JPH0528033U

JPH0528033U - 基板のデイツプ処理装置

Info

Publication number: JPH0528033U
Application number: JP7497991U
Authority: JP
Inventors: 治道広瀬
Original assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Current assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Priority date: 1991-09-18
Filing date: 1991-09-18
Publication date: 1993-04-09
Anticipated expiration: 2006-09-18
Also published as: JP2585932Y2

Abstract

(57)【要約】【目的】薬液の液面の高さを操作しやすい位置で、容
易にコントロールでき、安定した液内において、確実な
基板製造が可能な基板のディップ処理装置を提供する。【構成】ディップ槽１の底面にはドレン１２が空けら
れていて、ドレン配管１３の一端に接続されている。ド
レン配管１３の中央部は、処理槽５から飛び出し、反対
端部は、再び処理槽５内に戻っている。処理槽５の外部
のドレン配管１３には、流量を調節できるバルブ１４が
設けられている。ディップ槽１には、流入口１ｂが設け
られていて、流入口１ｂを覆うような位置に、整流板１
５、補助板１６が備えられている。ドレン配管１３のバ
ルブ１４の開閉を変化させることによって、ディップ槽
１内の液面の位置を調節する。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、基板を連続搬送しながら薬液処理を行う基板のディップ処理装置の改良に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

ＩＣやＬＥＤなどの基板の製造には、フォトエッチングによる微細加工が非常に重要な役割を果たしている。フォトエッチングは、フォトレジストを基板に塗布し、エッチング処理し、最後にフォトレジストを剥離するという工程を経る。従って優れたフォトエッチングを行うためには、まず基板にフォトレジストを均一に塗布することが必要となる。そして、エッチング処理時とフォトレジスト剥離時に、基板を薬液に十分に浸す必要がある。

【０００３】このようなフォトエッチングを行なう装置は、スピン式、ディップ式、スプレー式、などに分類できる。このうちフォトレジスト剥離時に使用されることが多いのが、ディップ式である。ディップ式は、薬液を満たした槽の中に、基板を浸す方法をとる。また、薬液の反応効果を持続させるためには、清浄しながら循環させる必要がある。従って基板は、静止した薬液内ではなく、常に流動している薬液内を通過する。

【０００４】この時、基板を浸す液面が常に一定で、薬液の流れが安定していれば、確実なフォトレジスト剥離ができる。

【０００５】このため、従来からディップ式のフォトエッチング装置として、薬液処理槽の付いた基板のディップ処理装置が提案されている。

【０００６】このような基板のディップ処理装置の従来例を図面に従って説明する。図６に示すように、ディップ槽１内には、搬送ローラ２が回動自在に配設されている。搬送ローラ２はディップ槽１内に薬液３を満たした時、液面下に位置するように設けられている。ディップ槽１の前後には、基板搬出用のスリット１ａが設けられている。ディップ槽１の側面には、流入口１ｂが設けられていて、流入パイプ４に接続されている。

【０００７】ディップ槽１の外側には、スリット１ａからオーバーフローした薬液３を受け止めるために、処理槽５が設けられている。処理槽５の底には排出口５ａが設けられていて、排出パイプ６に接続されている。排出パイプ６は薬液タンク７に接続されている。薬液タンク７はポンプ８に接続されていて、ポンプ８は薬液清浄用のフィルター９を介して、流入パイプ４に接続されている。

【０００８】従って、薬液３はポンプ８によって送り出されることによって、ディップ槽１に流入し続けるので、水面は常に搬送ローラー２上にある。このため基板１０はスリット１ａを通って搬送ローラ２によって搬送される時に、薬液３に浸されてフォトレジストが剥離する。

【０００９】流入する薬液３は、ディップ槽１に一杯になる前に、スリット１ａからオーバーフローして処理槽５に流れ落ちる。処理槽５に落ちた薬液３は、排出口５ａから、薬液タンク７に溜まる。薬液タンク７に溜まった薬液３は、ポンプ８へと流れ、フィルター９によって清浄されて、再びディップ槽１に送られることによって、常に循環している。

