0013】次にかかる構成の太陽電池素子の製造方法
を説明する。
【0014】図2は製造工程を示すフローチヤートであ
る。
【0015】まず、p型で比抵抗1Ωcm、厚さ220
μmのシリコン基板を準備し、この表面をKOHを数%
含むアルカリエッチング液で約20μmエッチング処理
して加工歪層を除去すると共にテクスチュア面にする。
エッチング処理したシリコン基板の両面にオキシ塩化燐
(POCl3)拡散を850℃で30分行い、深さ約
0.5μmのn+層を形成する。次に受光面となる面に
常圧CVD法で厚さ約500Åの酸化チタン膜を形成す
る。また、裏面となる面に形成されたn+層の上に、粒
径10数μmのアルミニウム粒を銀ペ−ストに重量比9
7%銀−重量比3%アルミニウム粒の割合で混合したも
のを印刷し、750℃で1分間焼成して、p+層、第2
の主電極の第1の部分及び第2の部分を形成する。次に
酸化チタン膜の上に重量比93%金−重量比1%アンチ
モン−重量比6%シリコンから粒径10数μmの合金粒
を、銀ペ−ストに重量比97%銀−重量比3%合金粒の
割合で混合したものを印刷し、750℃で1分間焼成し
て、第1の主電極の第1の部分及び第2の部分を形成す
る。最後に、KOHを数%含むアルカリエッチング液で
約2μmエッチングして、両面のn+層を島状にメサ型
にpn分離する。
【0016】このようにして製作した太陽電池素子は、
製造歩留まりも高く、高い光電変換効率を示した。
【0017】図3は図1の太陽電池素子の他の実施例を
示す概略断面図で、図1の実施例とは導電型が逆となっ
ている点で相違している。
【0018】本図において、半導体基板1は、第1の主
表面11に隣接するp型導電性の第1の層131、第1
の層131及び第2の主表面12の凹面部に隣接し第1
の層131より低不純物濃度を有するn型導電性の第2
の層141、第2の層141及び第2の主表面12の凸
面部に隣接し第2の層141より高不純物濃度を有する
p型導電性の第3の層151、第1の主表面11の選ば
れた複数個の個所から第1の層131を貫通して第2の
層141まで延びる第2の層141より高不純物濃度を
有するp型導電性の第4の層161、第2の主表面12
の凸面部の選ばれた複数個の個所から第3の層151を
貫通して第2の層141まで延びる第2の層141より
高不純物濃度を有するn型導電性の第5の層171から
なっている。3は光反射防止膜2を貫通して第4の層1
61内に延びるアルミニウムシリコン合金の第1の部分
31及び光反射防止膜2の選ばれた個所上に形成され第
1の部分31に接触するアルミニウム粒を混合した銀ペ
−ストの第2の部分32からなる第1の主電極、4は第
2の主表面12の凸面部から第5の層171内に延びる
金シリコン合金の第1の部分41及び第2の主表面12
の凸面部上に形成され第1の部分41に接触する金アン
チモン粒を混合した銀ペ−ストの第2の部分42からな
る第2の主電極である。第4の層161及び第5の層1
71はそれぞれ再成長層である。
【0019】図4は図3の太陽電池素子の製造工程を示
すフローチヤートである。
【0020】製造に際しては、まずn型で比抵抗1Ωc
m、厚さ220μmのシリコン基板を準備し、この表面
をKOHを数%含むアルカリエッチング液で約20μm
エッチング処理して加工歪層を除去すると共にテクスチ
ュア面にする。エッチング処理したシリコン基板の両面
に三臭化ボロン(BBr3)拡散を900℃で30分行
い、深さ約0.5μmのp+層を形成する。この時生成
したボロンガラスは弗酸で除去する。次に受光面となる
面に常圧CVD法で厚さ約500Åの酸化チタン膜を形
成する。また、裏面となる面に形成されたp+層の上
に、重量比93%金−重量比1%アンチモン−重量比6
%シリコンから粒径10数μmの合金粒を、銀ペ−スト
に重量比97%銀−重量比3%合金粒の割合で混合した
ものを印刷し、750℃で1分間焼成して、n+層、第
2の主電極の第1の部分及び第2の部分を形成する。次
に酸化チタン膜の上に粒径10数μmのアルミニウム粒
を銀ペ−ストに重量比97%銀−重量比3%アルミニウ
ム粒の割合で混合したものを印刷し、750℃で1分間
焼成して、p+層、第1の主電極の第1の部分及び第2
の部分を形成する。最後に、KOHを数%含むアルカリ
エッチング液で約2μmエッチングして、両面のp+層
を島状にメサ型にpn分離する。
【0021】このようにして製作した太陽電池素子は、
製造歩留まりも高く、高い光電変換効率を示した。
【0022】図5は本発明太陽電池素子の他の実施例を
示す概略断面図で、図1の実施例とは、裏面となる第2
の主表面12の第5の層17の間の凸面部において表面
