JPH0527412A - Device for verifying mask pattern of integrated circuit - Google Patents

Device for verifying mask pattern of integrated circuit

Info

Publication number
JPH0527412A
JPH0527412A JP20763391A JP20763391A JPH0527412A JP H0527412 A JPH0527412 A JP H0527412A JP 20763391 A JP20763391 A JP 20763391A JP 20763391 A JP20763391 A JP 20763391A JP H0527412 A JPH0527412 A JP H0527412A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
design rule
verification
mask pattern
verification result
design
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20763391A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hisaharu Miwa
久晴 三輪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP20763391A priority Critical patent/JPH0527412A/en
Publication of JPH0527412A publication Critical patent/JPH0527412A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Abstract

PURPOSE:To verify the mask patterns partially varying in geometrical design rules with high accuracy in a short period of time. CONSTITUTION:The respective verification results of a partial design rule verifying means 7, a region assigning design rule verifying means 8, and a design rule verifying means 10 are edited by a verification error editing means 15 and are outputted by a verification result outputting means 18. The mask pattern verification is executed for each of the mask patterns in correspondence to the respective different design rules by such constitution, by which the verification results are outputted.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明はLSI(大規模集積回
路)などのマスクパターンの幾何学的デザインを検証す
る集積回路マスクパターン検証装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an integrated circuit mask pattern verification device for verifying the geometrical design of a mask pattern such as LSI (Large Scale Integrated Circuit).

【0002】[0002]

【従来の技術】図5は従来の集積回路マスクパターン検
証装置の構成を示すブロック図である。2は検証すべき
集積回路のマスクパターンデータ1を読み込むマスクパ
ターンデータ読み込み手段、10はマスクパターンデー
タ読み込み手段2で読み込まれたマスクパターンデータ
の示すマスクパターンが人手等により記述された幾何学
的デザインルール9に違反するかどうかを検証するデザ
インルール検証手段、11はデザインルール検証手段1
0によるデザインルール検証結果、18はデザインルー
ル検証結果11のグラフィック表示16及びリスト出力
17を行なう検証結果出力手段である。
2. Description of the Related Art FIG. 5 is a block diagram showing the structure of a conventional integrated circuit mask pattern verification device. 2 is a mask pattern data reading means for reading the mask pattern data 1 of the integrated circuit to be verified, and 10 is a geometrical design in which the mask pattern indicated by the mask pattern data read by the mask pattern data reading means 2 is manually described Design rule verification means for verifying whether rule 9 is violated, 11 is design rule verification means 1
Design rule verification result by 0, 18 is a verification result output means for performing graphic display 16 and list output 17 of the design rule verification result 11.

【0003】次に図6のフローチャートを参照してこの
従来例の動作について説明する。まず、マスクパターン
データ1をマスクパターンデータ読み込み手段2により
読み込む(ステップS11)。次に、人手等により記述
された幾何学的デザインルール9に違反するマスクパタ
ーンをデザインルール検証手段10により検証し(ステ
ップS12)、デザインルール検証結果11を作成す
る。その後、デザインルール検証結果11は検証結果出
力手段18によりグラフィック表示16とリスト出力1
7をされる(ステップS13)。このようなデザインル
ール検証結果11には該当マスクパターンが幾何学的デ
ザインルール9に違反している場合にそのエラー内容が
含まれ、そのエラー内容がグラフィック表示16及びリ
スト出力17としてユーザに知らされることになる。
Next, the operation of this conventional example will be described with reference to the flowchart of FIG. First, the mask pattern data 1 is read by the mask pattern data reading means 2 (step S11). Next, the mask pattern violating the geometrical design rule 9 described by hand or the like is verified by the design rule verification means 10 (step S12), and the design rule verification result 11 is created. Thereafter, the design rule verification result 11 is displayed by the verification result output means 18 as a graphic display 16 and a list output 1.
7 is performed (step S13). Such a design rule verification result 11 includes the error content when the corresponding mask pattern violates the geometric design rule 9, and the error content is notified to the user as a graphic display 16 and a list output 17. Will be.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、幾何学的デ
ザインルールが部分的に異なるマスクパターンを検証す
る場合、上記のような従来の集積回路マスクパターン検
証装置ではデザインルール毎に図6に示すようなフロー
チャートの処理を繰り返し、マスクパターンの検証を実
行する必要があり、また、擬似的なエラーが多く発生す
る可能性があるという問題点があった。
However, in the case of verifying a mask pattern having partially different geometric design rules, the conventional integrated circuit mask pattern verifying apparatus as described above is designed as shown in FIG. 6 for each design rule. There is a problem that it is necessary to repeat the processing of the flowcharts to execute the verification of the mask pattern, and many pseudo errors may occur.