【００１０】ただし、薬液３の流入する量が、スリット１ａからオーバーフローする量よりも多くなると、ディップ槽が一杯になって縁から溢れ出てしまう。従って、エッチング条件を一定に保つため、ある程度の液面管理が必要となる。そこで、ポンプ８の送り出し量を変化させることによって、液面の位置を調節するようにしている。または、ポンプ８とフィルター９の間にバルブ１１を設け、このバルブ１１の開閉を変化させることによって、液面の位置を調節するようにしている。

【００１１】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、このような従来例には以下のような欠点があった。

【００１２】即ち、ポンプ８の送り出し量を変化させることによって、ディップ槽１内の液面の位置を調節するといっても、大型の機械であるポンプ８の吐出量を細かく制御することは、困難である。また、バルブ１１の開閉により液面を調節する場合でも、バルブ１１の位置が処理槽５の下部になってしまうので、操作しにくい。更に、薬液３は流入口１ｂから直接流入するので、流れる方向が定まらず、液面が安定しない。

【００１３】本考案は、上記のような従来技術の課題を解決するために提案されたものであり、その目的は薬液の液面の高さを操作しやすい位置で、容易にコントロールでき、安定した液内で、確実な基板製造が可能な基板のディップ処理装置を提供することである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】

上記の目的を達成するために、請求項１記載の本考案は、薬液散乱防止用の処理槽と、前期処理槽内部に設けられ薬液を貯溜したディップ槽と、前記ディップ槽内部に設けられた基板搬送部とを備えた基板のディップ処理装置において、前記ディップ槽の底面に、薬液排出口を設け、前記薬液排出口に、薬液の流量調節を行うためのバルブを設けたドレン配管を接続し、前記バルブを、前記処理槽の外部に設けたことを特徴とする。

【００１５】請求項２記載の本考案は、薬液を貯溜したディップ槽と、前記ディップ槽内部に設けられた基板搬送部とを備えた基板のディップ処理装置において、前記ディップ槽の底面に、薬液流入口を設け、断面がコの字型の整流板を、前記薬液流入口を覆うように設けたことを特徴とする

【００１６】

【作用】

上記のような構成を有する本考案においては、バルブを設けたドレン配管によって、余分な薬液がいつでも排出できるので、液面の位置を調節するのが簡単になる。また、流量調節を行うバルブが、処理槽の外部に設けられているので、操作しやすい位置で液面調節作業を行える。

【００１７】更に、流入口に整流板が設けられているので、薬液の流れが安定する。

【００１８】

【実施例】

以下、本考案の一実施例を図面により具体的に説明する。なお、図４の従来技術と同一の部材については、同一の符号を付し説明は省略する。

【００１９】即ち、図１に示すようにディップ槽１の底面にはドレン１２が空けられていて、コの字型に曲げられたドレン配管１３の一端に接続されている。ドレン配管１３の中央部は、図２に示すように処理槽５から飛び出していて、反対端部は、再び処理槽５内に戻っている。処理槽５の外部にあるドレン配管１３には、流量を調節できるバルブ１４が設けられている。

【００２０】更に、ディップ槽１の底面には、流入口１ｂが設けられていて、流入パイプ４に接続されている。図３に示すように、断面がコの字型になるように曲げられた整流板１５が、流入口１ｂを覆うように接地されている。流入口２ｂと整流板１５の間は、薬液３が流れるのを妨げないように十分隙間が空けられている。整流板１５の両端は、断面が逆Ｌ字型の補助板１６の側面に接続されていて、Ｈの字型になっている。補助板１６にはコの字型の穴１６ａが空けられていて、整流板１５は穴１６ａに差し込まれているので、薬液３は穴１６ａから流れ出てくる。以上のように構成される本実施例の作用は、次の通りである。