から第3の層15を貫通して第2の層14まで延びる第
2の層14より高不純物濃度を有するn型導電性の第6
の層18を設け、第2の主表面12の凸面部から第6の
層18内に延びる金シリコン合金の第1の部分51及び
第2の主表面12の凸面部上に形成され第1の部分51
に接触する金アンチモン粒を混合した銀ペ−ストの第2
の部分52からなる第3の主電極5を形成した点にあ
る。第3の主電極5は第1の主電極3と同電位にして使
用される。
【0023】図6は図5の太陽電池素子の製造工程を示
すフローチヤートである。
【0024】図2のフローチヤートで裏面にアルミニウ
ム粒を混合した銀ペ−ストを印刷した後、金アンチモン
粒を混合した銀ペ−ストをアルミニウム粒を混合した銀
ペ−ストから離して印刷する工程を追加した点が図2と
相違している。
【0025】この太陽電池素子は裏面に設けられた第3
の主電極5からも電力が取り出せるため、光電変換効率
を更に向上できる。
【0026】図7は図5の太陽電池素子の他の実施例を
示す概略断面図で、図3の実施例とは、裏面となる第2
の主表面12の第5の層171の間の凸面部において表
面から第3の層151を貫通して第2の層141まで延
びる第2の層141より高不純物濃度を有するp型導電
性の第6の層181を設け、第2の主表面12の凸面部
から第6の層181内に延びるアルミニウムシリコン合
金の第1の部分51及び第2の主表面12の凸面部上に
形成され第1の部分51に接触するアルミニウム粒を混
合した銀ペ−ストの第2の部分52からなる第3の主電
極5を形成した点にある。第3の主電極5は第1の主電
極3と同電位にして使用される。
【0027】図8は図7の太陽電池素子の製造工程を示
すフローチヤートである。
【0028】図4のフローチヤートで裏面に金アンチモ
ン粒を混合した銀ペ−ストを印刷した後、アルミニウム
粒を混合した銀ペ−ストを金アンチモン粒を混合した銀
ペ−ストから離して印刷する工程を追加した点が図4と
相違している。
【0029】この太陽電池素子は裏面に設けられた第3
の主電極5からも電力が取り出せるため、光電変換効率
を更に向上できる。
【0030】図9は本発明の太陽電池素子の更に他の実
施例を示す概略断面図で、図5の実施例とは第4の層1
6及び第1の主電極3を除去して第1の主表面11全面
が受光面となるようにした点で相違している。
【0031】図10は図9の太陽電池素子の製造工程を
示すフローチヤートである。
【0032】図6のフローチヤートにおいて受光面に金
アンチモン粒を混合した銀ペ−ストを印刷する工程を除
去した点に特徴がある。
【0033】この太陽電池素子は、受光面に太陽光の遮
蔽物が存在しないため、図5の実施例に比較して光電変
換効率を更に向上できる。
【0034】図11は本発明の太陽電池素子の他の実施
例を示す概略断面図で、図7の実施例とは第4の層16
1及び第1の主電極3を除去して第1の主表面11全面
が受光面となるようにした点で相違している。
【0035】図12は図11の太陽電池素子の製造工程
を示すフローチヤートである。
【0036】図7のフローチヤートにおいて受光面にア
ルミニウム粒を混合した銀ペ−ストを印刷する工程を除
去した点に特徴がある。
【0037】この太陽電池素子は、受光面に太陽光の遮
蔽物が存在しないため、図5の実施例に比較して光電変
換効率を更に向上できる。
【0038】図13は本発明の太陽電池素子の更に他の
実施例を示す概略断面図で、この実施例の特徴は支持基
板上に多数個の太陽電池球を併設した点に特徴がある。
本図において、20はセラミックスからなる支持基板、
21は太陽電池球、22及び23は太陽電池球21を支
持基板20に接着する太陽電池球21の一対の電極であ
る。太陽電池球21は、全体として球状をなすp型の基
体211、基体211の支持基板20に対向する表面部
分に離れて形成した2個のn+層212、一方のn+層
212表面から基体211まで延びるn+層213、他
方のn+層212表面から基体211まで延びるp+層
214、基体211の支持基板20に対向する側とは反
対側の表面に形成した酸化チタン膜24からなってい
る。一方の電極22は隣接する太陽電池球21のn+層
213内に延びる金シリコン合金の第1の部分221、
及びn+層212、n+層213上に形成され第1の部
分221に接触する金アンチモン粒を混合した銀ペ−ス
トの第2の部分222とからなり、他方の電極23は隣
接する太陽電池球21のp+層214内に延びるアルミ
ニウムシリコン合金の第1の部分231、及びn+層2
12、p+層214上に形成され第1の部分231に接
