JPH05283281A - 薄膜コンデンサの製造方法 - Google Patents

薄膜コンデンサの製造方法

Info

Publication number
JPH05283281A
JPH05283281A JP8178492A JP8178492A JPH05283281A JP H05283281 A JPH05283281 A JP H05283281A JP 8178492 A JP8178492 A JP 8178492A JP 8178492 A JP8178492 A JP 8178492A JP H05283281 A JPH05283281 A JP H05283281A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating substrate
capacitor
capacitor elements
chip
thin film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8178492A
Other languages
English (en)
Inventor
Tatsuaki Mori
竜朗 森
Takanori Sugimoto
高則 杉本
Shigeru Ryuzaki
繁 粒崎
Toshifumi Kondo
利文 近藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP8178492A priority Critical patent/JPH05283281A/ja
Publication of JPH05283281A publication Critical patent/JPH05283281A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 絶縁基板のブレイク方法を改善することによ
り、薄膜コンデンサの大幅な小形、軽量、量産、低コス
ト化を図った薄膜コンデンサの製造方法を提供すること
を目的とする。 【構成】 板状のセラミックからなる絶縁基板1上、あ
るいは、板状のセラミック上にガラスグレーズを塗布焼
付してなる絶縁基板1上に複数のコンデンサ素子2を形
成し、コンデンサ素子2ごとにチップブレイクするため
のブレイク溝3を形成後、絶縁基板1の両面あるいは、
片面に粘着テープ8を張り付けて、絶縁基板1をベルト
5の上に載せ、ローラー4とローラー4の間を通してチ
ップブレイクし、その後に、コンデンサ素子6を整列さ
せた後エアー吸着などで個々のコンデンサ素子6を取り
出して、引き出し端子となる外部電極は減圧プラズマ溶
射法などの方法で形成する。この方法により、薄膜コン
デンサの大幅な小形、軽量、量産、低コスト化を図るこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜コンデンサの製造
方法に関し、特に小形、軽量、量産、低コスト化を図っ
た薄膜コンデンサの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、機器の小形・軽量化志向、高集積
回路の採用による電子回路の高密度化あるいは、自動挿
入機の普及などにともない、電子部品に対する小形化の
要請がますます強くなってきている。その中にあって、
コンデンサも同様に小形化への種々の開発が試みられて
いる。
【0003】周知のように、コンデンサの単位体積当た
りの静電容量は、誘電体の誘電率に比例し、誘電体の厚
さの二乗に反比例する。従って、コンデンサの小形化を
図るためには、誘電体の誘電率を大きくするか、または
誘電体の厚さを薄くすることにより大幅な小形化が実現
できることから薄膜コンデンサについては既に多くの検
討が行われてきた。
【0004】以下に従来の薄膜コンデンサの製造方法に
ついて図面を参照して説明する。図7〜図10におい
て、従来の薄膜コンデンサの製造方法は、図7に示すよ
うに、チップブレイクするためのブレイク用溝3をあら
かじめ格子状に作成したセラミックグリーンシートを焼
成して絶縁基板1を形成するか、あるいは、板状の絶縁
基板1の上にチップブレイクするためのブレイク溝3を
レーザービームで照射して作成した絶縁基板1を形成
し、絶縁基板1上にガラスグレーズを塗布焼付で形成す
るなりした上で(例えば、特願平2−144776号公
報に記載)、絶縁基板1の上に複数のコンデンサ素子2
を誘電体層と内部電極層とを交互に薄膜形成工法により
積層する。その後に、図8に示すように、絶縁基板1を
ベルト5上に載せてローラー4とローラー4の間に通し
てブレイク溝3に沿って図9に示すように、個々のコン
デンサ素子6にチップブレイクし、図10に示すよう
に、コンデンサ素子6をパレット7に整列させた後、エ
アー吸着などでコンデンサ素子6を取り出して、引き出
し端子となる外部電極を導電ペーストを焼付するなどの
方法で形成している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の方法では、絶縁基板1をローラー4とローラー4
の間を通してチップブレイクした際に、絶縁基板1のセ
ラミックの粉末や、ガラスグレーズのガラスのチップが
発生してコンデンサ素子の破損につながり、また、設備
のトラブルにもつながる。また、個々のコンデンサにチ
ップブレイクすることにより、コンデンサ素子に外部電
極を形成する際に、コンデンサ素子を整列させる必要が
あり、コンデンサ素子が小形なものであればあるほど、
コンデンサ素子のハンドリングのむずかしさの問題が発
生する。
【0006】本発明は、このような従来の問題点を解決
するもので、薄膜コンデンサの大幅な小形、軽量、量
産、低コスト化を図った薄膜コンデンサの製造方法を提
供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の薄膜コンデンサの製造方法は、板状のセラミ
ックからなる絶縁基板上、あるいは、板状のセラミック
上にガラスグレーズを塗布焼付してなる絶縁基板上に、
複数のコンデンサ素子を誘電体層と内部電極層を交互に
薄膜形成工法により積層して形成し、コンデンサ素子ご
とにチップブレイクするためのブレイク溝を形成後、絶
縁基板の両面あるいは、片面に、粘着テープを張りつ
け、絶縁基板をローラーとローラーの間に通すことによ
りチップブレイクするものである。
【0008】
【作用】この製造方法を採用することにより、セラミッ
ク絶縁基板を、ローラーとローラーの間を通してチップ
ブレイクする際に、絶縁基板のセラミックの粉末や、ガ
ラスグレーズのガラスのチップが発生しても、粘着テー
プに付着するためにダストの量が軽減される。また、個
