JPH05287022A - 分子の片末端にフェノール性水酸基を有するポリスチレンの製造方法 - Google Patents
分子の片末端にフェノール性水酸基を有するポリスチレンの製造方法Info
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- JPH05287022A JPH05287022A JP11231192A JP11231192A JPH05287022A JP H05287022 A JPH05287022 A JP H05287022A JP 11231192 A JP11231192 A JP 11231192A JP 11231192 A JP11231192 A JP 11231192A JP H05287022 A JPH05287022 A JP H05287022A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】分子の片末端にフェノール性水酸基を有し、分
子量分布の狭いポリスチレンの製造方法の提供。 【構成】４級アンモニウム塩の存在下で、ルイス酸性を
有するハロゲン化金属およびｐ−ｔ−ブトキシスチレン
のプロトン酸付加物からなる重合開始剤により、スチレ
ン単量体をリビングカチオン重合させ、得られる分子の
片末端にｐ−ｔ−ブトキシフェニル基を有するポリスチ
レンを、プロトン酸の水溶液と接触させることにより、
前記ｐ−ｔ−ブトキシフェニル基をｐ−ヒドロキシフェ
ニル基に転換することを特徴とする、分子の片末端にフ
ェノール性水酸基を有するポリスチレンの製造方法。 【効果】スチレン単量体および溶剤に関する高度な精製
操作を要せずに、ブロック共重合体の合成原料等として
好適な反応性ポリスチレンが得られる。
子量分布の狭いポリスチレンの製造方法の提供。 【構成】４級アンモニウム塩の存在下で、ルイス酸性を
有するハロゲン化金属およびｐ−ｔ−ブトキシスチレン
のプロトン酸付加物からなる重合開始剤により、スチレ
ン単量体をリビングカチオン重合させ、得られる分子の
片末端にｐ−ｔ−ブトキシフェニル基を有するポリスチ
レンを、プロトン酸の水溶液と接触させることにより、
前記ｐ−ｔ−ブトキシフェニル基をｐ−ヒドロキシフェ
ニル基に転換することを特徴とする、分子の片末端にフ
ェノール性水酸基を有するポリスチレンの製造方法。 【効果】スチレン単量体および溶剤に関する高度な精製
操作を要せずに、ブロック共重合体の合成原料等として
好適な反応性ポリスチレンが得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、分子の片末端にフェノ
ール性水酸基を有するポリスチレンの製造方法に関する
ものであり、本発明によって得られるポリスチレンは、
分子量分布が狭く、また上記官能基を有するために、他
のポリマーの改質等に有用である。
ール性水酸基を有するポリスチレンの製造方法に関する
ものであり、本発明によって得られるポリスチレンは、
分子量分布が狭く、また上記官能基を有するために、他
のポリマーの改質等に有用である。
【０００２】
【従来の技術】分子の末端に反応性官能基を有するポリ
マーは、例えばブロック共重合体の製造に用いられてい
るように、既存のポリマーに新たな物性・機能を付与す
るための材料として好適である。最近、この種のポリマ
ーについて、分子量分布の狭いポリマーが求められてお
り、リビングアニオン重合による製造法が検討されてい
るが、リビングアニオン重合法では、重合系の僅かな不
純物も問題となり、例えば水については、完全にゼロの
状態でないと重合が進行しないというように、工業化が
容易でない。
マーは、例えばブロック共重合体の製造に用いられてい
るように、既存のポリマーに新たな物性・機能を付与す
るための材料として好適である。最近、この種のポリマ
ーについて、分子量分布の狭いポリマーが求められてお
り、リビングアニオン重合による製造法が検討されてい
るが、リビングアニオン重合法では、重合系の僅かな不
純物も問題となり、例えば水については、完全にゼロの
状態でないと重合が進行しないというように、工業化が
容易でない。
【０００３】上記リビングアニオン重合法に対して、リ
ビングカチオン重合法では、重合に及ぼす不純物の影響
が少なく、重合開始剤１モル当り、0.０４〜0.０６モル
程度の水分が混入していても問題ないことが一般的に知
られている〔例えばMacromolecules（マクロモレキュー
ルズ），第１７巻，２６５頁（１９８４年）〕。従っ
て、リビングカチオン重合法によって、分子の末端に反