触するアルミニウム粒を混合した銀ペ−ストの第2の部
分232からなっている。
【0039】図14は図13の太陽電池素子の製造工程
を示すフローチヤートである。
【0040】図10のフローチヤートにおいて、p型シ
リコン基板をp型シリコン球(粒)に替え、テクスチュ
アエッチングを止め、燐拡散を行い、これを予め金アン
チモン粒を混合した銀ペ−スト及びアルミニウム粒を混
合した銀ペ−ストを印刷した支持基板20上に散布して
接着した後、焼成する工程を具備している。シリコン基
板に比較してシリコン球(粒)は原理的に低価格のた
め、上述の実施例に比較して製造コストの低減が図れ
る。
【0041】図15は図13の太陽電池素子の他の実施
例を示す概略断面図で、図13とは導電型を逆にした点
で相違している。
【0042】本図において、太陽電池球25は、全体と
して球状をなすn型の基体251、基体251の支持基
板20に対向する表面部分に離れて形成した2個のp+
層252、一方のp+層252表面から基体251まで
延びるp+層253、他方のp+層252表面から基体
251まで延びるn+層254、基体251の支持基板
20に対向する側とは反対側の表面に形成した酸化チタ
ン膜24からなっている。一方の電極26は隣接する太
陽電池球25のp+層253内に延びるアルミニウムシ
リコン合金の第1の部分261、及びp+層252、p
+層253上に形成され第1の部分261に接触するア
ルミニウム粒を混合した銀ペ−ストの第2の部分262
とからなり、他方の電極27は隣接する太陽電池球25
のn+層254内に延びる金シリコン合金の第1の部分
271、及びp+層252、p+層254上に形成され
第1の部分271に接触する金アンチモン粒を混合した
銀ペ−ストの第2の部分272からなっている。
【0043】図16は図15の太陽電池素子の製造工程
を示すフローチヤートである。
【0044】図14のフローチヤートとは出発の基体が
n型であること及びボロン拡散の代わりに燐拡散を用い
る点で相違している。
【0045】
【発明の効果】本発明によれば、スクリ−ン印刷技術及
びアルカリエッチングを用いることにより、高い歩留ま
りでn+層とp層との接合分離ができ高い光電変換効率
が得られ、太陽電池素子の効率と経済性を向上させる効
果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の太陽電池素子の一実施例を示す概略断
面図である。
【図2】図1の太陽電池素子の製造方法の一例を示すフ
ローチャートである。
【図3】図1の太陽電池素子の他の実施例を示す概略断
面図である。
【図4】図3の太陽電池素子の製造方法の一例を示すフ
ローチャートである。
【図5】本発明の太陽電池素子の他の実施例を示す概略
断面図である。
【図6】図5の太陽電池素子の製造方法の一例を示すフ
ローチャートである。
【図7】図5の太陽電池素子の他の実施例を示す概略断
面図である。
【図8】図7の太陽電池素子の製造方法の一例を示すフ
ローチャートである。
【図9】本発明の太陽電池素子の他の実施例を示す概略
断面図である。
【図10】図9の太陽電池素子の製造方法の一例を示す
フローチャートである。
【図11】本発明の太陽電池素子の他の実施例を示す概
略断面図である。
【図12】図11の太陽電池素子の製造方法の一例を示
すフローチャートである。
【図13】本発明太陽電池素子の他の実施例を示す概略
断面図である。
【図14】図13の太陽電池素子の製造方法の一例を示
すフローチャートである。
【図15】図13の太陽電池素子の他の実施例を示す概
略断面図である。
【図16】図15の太陽電池素子の製造方法の一例を示
すフローチャートである。
【符号の説明】
1 半導体基板 2 反射防止膜 3 第1の主電極 4 第2の主電極 5 第3の主電極 11 主表面 12 主表面 13 n型の第1の層 14 p型の第2の層 15 n型の第3の層 16 n型の第4の層 17 p型の第5の層 31 第1の主電極の第1の部分 32 第1の主電極の第2の部分 41 第2の主電極の第1の部分 42 第2の主電極の第1第2の部分
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 八木 秀幸 茨城県日立市幸町3丁目1番1号 株式会 社日立製作所日立工場内 (72)発明者 小俣 恭 茨城県日立市幸町3丁目1番1号 株式会 社日立製作所日立工場内 (72)発明者 内田 泰明 茨城県日立市幸町3丁目1番1号 株式会 社日立製作所日立工場内 (72)発明者 初見 君男 茨城県日立市幸町3丁目1番1号 株式会 社日立製作所日立工場内 (72)発明者 朝日 忠夫 茨城県日立市幸町3丁目1番1号 株式会 社日立製作所日立工場内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 p型導電性のシリコン基板の受光面とな
