JPH05290406A - 光記録媒体及び該媒体の製造方法 - Google Patents
光記録媒体及び該媒体の製造方法Info
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- JPH05290406A JPH05290406A JP4091039A JP9103992A JPH05290406A JP H05290406 A JPH05290406 A JP H05290406A JP 4091039 A JP4091039 A JP 4091039A JP 9103992 A JP9103992 A JP 9103992A JP H05290406 A JPH05290406 A JP H05290406A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 生産性、信頼性の高い光記録媒体及び該媒体
の製造方法の提供。 【構成】 比抵抗値１ＭΩ／ｃｍ2以上の純水にて表面
を洗浄された透明性基板上に記録層を積層してなる光記
録媒体及び透明性基板表面を比抵抗値１ＭΩ／ｃｍ2以
上の純水で洗浄した後に、該基板上に記録層を積層する
光記録媒体の製造方法。
の製造方法の提供。 【構成】 比抵抗値１ＭΩ／ｃｍ2以上の純水にて表面
を洗浄された透明性基板上に記録層を積層してなる光記
録媒体及び透明性基板表面を比抵抗値１ＭΩ／ｃｍ2以
上の純水で洗浄した後に、該基板上に記録層を積層する
光記録媒体の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光記録媒体及びその製
造方法に係り、特に透明性基板の処理方法に関する。
造方法に係り、特に透明性基板の処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】情報化社会への移行に伴い膨大な情報量
を処理するために記録手段として磁気，光等を利用した
記録媒体が実用化されつつある。特に光ディスクは、記
録容量が大きく、又、記録再生手段として媒体と非接触
である光ヘッドを使用するため信頼性が高い等の磁気デ
ィスクに無い有利な点が多く期待されている。この光デ
ィスクは、再生専用型，追記型，書き換え可能型の３種
類に分類され、特に、書き換え可能型光ディスクが注目
を浴びている。この書き換え可能型光ディスクには、各
種方式が開発中であり、光磁気記録方式と相変化記録方
式が有力である。これら、光ディスクは透明性基板と記
録膜より形成され、透明性基板は一般に案内溝及びプリ
フォーマットピットが表面に形成されており材料として
「ガラス」，ガラス表面に光硬化型樹脂を使用したいわ
ゆる「２Ｐ（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｙｍｅｎ）基板」，射
出成形法等を使用出来る高分子材料としてのポリカーボ
ネート，ポリメチルメタアクリレート，アモルファスポ
リオレフィン等が使用される。光ディスクの製造は一般
に上述した透明性基板を形成後、その表面に真空蒸着
法，スパッタリング法，塗布法等により記録膜及び必要
に応じ保護膜を形成する。
を処理するために記録手段として磁気，光等を利用した
記録媒体が実用化されつつある。特に光ディスクは、記
録容量が大きく、又、記録再生手段として媒体と非接触
である光ヘッドを使用するため信頼性が高い等の磁気デ
ィスクに無い有利な点が多く期待されている。この光デ
ィスクは、再生専用型，追記型，書き換え可能型の３種
類に分類され、特に、書き換え可能型光ディスクが注目
を浴びている。この書き換え可能型光ディスクには、各
種方式が開発中であり、光磁気記録方式と相変化記録方
式が有力である。これら、光ディスクは透明性基板と記
録膜より形成され、透明性基板は一般に案内溝及びプリ
フォーマットピットが表面に形成されており材料として
「ガラス」，ガラス表面に光硬化型樹脂を使用したいわ
ゆる「２Ｐ（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｙｍｅｎ）基板」，射
出成形法等を使用出来る高分子材料としてのポリカーボ
ネート，ポリメチルメタアクリレート，アモルファスポ
リオレフィン等が使用される。光ディスクの製造は一般
に上述した透明性基板を形成後、その表面に真空蒸着
法，スパッタリング法，塗布法等により記録膜及び必要