応性官能基を有するポリマーを製造することができれ
ば、単量体および溶剤に関する高度な精製操作を要せず
に、目的のポリマーを合成することが可能となる。
ビングカチオン重合法では、重合に及ぼす不純物の影響
が少なく、重合開始剤１モル当り、0.０４〜0.０６モル
程度の水分が混入していても問題ないことが一般的に知
られている〔例えばMacromolecules（マクロモレキュー
ルズ），第１７巻，２６５頁（１９８４年）〕。従っ
て、リビングカチオン重合法によって、分子の末端に反
応性官能基を有するポリマーを製造することができれ
ば、単量体および溶剤に関する高度な精製操作を要せず
に、目的のポリマーを合成することが可能となる。
【０００４】本発明においては、最近カチオン重合法で
もリビング重合が可能であることが見出されたスチレン
に着目して〔高分子学会予稿集，第３９巻，No２，２２
８頁（１９９０年）〕、容易な操作で、分子量分布が狭
くかつ分子の片末端にフェノール性水酸基を有するポリ
スチレンが得られる製法を提供しようとした。
もリビング重合が可能であることが見出されたスチレン
に着目して〔高分子学会予稿集，第３９巻，No２，２２
８頁（１９９０年）〕、容易な操作で、分子量分布が狭
くかつ分子の片末端にフェノール性水酸基を有するポリ
スチレンが得られる製法を提供しようとした。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成する
に至った。すなわち、本発明は、４級アンモニウム塩の
存在下で、ルイス酸性を有するハロゲン化金属およびｐ
−ｔ−ブトキシスチレンのプロトン酸付加物からなる重
合開始剤により、スチレン単量体をリビングカチオン重
合させ、得られる分子の片末端にｐ−ｔ−ブトキシフェ
ニル基を有するポリスチレンを、プロトン酸の水溶液と
接触させることにより、前記ｐ−ｔ−ブトキシフェニル
基をｐ−ヒドロキシフェニル基に転換することを特徴と
する、分子の片末端にフェノール性水酸基を有するポリ
スチレンの製造方法である。以下、本発明についてさら
に詳しく説明する。
を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成する
に至った。すなわち、本発明は、４級アンモニウム塩の
存在下で、ルイス酸性を有するハロゲン化金属およびｐ
−ｔ−ブトキシスチレンのプロトン酸付加物からなる重
合開始剤により、スチレン単量体をリビングカチオン重
合させ、得られる分子の片末端にｐ−ｔ−ブトキシフェ
ニル基を有するポリスチレンを、プロトン酸の水溶液と
接触させることにより、前記ｐ−ｔ−ブトキシフェニル
基をｐ−ヒドロキシフェニル基に転換することを特徴と
する、分子の片末端にフェノール性水酸基を有するポリ
スチレンの製造方法である。以下、本発明についてさら
に詳しく説明する。
【０００６】本発明におけるｐ−ｔ−ブトキシスチレン
のプロトン酸付加物は、ｐ−ｔ−ブトキシスチレンのビ
ニル基のβ位炭素およびα位炭素に、以下に説明するよ
うなプロトン酸における水素原子および残基が、それぞ
れ付加した化合物であり、例えばプロトン酸として塩化
水素を用いた場合には、１−（４−ｔ−ブトキシフェニ
ル）エチルクロライドがプロトン酸付加物となる。
のプロトン酸付加物は、ｐ−ｔ−ブトキシスチレンのビ
ニル基のβ位炭素およびα位炭素に、以下に説明するよ
うなプロトン酸における水素原子および残基が、それぞ
れ付加した化合物であり、例えばプロトン酸として塩化
水素を用いた場合には、１−（４−ｔ−ブトキシフェニ
ル）エチルクロライドがプロトン酸付加物となる。
【０００７】プロトン酸としては、塩化水素、臭化水
素、ヨウ化水素、メタンスルホン酸、硫酸、トリクロロ
酢酸、ジクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸およびｐ−トル
エンスルホン酸等が挙げられ、好ましくは塩化水素、臭
化水素、ヨウ化水素およびメタンスルホン酸である。ｐ
−ｔ−ブトキシスチレンとプロトン酸の付加反応は、ス
チレンの重合媒体として使用される有機溶剤中で、好ま
しくは−７８℃程度の低温で、両者の等モル反応で行う
ことができる。
素、ヨウ化水素、メタンスルホン酸、硫酸、トリクロロ
酢酸、ジクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸およびｐ−トル
エンスルホン酸等が挙げられ、好ましくは塩化水素、臭
化水素、ヨウ化水素およびメタンスルホン酸である。ｐ
−ｔ−ブトキシスチレンとプロトン酸の付加反応は、ス
チレンの重合媒体として使用される有機溶剤中で、好ま