々のコンデンサにチップブレイクする時に絶縁基板にテ
ープを張り付けているために、コンデンサ素子がばらば
らにならずに整列された形になるのでコンデンサ素子の
外部電極を形成する際に、コンデンサ素子を整列させる
必要がなくなり、コンデンサ素子のハンドリングのむず
かしさの問題が軽減される。
【0009】
【実施例】
(実施例1)以下本発明の実施例1の薄膜コンデンサの
製造方法について、図面を参照しながら説明する。
【0010】図1・図2・図3・図7において、実施例
1の薄膜コンデンサの製造手順を説明する。
【0011】まず、図7に示すように、板状のセラミッ
クからなる絶縁基板1上、あるいは、板状のセラミック
上にガラスグレーズを塗布焼付してなる絶縁基板1上に
コンデンサ素子2を形成し個々のコンデンサ素子2ごと
にチップブレイクするためのブレイク溝3を形成する。
次に図1に示すように絶縁基板1の表面あるいは、裏面
に粘着テープ8を張り付けて図2に示すように、絶縁基
板1をベルト5上に載せてローラー4とローラー4の間
を通して図3に示すように絶縁基板1のブレイク溝3に
沿ってチップブレイクする。その後にエアー吸着などで
個々のコンデンサ素子6を取り出して、引き出し端子と
なる外部電極は減圧プラズマ溶射法などの方法で形成す
る。
【0012】(実施例2)以下本発明の実施例2の薄膜
コンデンサの製造方法について、図面を参照しながら説
明する。
【0013】図4・図5・図6・図7において、実施例
2の薄膜コンデンサの製造手順を説明する。
【0014】まず、図7に示すように、板状のセラミッ
クからなる絶縁基板1上、あるいは、板状のセラミック
上にガラスグレーズを塗布焼付してなる絶縁基板1上に
コンデンサ素子2を形成し、個々のコンデンサ素子2ご
とにチップブレイクするためのブレイク溝3を形成す
る。次に図4に示すように、絶縁基板1の両面に粘着テ
ープ8を張り付けて図5に示すように、絶縁基板1をベ
ルト5に載せて、ローラー4とローラー4の間を通して
図6に示すように絶縁基板1をブレイク溝3に沿ってチ
ップブレイクする。その後に表面、あるいは、裏面のテ
ープ8のどちらかを剥離して、エアー吸着などで個々の
コンデンサ素子6を取り出して、引き出し端子となる外
部電極を減圧プラズマ溶射法などの方法で形成する。
【0015】なお、実施例1および2において、ローラ
ー4は、金属ローラー・樹脂ローラー・エアー圧力を利
用したローラーなどが使用できる。
【0016】また、引き出し端子となる外部電極は導電
ペーストを焼付する方法で形成してもよい。
【0017】また、粘着テープ8は、熱を加えるか、あ
るいは、UVを照射することにより粘着力が低下するも
のを使うと、粘着テープからコンデンサ素子を剥離する
ときに、剥離が容易になる。
【0018】
【発明の効果】以上の実施例の説明により明らかなよう
に本発明の薄膜コンデンサの製造方法によれば、板状の
セラミックからなる絶縁基板上、あるいは、板状のセラ
ミック上にガラスグレーズを塗布焼付してなる絶縁基板
上に複数のコンデンサ素子を、誘電体層と内部電極層を
交互に積層して形成し、個々のコンデンサ素子ごとにチ
ップブレイクするためのブレイク溝を形成し、前記絶縁
基板の両面あるいは、片面に粘着テープを張りつけた後
に、絶縁基板をローラーとローラーの間に通してブレイ
ク溝に沿ってチップブレイクする。その際に、絶縁基板
のセラミックの粉末や、ガラスグレーズのガラスのチッ
プが発生しても、粘着テープに付着するために、ダスト
の量が大きく軽減される。また、個々のコンデンサにチ
ップブレイクする時に絶縁基板にテープを張り付けてい
るために、コンデンサ素子がばらばらにならずに整列さ
れた形になるのでコンデンサ素子の外部電極を形成する
際に、コンデンサ素子を整列させる必要がなくなり、コ
ンデンサ素子のハンドリングのむずかしさの問題が軽減
される。これにより、積層薄膜コンデンサの大幅な小
形、軽量、量産、低コスト化を図ることができ、その産
業利用上の効果は大なるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1の薄膜コンデンサの製造方法
の絶縁基板の片面に粘着テープを張り付けた状態を示す
斜視図
【図2】同個々のコンデンサにチップブレイクする工程
を示す斜視図
【図3】同個々のコンデンサ素子にチップブレイクした
状態を示す斜視図
【図4】本発明の実施例2の薄膜コンデンサの製造方法
の絶縁基板の両面に粘着テープを張り付けた状態を示す
斜視図
【図5】同個々のコンデンサにチップブレイクする工程
を示す斜視図
【図6】同個々のコンデンサ素子にチップブレイクした
状態を示す斜視図
【図7】本発明および従来の薄膜コンデンサの製造方法
のチップブレイクする以前の絶縁基板の状態を示す斜視
【図8】同個々のコンデンサにチップブレイクする工程
を示す斜視図
【図9】同個々のコンデンサ素子にチップブレイクした
状態を示す斜視図
【図10】同個々のコンデンサ素子を整列させた状態を
示す斜視図
【符号の説明】
1 絶縁基板 2,6 コンデンサ素子 3 ブレイク溝 4 ローラー 8 粘着テープ
フロントページの続き (72)発明者 近藤 利文 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】板状のセラミックからなる絶縁基板上、あ
    るいは、板状のセラミック上にガラスグレーズを塗布焼
    付してなる絶縁基板上に、複数のコンデンサ素子を誘電
    体層と内部電極層を交互に薄膜形成工法により積層して
    形成し、個々のコンデンサ素子ごとにチップブレイクす
    るブレイク溝を形成後、前記絶縁基板の両面あるいは、
    片面に粘着テープを張りつけた後、前記絶縁基板をロー
    ラーとローラーの間に通すことによってチップブレイク
    する薄膜コンデンサの製造方法。
JP8178492A 1992-04-03 1992-04-03 薄膜コンデンサの製造方法 Pending JPH05283281A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8178492A JPH05283281A (ja) 1992-04-03 1992-04-03 薄膜コンデンサの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8178492A JPH05283281A (ja) 1992-04-03 1992-04-03 薄膜コンデンサの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05283281A true JPH05283281A (ja) 1993-10-29