に応じ保護膜を形成する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
例では、記録膜形成前の透明性基板表面は必ずしもクリ
ーンな状態では無い。これは、透明性基板形成時及び形
成後の保存及び取り扱い時において装置からの発塵、人
間作業時の発塵があり、その塵が基板表面に付着し汚染
を発生しているためである。基板材料として光ディスク
の場合透明性材料を使用するために、それらは非導電性
材料であり静電気の帯電が大きく、特にプラスチック材
料を使用した場合は著しく汚染を発生させる。これら基
板表面の汚染はその上に形成する記録膜の欠陥を引き起
こし生産上の歩留りを低下させるのみでなく、長期保存
上記録膜の破壊の原因ともなり信頼性を低下させる。記
録膜として酸化されやすい希土類遷移金属を使用した光
磁気記録媒体において特に著しい傾向がある。一方、基
板表面の汚染を除去するために記録膜形成前に基板表面
に除電処理や気体を吹き付けたり、有機溶剤で洗浄した
りする方法があるが効果は必ずしも十分とは言えず又有
機溶剤、例えばエタノール、イソプロピルアルコール、
フロン系を使用した場合、透明性基板表面を僅かではあ
るが溶解し案内溝及びピット形状の変形を生じ、場合に
よっては、信号の劣化を生じる場合もある。
例では、記録膜形成前の透明性基板表面は必ずしもクリ
ーンな状態では無い。これは、透明性基板形成時及び形
成後の保存及び取り扱い時において装置からの発塵、人
間作業時の発塵があり、その塵が基板表面に付着し汚染
を発生しているためである。基板材料として光ディスク
の場合透明性材料を使用するために、それらは非導電性
材料であり静電気の帯電が大きく、特にプラスチック材
料を使用した場合は著しく汚染を発生させる。これら基
板表面の汚染はその上に形成する記録膜の欠陥を引き起
こし生産上の歩留りを低下させるのみでなく、長期保存
上記録膜の破壊の原因ともなり信頼性を低下させる。記
録膜として酸化されやすい希土類遷移金属を使用した光
磁気記録媒体において特に著しい傾向がある。一方、基
板表面の汚染を除去するために記録膜形成前に基板表面
に除電処理や気体を吹き付けたり、有機溶剤で洗浄した
りする方法があるが効果は必ずしも十分とは言えず又有
機溶剤、例えばエタノール、イソプロピルアルコール、
フロン系を使用した場合、透明性基板表面を僅かではあ
るが溶解し案内溝及びピット形状の変形を生じ、場合に
よっては、信号の劣化を生じる場合もある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、この様な従来
の問題に鑑みてなされたものであり、基板形成後、記録
膜形成前に、新たな洗浄処理方法により基板表面のゴ
ミ、異物等の付着汚染を減少し、生産性，信頼性，信号
特性に優れた媒体を製造する方法を提供することを目的
としたものである。
の問題に鑑みてなされたものであり、基板形成後、記録
膜形成前に、新たな洗浄処理方法により基板表面のゴ
ミ、異物等の付着汚染を減少し、生産性，信頼性，信号
特性に優れた媒体を製造する方法を提供することを目的
としたものである。
【０００５】そして、上記目的は、透明性基板と該基板
上に積層された記録層とを有する光記録媒体において、
前記基板の前記記録層が積層される側の表面は比抵抗値
１ＭΩ／ｃｍ2以上の純水で洗浄されていることによっ
て達成される。
上に積層された記録層とを有する光記録媒体において、
前記基板の前記記録層が積層される側の表面は比抵抗値
１ＭΩ／ｃｍ2以上の純水で洗浄されていることによっ
て達成される。
【０００６】又、透明性基板と該基板上に積層された記
録層とを有する光記録媒体の製造方法において、前記基
板上に前記記録層を積層する前に前記基板表面を比抵抗
値１ＭΩ／ｃｍ2以上の純水で洗浄することによって達
成される。
録層とを有する光記録媒体の製造方法において、前記基
板上に前記記録層を積層する前に前記基板表面を比抵抗
値１ＭΩ／ｃｍ2以上の純水で洗浄することによって達
成される。
【０００７】
【実施例】以下本発明を詳細に説明する。
【０００８】本発明に使用される透明性基板は案内溝及
び凹凸のプリフォーマットピットが形成されており材料
及び製法は、ガラス表面にエッチングにより形成するダ
イレクトエッチング法ガラス基板、ガラス表面に光硬化
型樹脂を塗布しスタンパーによる型押しにより形成する
ＺＰ法ガラス基板射出成形法等によるポリカーボネー
ト，アモルファスポリオレフィン等のプラスチック基板