しくは−７８℃程度の低温で、両者の等モル反応で行う
ことができる。
【０００８】上記プロトン酸付加物と共に用いられるル
イス酸性を有するハロゲン化金属としては、SnCl4 、Sn
Br4 、BF3 、AlCl3 、AlBr3 、SbCl5 、FeCl3 、TiC
l4 、TiBr4 、ReCl5 、AlEt2Cl およびAlEtCl2 等が挙
げられ、好ましくはSnCl4 である。
イス酸性を有するハロゲン化金属としては、SnCl4 、Sn
Br4 、BF3 、AlCl3 、AlBr3 、SbCl5 、FeCl3 、TiC
l4 、TiBr4 、ReCl5 、AlEt2Cl およびAlEtCl2 等が挙
げられ、好ましくはSnCl4 である。
【０００９】４級アンモニウム塩は、上記プロトン酸付
加物およびハロゲン化金属と共に重合系に添加され、そ
の役割はリビングカチオン重合における生長末端の安定
化にある。４級アンモニウム塩が添加されないと、重合
は速やかに進行するが、得られるポリマーの分子量分布
は広く、リビングポリマーが得られない。４級アンモニ
ウム塩としては、テトラアルキルアンモニウムハライド
が用いられ、ここでハライドとしては、クロライド、ブ
ロマイドおよびアイオダイドが好ましく、アルキルとし
ては、メチル、エチル、ブチルおよびドデシル等が好ま
しい。好ましいテトラアルキルアンモニウムハライドの
具体例としては、テトラブチルアンモニウムクロライ
ド、テトラブチルアンモニウムブロマイドおよびテトラ
ブチルアンモニウムアイオダイドが挙げられる。
加物およびハロゲン化金属と共に重合系に添加され、そ
の役割はリビングカチオン重合における生長末端の安定
化にある。４級アンモニウム塩が添加されないと、重合
は速やかに進行するが、得られるポリマーの分子量分布
は広く、リビングポリマーが得られない。４級アンモニ
ウム塩としては、テトラアルキルアンモニウムハライド
が用いられ、ここでハライドとしては、クロライド、ブ
ロマイドおよびアイオダイドが好ましく、アルキルとし
ては、メチル、エチル、ブチルおよびドデシル等が好ま
しい。好ましいテトラアルキルアンモニウムハライドの
具体例としては、テトラブチルアンモニウムクロライ
ド、テトラブチルアンモニウムブロマイドおよびテトラ
ブチルアンモニウムアイオダイドが挙げられる。
【００１０】重合開始剤におけるｐ−ｔ−ブトキシスチ
レンのプロトン酸付加物とハロゲン化金属の好ましい割
合は、プロトン酸付加物１モル当り、ハロゲン化金属１
〜１０モルさらに好ましくは３〜６モルであり、また重
合開始剤と共に使用する４級アンモニウム塩は、プロト
ン酸付加物１モル当り0.０１〜５モル使用することが好
ましく、さらに好ましく0.１〜２モルである。得られる
ポリスチレンの分子量は、スチレン単量体とプロトン酸
付加物の使用割合によって決定され、例えば数平均分子
量が1,０００のポリスチレンを目的とする場合には、ス
チレン単量体１モル当りプロトン酸付加物0.１モルの割
合で使用し、また数平均分子量が５2,０００のマクロモ
ノマーを目的とする場合には、スチレン単量体１モル当
りプロトン酸付加物0.００２モルの割合を採用すれば良
い。
レンのプロトン酸付加物とハロゲン化金属の好ましい割
合は、プロトン酸付加物１モル当り、ハロゲン化金属１
〜１０モルさらに好ましくは３〜６モルであり、また重
合開始剤と共に使用する４級アンモニウム塩は、プロト
ン酸付加物１モル当り0.０１〜５モル使用することが好
ましく、さらに好ましく0.１〜２モルである。得られる
ポリスチレンの分子量は、スチレン単量体とプロトン酸
付加物の使用割合によって決定され、例えば数平均分子
量が1,０００のポリスチレンを目的とする場合には、ス
チレン単量体１モル当りプロトン酸付加物0.１モルの割
合で使用し、また数平均分子量が５2,０００のマクロモ
ノマーを目的とする場合には、スチレン単量体１モル当
りプロトン酸付加物0.００２モルの割合を採用すれば良
い。
【００１１】重合溶剤としては、塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素，二塩化エチレン、ベンゼン、トル
エン、ニトロメタンおよびニトロベンゼン等が挙げら
れ、より好ましくは塩化メチレンである。また、重合に
おけるスチレン単量体の好ましい溶液濃度は５〜３０重
量％程度である。重合温度としては、−８０℃〜室温が
好ましく、更に好ましくは−２０〜０℃である。
ホルム、四塩化炭素，二塩化エチレン、ベンゼン、トル
エン、ニトロメタンおよびニトロベンゼン等が挙げら
れ、より好ましくは塩化メチレンである。また、重合に