    る一方の主表面にメサ構造で島状に分離形成されたn+
    型導電性の第1のn+層と、該第1のn+層の上に形成
    された光反射防止のための酸化チタン膜と、該酸化チタ
    ン膜及び前記第1のn+層を貫通して形成した金−シリ
    コン合金の一対の主電極の一方の第1の主電極と、該一
    方の第1の主電極と前記第1のn+層とに接しp型シリ
    コン基板とpn接合で接するように形成したn+型導電
    性のシリコン再成長の第2のn+層と、前記一方の第1
    の主電極と接する金−アンチモン粒を混合した銀ペ−ス
    トを焼成により形成した一方の第2の主電極と、前記一
    方の主表面と反対側に位置する裏面となる他方の主表面
    にメサ構造で島状に分離形成されたn+型導電性の第3
    のn+層と、該第3のn+層を貫通して形成したアルミ
    ニウム−シリコン合金の一対の主電極の他方の第1の主
    電極と、該他方の第1の主電極と第3のn+層とに接し
    p型シリコン基板と接するように形成したp+型導電性
    のシリコン再成長の第1のp+層と、前記第3のn+層
    及び他方の第1の主電極並びに第1のp+層と接するア
    ルミニウム粒を混合した銀ペ−ストの焼成により形成し
    た他方の第2の主電極とから構成されることを特徴とす
    る太陽電池素子。
  2. 【請求項2】 n型導電性のシリコン基板の受光面とな
    る一方の主表面にメサ構造で島状に分離形成されたp+
    型導電性の第1のp+層と、該第1のp+層の上に形成
    された光反射防止のための酸化チタン膜と、該酸化チタ
    ン膜及び前記第1のp+層を貫通して形成したアルミニ
    ウム−シリコン合金の一対の主電極の一方の第1の主電
    極と、該一方の第1の主電極と第1のp+層とに接しn
    型シリコン基板とpn接合で接するように形成したp+
    型導電性のシリコン再成長の第2のp+層と、前記一方
    の第1の主電極と接するアルミニウム粒を混合した銀ペ
    −ストを焼成により形成した一方の第2の主電極と、前
    記一方の主表面と反対側に位置する裏面となる他方の主
    表面にメサ構造で島状に分離形成されたp+型導電性の
    第3のp+層と、該第3のp+層を貫通して形成した金
    −シリコン合金の一対の主電極の他方の第1の主電極
    と、該他方の第1の主電極と第3のp+層とに接しn型
    シリコン基板と接するように形成したn+型導電性のシ
    リコン再成長の第1のn+層と、前記第3のp+層及び
    他方の第1の主電極並びに第1のn+層と接する金−ア
    ンチモン粒を混合した銀ペ−ストの焼成により形成した
    他方の第2の主電極とから構成されることを特徴とする
    太陽電池素子。
  3. 【請求項3】 前記裏面となる他方の主表面にメサ構造
    で島状に分離形成されたn+型導電性の第3のn+層を
    貫通して形成した金−シリコン合金の一対の主電極の一
    方の第1の主電極と、該一方の第1の主電極と前記第3
    のn+層とに接しp型シリコン基板とpn接合で接する
    ように形成したn+型導電性のシリコン再成長の第2の
    n+層と、前記一方の第1の主電極と接する金−アンチ
    モン粒を混合した銀ペ−ストの焼成により形成した一方
    の第2の主電極とを加えることにより構成されることを
    特徴とする請求項1に記載の太陽電池素子。
  4. 【請求項4】 前記裏面となる他方の主表面にメサ構造
    で島状に分離形成されたp+型導電性の第3のp+層を
    貫通して形成したアルミニウム−シリコン合金の一対の
    主電極の一方の第1の主電極と、該一方の第1の主電極
    と前記第3のp+層とに接しn型シリコン基板とpn接
    合で接するように形成したp+型導電性のシリコン再成
    長の第2のp+層と、前記一方の第1の主電極と接する
    アルミニウム粒を混合した銀ペ−ストの焼成により形成
    した一方の第2の主電極とを加えることにより構成され
    ることを特徴とする請求項2に記載の太陽電池素子。
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