が挙げられる。これら基板は基板形成時における欠陥検
査を抜き取り又は全数実施される。その後、必要に応じ
プラスチック基板の場合は成形時における残留応力除去
のための熱処理が実施される。
び凹凸のプリフォーマットピットが形成されており材料
及び製法は、ガラス表面にエッチングにより形成するダ
イレクトエッチング法ガラス基板、ガラス表面に光硬化
型樹脂を塗布しスタンパーによる型押しにより形成する
ＺＰ法ガラス基板射出成形法等によるポリカーボネー
ト，アモルファスポリオレフィン等のプラスチック基板
が挙げられる。これら基板は基板形成時における欠陥検
査を抜き取り又は全数実施される。その後、必要に応じ
プラスチック基板の場合は成形時における残留応力除去
のための熱処理が実施される。
【０００９】これらの工程を経て基板は記録層形成直前
に純水による洗浄前処理が実施される。洗浄方法は基板
１枚毎に枚葉式でも複数枚を専用のマガジンに収納し、
一括処理する方法でも良い。又、洗浄機は手動式でも自
動洗浄機を使用しても良い。洗浄槽は一槽のみでも良い
が洗浄効果を高めるために界面活性剤を含有した槽、超
音波やＣＯ2ガスを組み合わせた槽を併用した複数槽を
使用する事も可能である。洗浄に使用する純水は、非抵
抗値が１ＭΩ／ｃｍ2以上である純水が必要であり好ま
しくは２ＭΩ／ｃｍ2以上とするのが良い。純水の製造
方法としては陰イオン及び陽イオン交換樹脂を用いたイ
オン交換水が一般に使用されるが、蒸留水も使用可能で
ある。純水の使用温度は１０〜９０°の範囲、好ましく
は２０〜８０°の範囲である。特にプラスチック基板を
使用する場合は、耐熱特性により８０℃以下の温度で処
理する事が好ましい。この様に基板表面のクリーン化の
ための洗浄前処理を施された基板は、記録膜が形成され
る。記録膜形成の前に基板表面に吸着している水分等を
除去するために、加熱，真空，等の脱気処理を実施して
も良い。記録膜形成は、従来知られている様に金属膜、
有機材料膜を含む材料で構成され、再生専用型、追記
型、書き換え可能型等目的に応じて選択される。特に書
き換え可能型における光磁気ディスクは記録膜材料とし
て、化学的活性度の高い希土類−遷移金属非晶質合金、
例えばＴｂＦｅ，ＴｂＦｅＣｏ，ＧＤＦｅＣｏ，ＤｙＦ
ｅＣｏ，等が挙げられ、これら金属は、高い化学的活性
度より酸化反応が容易に促進されるため、基板表面のゴ
ミ、異物等の影響を受け易すく、本発明の基板表面の処
理は極めて有効である。
に純水による洗浄前処理が実施される。洗浄方法は基板
１枚毎に枚葉式でも複数枚を専用のマガジンに収納し、
一括処理する方法でも良い。又、洗浄機は手動式でも自
動洗浄機を使用しても良い。洗浄槽は一槽のみでも良い
が洗浄効果を高めるために界面活性剤を含有した槽、超
音波やＣＯ2ガスを組み合わせた槽を併用した複数槽を
使用する事も可能である。洗浄に使用する純水は、非抵
抗値が１ＭΩ／ｃｍ2以上である純水が必要であり好ま
しくは２ＭΩ／ｃｍ2以上とするのが良い。純水の製造
方法としては陰イオン及び陽イオン交換樹脂を用いたイ
オン交換水が一般に使用されるが、蒸留水も使用可能で
ある。純水の使用温度は１０〜９０°の範囲、好ましく
は２０〜８０°の範囲である。特にプラスチック基板を
使用する場合は、耐熱特性により８０℃以下の温度で処
理する事が好ましい。この様に基板表面のクリーン化の
ための洗浄前処理を施された基板は、記録膜が形成され
る。記録膜形成の前に基板表面に吸着している水分等を
除去するために、加熱，真空，等の脱気処理を実施して
も良い。記録膜形成は、従来知られている様に金属膜、
有機材料膜を含む材料で構成され、再生専用型、追記
型、書き換え可能型等目的に応じて選択される。特に書
き換え可能型における光磁気ディスクは記録膜材料とし
て、化学的活性度の高い希土類−遷移金属非晶質合金、
例えばＴｂＦｅ，ＴｂＦｅＣｏ，ＧＤＦｅＣｏ，ＤｙＦ
ｅＣｏ，等が挙げられ、これら金属は、高い化学的活性
度より酸化反応が容易に促進されるため、基板表面のゴ
ミ、異物等の影響を受け易すく、本発明の基板表面の処
理は極めて有効である。
【００１０】（実施例１）射出成形機に所定のプリグル
ープ及びプリフォーマットが形成されているスタンパー
をセットし、１３０ｍｍφ、１．２ｍｍｔの光磁気ディ
スク用透明基板をポリカーボネートにより作成した。こ
の基板は射出成形時に発生した内部残留応力を除去する
ために９０℃３時間のアニール熱処理を施される。アニ