おけるスチレン単量体の好ましい溶液濃度は５〜３０重
量％程度である。重合温度としては、−８０℃〜室温が
好ましく、更に好ましくは−２０〜０℃である。
【００１２】上記条件下において、通常重合反応は１〜
４時間程度で終了するが、重合の後半にリビングポリマ
ーの活性末端が、共存する他のリビングポリマーのｔ−
ブトキシフェニル基に付加する等の副反応が起こるた
め、本発明においては、重合転換率が８０％程度に達す
る前に、より好ましくは重合転換率が４０〜７０％の時
点で、メタノール等の重合停止剤を添加して重合を停止
することが好ましい。重合の進行度は、反応液をガスク
ロマトグラフィーで分析する等の方法により、未反応ス
チレンの量から知ることができ、通常重合の開始後４０
〜１００分程度で、重合転換率は４０〜７０％となる。
４時間程度で終了するが、重合の後半にリビングポリマ
ーの活性末端が、共存する他のリビングポリマーのｔ−
ブトキシフェニル基に付加する等の副反応が起こるた
め、本発明においては、重合転換率が８０％程度に達す
る前に、より好ましくは重合転換率が４０〜７０％の時
点で、メタノール等の重合停止剤を添加して重合を停止
することが好ましい。重合の進行度は、反応液をガスク
ロマトグラフィーで分析する等の方法により、未反応ス
チレンの量から知ることができ、通常重合の開始後４０
〜１００分程度で、重合転換率は４０〜７０％となる。
【００１３】上記重合により、重合開始剤の一成分であ
るｐ−ｔ−ブトキシスチレンのプロトン酸付加物に由来
するｔ−ブトキシフェニル基を有するスチレンポリマー
が得られ、それを以下に説明するプロトン酸の水溶液と
接触させることにより、片末端にフェノール性水酸基を
有するポリスチレンが得られる。スチレンポリマーとプ
ロトン酸水溶液は、通常メタノール等の重合停止剤で重
合を停止させたポリマー溶液とプロトン酸水溶液を液々
で混合する方法によって接触させることができるが、こ
の両者の接触は、通常上記ポリマー溶液から前記ハロゲ
ン化金属を除去する過程で、同時並行的に行われる。す
なわち、上記ポリマー溶液に対して、該溶液に含まれる
前記ハロゲン化金属の量よりも大過剰のプロトン酸を含
む水溶液を注いだ後、両液を分液ロート中で混ぜ合わせ
るという操作によって、ポリマー溶液からのハロゲン化
金属の除去と同時に、スチレンポリマーにおけるｔ−ブ
トキシフェニル基をヒドロキシフェニル基に定量的に転
換させることができる。上記操作等において、好ましく
用いられるプロトン酸としては、塩化水素、臭化水素、
ヨウ化水素、メタンスルホン酸および硫酸があり、それ
らは、通常１規定程度の濃度の水溶液で使用される。
るｐ−ｔ−ブトキシスチレンのプロトン酸付加物に由来
するｔ−ブトキシフェニル基を有するスチレンポリマー
が得られ、それを以下に説明するプロトン酸の水溶液と
接触させることにより、片末端にフェノール性水酸基を
有するポリスチレンが得られる。スチレンポリマーとプ
ロトン酸水溶液は、通常メタノール等の重合停止剤で重
合を停止させたポリマー溶液とプロトン酸水溶液を液々
で混合する方法によって接触させることができるが、こ
の両者の接触は、通常上記ポリマー溶液から前記ハロゲ
ン化金属を除去する過程で、同時並行的に行われる。す
なわち、上記ポリマー溶液に対して、該溶液に含まれる
前記ハロゲン化金属の量よりも大過剰のプロトン酸を含
む水溶液を注いだ後、両液を分液ロート中で混ぜ合わせ
るという操作によって、ポリマー溶液からのハロゲン化
金属の除去と同時に、スチレンポリマーにおけるｔ−ブ
トキシフェニル基をヒドロキシフェニル基に定量的に転
換させることができる。上記操作等において、好ましく
用いられるプロトン酸としては、塩化水素、臭化水素、
ヨウ化水素、メタンスルホン酸および硫酸があり、それ
らは、通常１規定程度の濃度の水溶液で使用される。
【００１４】
【実施例】以下、実施例を示すことにより、本発明を更
に具体的に説明する。 ＜実施例１＞以下の操作はすべて乾燥窒素雰囲気下で行
い、試薬は注射器により採取・添加した。ｐ−ｔ−ブト
キシスチレンの２００ｍＭ濃度の塩化メチレン溶液１５
ｍｌに、ヨウ化水素の２００ｍＭ濃度の塩化メチレン溶
液１５ｍｌを加え、−７８℃で撹拌下に３０分間反応さ
せた。得られた反応生成物をＮＭＲスペクトルで測定す
ることにより、１−（４−ｔ−ブトキシフェニル）エチ
ルアイオダイドの生成が確認された。
に具体的に説明する。 ＜実施例１＞以下の操作はすべて乾燥窒素雰囲気下で行
い、試薬は注射器により採取・添加した。ｐ−ｔ−ブト
キシスチレンの２００ｍＭ濃度の塩化メチレン溶液１５