【００２１】即ち、薬液３は、整流板１５内を通って穴１６ａから流れ込む。この時、補助板１６が、薬液３の上方への噴出を防ぐ。従って、薬液３は常に補助板１６の端部から流れ出すので、ディップ槽１内の液流が安定する。

【００２２】そして、流入する薬液３の量が、スリット１ａからオーバーフローする量よりも多くなり、ディップ槽１の縁から溢れてしまう時には、ドレン配管１３のバルブ１４を開くことによって、液面の位置を下げる。つまり、バルブ１４を開くことによって、ディップ槽１内の余分な薬液３が、ドレン配管１３を通って処理槽５に排出される。すると薬液３がディップ槽１の縁から溢れ出なくなり、液面の高さが下がる。また、液面が下がり過ぎたり、流入する薬液の量が少な過ぎたりして、基板１０を浸すことができない時には、バルブ１４を閉じれば、薬液３を十分に溜めることができる。

【００２３】以上の通り本実施例によれば、薬液３は整流板１５内を通って穴１６ａから流れ込むので、液流がいつも安定する。そして、ドレン配管１３のバルブ１４の開閉を変化させることによって、液面の位置を調節することができる。従って、安定したフォトレジスト剥離を行うことが可能となる。更にバルブ１４は、処理槽５の側面にあるので、作業者が操作しやすい位置で流量調節が行える。

【００２４】なお、本考案は上述した実施例に限定されるものではなく、具体的な各部材の形状、材質等は適宜変更可能である。

【００２５】例えば、図４に示すようにドレン配管１３の先を処理槽５に戻すのではなく、薬液タンク７に接続することもできる。この場合には、余分な薬液３は薬液タンクに直接流れる。また図５に示すように搬送ローラ２の上部に、上乗せローラ２ａを搬送ローラ２と平行な方向で回転自在に取り付けることによって、液面の上下動の影響を更に少なくすることができる。

【００２６】

【考案の効果】

以上の通り、本考案においてはディップ槽の薬液排出口にドレン配管を接続し、処理槽の外部にドレン配管内の流量調節を行うバルブを設け、流入口に整流板を設けるという簡単な構造によって、薬液３の液面の高さを操作しやすい位置で、容易にコントロールでき、液流を安定させることができる。従って、確実な基板製造と搬送作業が可能な基板のディップ処理装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例である基板のディップ処理装
置を示す側面図である。

【図２】図１の整流板の斜視図である。

【図３】図１のバルブの斜視図である。

【図４】本考案の他の実施例を示す側面図である。

【図５】本考案の他の実施例を示す側面図である。

【図６】従来の基板のディップ処理装置を示す側面図で
ある。

【符号の説明】

１…ディップ槽１ａ…スリット１ｂ…流入口２…搬送ローラ２ａ…上乗せローラ３…薬液４…流入パイプ５…処理槽５ａ…排出口６…排出パイプ７…薬液タンク８…ポンプ９…フィルターｌ０…基板１１，１４…バルブ１２…ドレン１３…ドレン配管１５…整流板１６…補助板１６ａ…穴

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

【請求項１】薬液散乱防止用の処理槽と、前期処理槽
内部に設けられ薬液を貯溜したディップ槽と、前記ディ
ップ槽内部に設けられた基板搬送部とを備えた基板のデ
ィップ処理装置において、前記ディップ槽の底面に、薬液排出口を設け、前記薬液排出口に、薬液の流量調節を行うためのバルブ
を設けたドレン配管を接続し、前記バルブを、前記処理槽の外部に設けたことを特徴と
する基板のディップ処理装置。
【請求項２】薬液を貯溜したディップ槽と、前記ディ
ップ槽内部に設けられた基板搬送部とを備えた基板のデ
ィップ処理装置において、前記ディップ槽の底面に、薬液流入口を設け、断面がコの字型の整流板を、前記薬液流入口を覆うよう
に設けたことを特徴とする基板のディップ処理装置。