ール処理された基板は保管用の専用容器内に保管され
る。次いで記録膜形成に先立ち、基板表面に付着、吸着
したゴミ、異物を除去するために純水洗浄前処理が行な
われる。この純水洗浄前処理は２０枚の基板を専用マガ
ジンに収納し、自動洗浄機により２槽処理される。１槽
目は、２ＭΩ／ｃｍ2の非抵抗値の３０℃純水でかつ超
音波を加え、２分間処理、２槽目は５ＭΩ／ｃｍ2の比
抵抗値の６０℃純水で２分間で引き上げ水切り処理を実
施する。この様にして得られた基板は、次いで真空成膜
機内に導入され、約１時間の真空脱気処理後、成膜され
る。成膜はスパッタリング法により誘電体保護膜として
Ｓｉ3Ｎ4 １０００Å、光磁気記録膜としてＴｂＦｅＣ
ｏ ２００Å、干渉膜としてＳｉ3Ｎ4 ３００Å、反射
膜としてＡｌ ５００Åが順次真空を破る事なく形成さ
れる。その後、成膜面にホットメルト系接着剤を塗布
し、２枚を貼り合わせる事により光磁気ディスクを製造
する。この様にして得られた光磁気ディスクは光磁気信
号による欠陥検査としてバイトエラーレイト（ＢＥＲ）
及びプリフォーマット出力信号を測定した。さらに信頼
性を調べる為に８０℃ ９０％ＲＨの環境下に１０００
Ｈ放置した後、バイトエラーレイトを測定した。結果は
表１に示した様に比較例に比べ欠陥は極めて小さくか
つ、信頼性が高い事が確認された。又、本発明方法によ
れば比較例に比べ、基板表面のダメージは無く良好なプ
リフォーマット信号が安定して得られる。
ープ及びプリフォーマットが形成されているスタンパー
をセットし、１３０ｍｍφ、１．２ｍｍｔの光磁気ディ
スク用透明基板をポリカーボネートにより作成した。こ
の基板は射出成形時に発生した内部残留応力を除去する
ために９０℃３時間のアニール熱処理を施される。アニ
ール処理された基板は保管用の専用容器内に保管され
る。次いで記録膜形成に先立ち、基板表面に付着、吸着
したゴミ、異物を除去するために純水洗浄前処理が行な
われる。この純水洗浄前処理は２０枚の基板を専用マガ
ジンに収納し、自動洗浄機により２槽処理される。１槽
目は、２ＭΩ／ｃｍ2の非抵抗値の３０℃純水でかつ超
音波を加え、２分間処理、２槽目は５ＭΩ／ｃｍ2の比
抵抗値の６０℃純水で２分間で引き上げ水切り処理を実
施する。この様にして得られた基板は、次いで真空成膜
機内に導入され、約１時間の真空脱気処理後、成膜され
る。成膜はスパッタリング法により誘電体保護膜として
Ｓｉ3Ｎ4 １０００Å、光磁気記録膜としてＴｂＦｅＣ
ｏ ２００Å、干渉膜としてＳｉ3Ｎ4 ３００Å、反射
膜としてＡｌ ５００Åが順次真空を破る事なく形成さ
れる。その後、成膜面にホットメルト系接着剤を塗布
し、２枚を貼り合わせる事により光磁気ディスクを製造
する。この様にして得られた光磁気ディスクは光磁気信
号による欠陥検査としてバイトエラーレイト（ＢＥＲ）
及びプリフォーマット出力信号を測定した。さらに信頼
性を調べる為に８０℃ ９０％ＲＨの環境下に１０００
Ｈ放置した後、バイトエラーレイトを測定した。結果は
表１に示した様に比較例に比べ欠陥は極めて小さくか
つ、信頼性が高い事が確認された。又、本発明方法によ
れば比較例に比べ、基板表面のダメージは無く良好なプ
リフォーマット信号が安定して得られる。
【００１１】（比較例１）実施例１において、成膜に先
立つ純水洗浄を実施しない事を除いては、全く同じ方法
にて、光磁気ディスクを製造し、測定した。
立つ純水洗浄を実施しない事を除いては、全く同じ方法
にて、光磁気ディスクを製造し、測定した。
【００１２】（比較例２）実施例２において、成膜に先
立つ純水洗浄を一般的な有機溶剤であるフロンエタノー
ル混合溶媒（Ｃ2Ｃｌ3Ｆ3／ＣＨ3ＣＨ2ＯＨ＝９４％／
６％）を使用して洗浄前処理を２分間実施した以外は、
全く同じ方法にて光磁気ディスクを製造し測定した。
立つ純水洗浄を一般的な有機溶剤であるフロンエタノー
ル混合溶媒（Ｃ2Ｃｌ3Ｆ3／ＣＨ3ＣＨ2ＯＨ＝９４％／
６％）を使用して洗浄前処理を２分間実施した以外は、
全く同じ方法にて光磁気ディスクを製造し測定した。
【００１３】
【表１】
【００１４】結果に示される様に本発明においては、欠
陥発生、耐久後の欠陥成長、等によるバイトエラーレイ
トの悪化は無く、かつ、プリフォーマット信号出力も良
好であり、極めて基板の洗浄前処理方法として有効であ
る事は確認された。
陥発生、耐久後の欠陥成長、等によるバイトエラーレイ
トの悪化は無く、かつ、プリフォーマット信号出力も良