Family

ID=13756114

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8178492A Pending JPH05283281A (ja) 1992-04-03 1992-04-03 薄膜コンデンサの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05283281A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009238920A (ja) * 2008-03-26 2009-10-15 Tdk Corp 電子部品の製造方法
CN113921278A (zh) * 2021-06-30 2022-01-11 湖州新江浩电子有限公司 一种新型非破坏性电极引出方式的薄膜电容器及其制造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009238920A (ja) * 2008-03-26 2009-10-15 Tdk Corp 電子部品の製造方法
CN113921278A (zh) * 2021-06-30 2022-01-11 湖州新江浩电子有限公司 一种新型非破坏性电极引出方式的薄膜电容器及其制造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4382156A (en) Multilayer bus bar fabrication technique
JP3502988B2 (ja) 多端子型の積層セラミック電子部品
KR20140085097A (ko) 적층 세라믹 커패시터 및 그 제조 방법
JP2000012377A (ja) 積層セラミック電子部品及びその製造方法
US4394532A (en) Multilayer current distribution systems and methods of fabrication thereof
JP2020027927A (ja) 積層セラミックキャパシタ及びその製造方法
JPH05283281A (ja) 薄膜コンデンサの製造方法
US7180155B2 (en) Method for manufacturing thin-film multilayer electronic component and thin-film multilayer electronic component
JP3092440B2 (ja) 積層セラミック電子部品の製造方法
JP3209304B2 (ja) 積層型電子部品及びその製造方法
JPH08306576A (ja) 電子部品とその製造方法
JPH05175073A (ja) 積層セラミックコンデンサの製造方法
JP2946261B2 (ja) 積層電子部品の製造方法
JP2001185440A (ja) 積層セラミックコンデンサ
JPH11297508A (ja) 積層型セラミック電子部品
JPH1065341A (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JP2001044059A (ja) 積層セラミックコンデンサ
JPH05198459A (ja) 積層セラミック電子部品の製造方法
JPH1126279A (ja) 積層セラミック電子部品の製造方法
JP2615771B2 (ja) 積層磁器コンデンサ用グリーンシート
JPH0334520A (ja) フィルムコンデンサの製造方法
JP2003282357A (ja) コンデンサアレイ
JPS6281093A (ja) 積層回路基板の製造方法
JP2000164450A (ja) 積層コンデンサ
JP2005136173A (ja) コンデンサ