ｍｌに、ヨウ化水素の２００ｍＭ濃度の塩化メチレン溶
液１５ｍｌを加え、−７８℃で撹拌下に３０分間反応さ
せた。得られた反応生成物をＮＭＲスペクトルで測定す
ることにより、１−（４−ｔ−ブトキシフェニル）エチ
ルアイオダイドの生成が確認された。
【００１５】次に、スチレン0.５８ｍｌ、ブロモベンゼ
ン0.１２ｍｌ、塩化メチレン2.４ｍｌ、テトラブチルア
ンモニウムクロライドの５００ｍＭ濃度の塩化メチレン
溶液0.４ｍｌおよび上記反応で得た１−（４−ｔ−ブト
キシフェニル）エチルアイオダイドの１００ｍＭ濃度の
塩化メチレン溶液1.０ｍｌをシュレンクに採取し、均一
に混合後、−１５℃に冷却した。上記溶液に、予め別途
−１５℃に冷却しておいた四塩化スズの１Ｍ濃度の塩化
メチレン溶液0.５ｍｌを添加し、振り混ぜ、重合を開始
させた〔上記重合において用いられた各成分の量は、ス
チレン5.０mmol，１−（４−ｔ−ブトキシフェニル）エ
チルアイオダイド0.１mmol，四塩化スズ0.５mmolおよび
ＴＢＡＣ0.２mmolである。〕。
ン0.１２ｍｌ、塩化メチレン2.４ｍｌ、テトラブチルア
ンモニウムクロライドの５００ｍＭ濃度の塩化メチレン
溶液0.４ｍｌおよび上記反応で得た１−（４−ｔ−ブト
キシフェニル）エチルアイオダイドの１００ｍＭ濃度の
塩化メチレン溶液1.０ｍｌをシュレンクに採取し、均一
に混合後、−１５℃に冷却した。上記溶液に、予め別途
−１５℃に冷却しておいた四塩化スズの１Ｍ濃度の塩化
メチレン溶液0.５ｍｌを添加し、振り混ぜ、重合を開始
させた〔上記重合において用いられた各成分の量は、ス
チレン5.０mmol，１−（４−ｔ−ブトキシフェニル）エ
チルアイオダイド0.１mmol，四塩化スズ0.５mmolおよび
ＴＢＡＣ0.２mmolである。〕。
【００１６】−１５℃で３０分間重合させた後、メタノ
ールを２ｍｌ加え、重合を停止させた。重合停止時点の
スチレンの重合率は、反応液をガスクロマトグラフィー
で分析した結果、４５％であった。得られた重合体溶液
を一旦トルエンで希釈し、その希釈液を希塩酸、水、希
水酸化ナトリウム水溶液、水、という順序で洗浄した
後、溶媒を減圧下で留去して重合体を得た。得られた重
合体の分子量をゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ーで測定した結果、その数平均分子量Ｍｎは２４１０で
あり、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは1.１８であった。また、
ＮＭＲスペクトルの測定により、重合体には、理論量の
１０５％のフェノール性水酸基が付いていること分かっ
た。
ールを２ｍｌ加え、重合を停止させた。重合停止時点の
スチレンの重合率は、反応液をガスクロマトグラフィー
で分析した結果、４５％であった。得られた重合体溶液
を一旦トルエンで希釈し、その希釈液を希塩酸、水、希
水酸化ナトリウム水溶液、水、という順序で洗浄した
後、溶媒を減圧下で留去して重合体を得た。得られた重
合体の分子量をゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ーで測定した結果、その数平均分子量Ｍｎは２４１０で
あり、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは1.１８であった。また、
ＮＭＲスペクトルの測定により、重合体には、理論量の
１０５％のフェノール性水酸基が付いていること分かっ
た。
【００１７】＜実施例２＞スチレンの使用量を実施例１
の２倍とした以外は、実施例１と同様な方法により重合
を開始させ、スチレンの重合率が４７％の時点で重合を
停止した後、実施例１と同様な方法により、重合体を得
た。得られた重合体のＭｎは４９３０であり、Ｍｗ／Ｍ
ｎは1.２０であった。また末端へのヒドロキシル基の導
入率は、理論量の９５％であった。
の２倍とした以外は、実施例１と同様な方法により重合
を開始させ、スチレンの重合率が４７％の時点で重合を
停止した後、実施例１と同様な方法により、重合体を得
た。得られた重合体のＭｎは４９３０であり、Ｍｗ／Ｍ
ｎは1.２０であった。また末端へのヒドロキシル基の導
入率は、理論量の９５％であった。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、単量体および溶剤に関
する高度な精製操作を要せずに、分子量分布が狭く、末
端にフェノール性水酸基を有するポリスチレンが容易に
製造でき、該ポリスチレンは、ブロック共重合体の合成
原料またはポリマー改質剤として有用である。