好であり、極めて基板の洗浄前処理方法として有効であ
る事は確認された。
【００１５】
【発明の効果】以上説明した様に、光記録媒体における
透明基板表面を成膜に先立ち、比抵抗値１ＭΩ／ｃｍ2
以上の純水にて洗浄前処理を実施する事により、低欠陥
のかつ長期保存信頼性の高い光記録媒体が得られ、又、
あらかじめ形成してある溝、ピット形状を変形させず良
好な信号出力が得られる、効果がある。
透明基板表面を成膜に先立ち、比抵抗値１ＭΩ／ｃｍ2
以上の純水にて洗浄前処理を実施する事により、低欠陥
のかつ長期保存信頼性の高い光記録媒体が得られ、又、
あらかじめ形成してある溝、ピット形状を変形させず良
好な信号出力が得られる、効果がある。
【図１】本発明で製造される１例としての光記録媒体を
示した図。
示した図。
【符号の説明】 １ 透明性基板 ２ 誘電体保護膜 ３ 記録膜 ４ 干渉膜 ５ 反射膜 ６ 接着剤
Claims (3)
- 【請求項１】 透明性基板と該基板上に積層された記録
層とを有する光記録媒体において、 前記基板の前記記録層が積層される側の表面は比抵抗値
１ＭΩ／ｃｍ2以上の純水で洗浄されていることを特徴
とする光記録媒体。 - 【請求項２】 請求項１において、 前記基板はポリカーボネート又はアモルファスポリオレ
フィンより成ることを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項３】 透明性基板と該基板上に積層された記録
層とを有する光記録媒体の製造方法において、 前記基板上に前記記録層を積層する前に前記基板表面を
比抵抗値１ＭΩ／ｃｍ2以上の純水で洗浄することを特
徴とする光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4091039A JPH05290406A (ja) | 1992-04-10 | 1992-04-10 | 光記録媒体及び該媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4091039A JPH05290406A (ja) | 1992-04-10 | 1992-04-10 | 光記録媒体及び該媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05290406A true JPH05290406A (ja) | 1993-11-05 |
Family
ID=14015367
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4091039A Pending JPH05290406A (ja) | 1992-04-10 | 1992-04-10 | 光記録媒体及び該媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05290406A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0844608A2 (en) * | 1996-11-20 | 1998-05-27 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information medium |
-
1992
- 1992-04-10 JP JP4091039A patent/JPH05290406A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0844608A2 (en) * | 1996-11-20 | 1998-05-27 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information medium |
| EP0844608A3 (en) * | 1996-11-20 | 1999-09-08 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information medium |
| US6445676B1 (en) | 1996-11-20 | 2002-09-03 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information medium |
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