する高度な精製操作を要せずに、分子量分布が狭く、末
端にフェノール性水酸基を有するポリスチレンが容易に
製造でき、該ポリスチレンは、ブロック共重合体の合成
原料またはポリマー改質剤として有用である。
Claims (1)
- 【請求項１】４級アンモニウム塩の存在下で、ルイス酸
性を有するハロゲン化金属およびｐ−ｔ−ブトキシスチ
レンのプロトン酸付加物からなる重合開始剤により、ス
チレン単量体をリビングカチオン重合させ、得られる分
子の片末端にｐ−ｔ−ブトキシフェニル基を有するポリ
スチレンを、プロトン酸の水溶液と接触させることによ
り、前記ｐ−ｔ−ブトキシフェニル基をｐ−ヒドロキシ
フェニル基に転換することを特徴とする、分子の片末端
にフェノール性水酸基を有するポリスチレンの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04112311A JP3107111B2 (ja) | 1992-04-06 | 1992-04-06 | 分子の片末端にフェノール性水酸基を有するポリスチレンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04112311A JP3107111B2 (ja) | 1992-04-06 | 1992-04-06 | 分子の片末端にフェノール性水酸基を有するポリスチレンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05287022A true JPH05287022A (ja) | 1993-11-02 |
| JP3107111B2 JP3107111B2 (ja) | 2000-11-06 |
Family
ID=14583503
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04112311A Expired - Fee Related JP3107111B2 (ja) | 1992-04-06 | 1992-04-06 | 分子の片末端にフェノール性水酸基を有するポリスチレンの製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000015683A1 (fr) * | 1998-09-14 | 2000-03-23 | Kaneka Corporation | Compositions durcissables |
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| KR100711077B1 (ko) * | 1999-05-10 | 2007-04-24 | 테라다인 인코퍼레이티드 | 전송경로손실보상을 갖는 구동기 |
-
1992
- 1992-04-06 JP JP04112311A patent/JP3107111B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000015683A1 (fr) * | 1998-09-14 | 2000-03-23 | Kaneka Corporation | Compositions durcissables |
| KR100711077B1 (ko) * | 1999-05-10 | 2007-04-24 | 테라다인 인코퍼레이티드 | 전송경로손실보상을 갖는 구동기 |
| JP2001342217A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-12-11 | Tosoh Corp | シクロペンタジエン系重合体およびその製造方法 |
| JP2002080549A (ja) * | 2000-09-07 | 2002-03-19 | Tosoh Corp | シクロペンタジエン系ブロック共重合体およびその製造方法 |
| JP2002080539A (ja) * | 2000-09-07 | 2002-03-19 | Tosoh Corp | シクロペンタジエン系ランダム共重合体およびその製造方法 |
| JP4742411B2 (ja) * | 2000-09-07 | 2011-08-10 | 東ソー株式会社 | シクロペンタジエン系ブロック共重合体およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3107111B2 (ja) | 2000-11-06 |
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