【0005】この発明は上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、部分的に幾何学的デザインルー
ルが異なるマスクパターンに付加されたデザインルール
を抽出し、異なる各デザインルールに対応したマスクパ
ターン毎にマスクパターンの検証を行なうことができる
集積回路マスクパターン検証装置を提供することを目的
とする。
The present invention has been made in order to solve the above problems, and extracts design rules partially added to mask patterns having different geometric design rules to deal with different design rules. It is an object of the present invention to provide an integrated circuit mask pattern verification device capable of verifying a mask pattern for each mask pattern.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明に係る集積回路
マスクパターン検証装置は、マスクパターンデータ読み
込み手段2で読み込まれたマスクパターンデータ1に付
加された幾何学的デザインルール5を抽出するデザイン
ルール抽出手段3と、上記付加された幾何学的デザイン
ルール5が異なるマスクパターン領域のうちの指定され
たマスクパターンのデザインルール6を抽出する領域指
定デザインルール抽出手段4と、上記デザインルール抽
出手段3で抽出された幾何学的デザインルール5の部分
検証を行なう部分デザインルール検証手段7と、上記領
域指定デザインルール抽出手段4で抽出された領域指定
デザインルール6の検証を行なう領域指定デザインルー
ル検証手段8と、デザインルール検証検証手段10の検
証結果11と上記部分デザインルール検証手段7の検証
結果12と上記領域指定デザインルール検証手段8の検
証結果13の各エラー内容を編集しその編集内容を上記
検証結果出力手段18に与える検証エラー編集手段15
とを備えたものである。
An integrated circuit mask pattern verification apparatus according to the present invention is a design rule for extracting a geometric design rule 5 added to a mask pattern data 1 read by a mask pattern data reading means 2. The extracting means 3, the area design rule extracting means 4 for extracting the design rule 6 of the specified mask pattern among the mask pattern areas to which the added geometric design rule 5 is different, and the design rule extracting means 3 Partial design rule verification means 7 for carrying out partial verification of the geometrical design rule 5 extracted in step 4, and area design rule verification means for verifying the area design rule 6 extracted by the area design rule extraction means 4. 8 and the verification result 11 of the design rule verification verification means 10 and the above Edit each error content of the verification result 13 of the verification result 12 and the area designation design rule check means 8 minute design rule verification unit 7 gives the edits to the verification result output unit 18 validation error editing means 15
It is equipped with and.

【0007】[0007]

【作用】デザインルール抽出手段3はマスクパターンデ
ータ1の幾何学的デザインルール5を抽出し、領域指定
デザインルール抽出手段4は幾何学的デザインルール5
が異なるマスクパターン領域のうちの指定されたマスク
パターンのデザインルール6を抽出する。部分デザイン
ルール検証手段7はデザインルール抽出手段3で抽出さ
れた幾何学的デザインルール5の部分検証を行ない、領
域指定デザインルール検証手段8は上記領域指定デザイ
ンルール6の検証を行なう。検証エラー編集手段15は
デザインルール検証手段10の検証結果11と部分デザ
イン検証手段7の検証結果12と領域指定デザインルー
ル検証手段8の検証結果13の各エラー内容を編集しそ
の編集内容を検証結果出力手段18に与える。このよう
に異なる各幾何学的デザインルールに対応するマスクパ
ターン毎にマスクパターン検証が行なわれ、検証結果が
編集され、出力される。
The design rule extracting means 3 extracts the geometric design rule 5 of the mask pattern data 1, and the area design rule extracting means 4 extracts the geometric design rule 5.
The design rule 6 of the specified mask pattern is extracted from the mask pattern areas having different values. The partial design rule verification means 7 performs a partial verification of the geometric design rule 5 extracted by the design rule extraction means 3, and the area designation design rule verification means 8 verifies the area designation design rule 6. The verification error editing means 15 edits each error content of the verification result 11 of the design rule verification means 10, the verification result 12 of the partial design verification means 7 and the verification result 13 of the area design rule verification means 8 and verifies the edited content. It is given to the output means 18. Thus, the mask pattern verification is performed for each mask pattern corresponding to each different geometric design rule, and the verification result is edited and output.

【0008】[0008]

【実施例】図1はこの発明の一実施例に係る集積回路マ
スクパターン検証装置の構成を示すブロック図である。
図1において、2は検証すべき集積回路のマスクパター
ンデータ1を読み込むマスクパターンデータ読み込み手
段、3は上記マスクパターンデータ1に付加された幾何
学的デザインルール5を自動抽出するデザインルール抽
出手段、4は上記付加された幾何学的デザインルール5
が異なるマスクパターン領域のうちの指定されたマスク
パターンのデザインルール6およびそのデザインルール
ファイル名を抽出する領域指定デザインルール抽出手
段、7はデザインルール抽出手段3で抽出された幾何学
的デザインルール5の部分検証を行なう部分デザインル
ール検証手段、8は領域指定デザインルール抽出手段4
で抽出された領域指定デザインルール6の検証を行なう
領域指定デザインルール検証手段、10は人手等により
記述された幾何学的デザインルール9によりマスクパタ
ーンデータ1のマスクパターン検証を行なうデザインル
ール検証手段、11はデザインルール検証手段10によ
るデザインルール検証結果、12は部分デザインルール
検証手段7によるデザインルール検証結果、13は領域
指定デザインルール検証手段8によるデザインルール検
証結果、15はデザインルール検証結果11,12,1
3のエラー内容を編集しエラーデータ14を作成する検
証エラー編集手段、18はエラーデータ14をグラフィ
ック表示16とリスト出力17を行なう検証結果出力手
段である。
1 is a block diagram showing the configuration of an integrated circuit mask pattern verification apparatus according to an embodiment of the present invention.
In FIG. 1, 2 is a mask pattern data reading means for reading the mask pattern data 1 of the integrated circuit to be verified, 3 is a design rule extracting means for automatically extracting the geometrical design rule 5 added to the mask pattern data 1, 4 is the geometrical design rule 5 added above
Area design rule extracting means for extracting the design rule 6 of the specified mask pattern and the design rule file name of the mask pattern areas different from each other, and the geometric design rule 5 extracted by the design rule extracting means 3. Partial design rule verification means for carrying out partial verification of 8 and area designation design rule extraction means 4
The area designation design rule verification means for verifying the area design rule 6 extracted in step 10 is a design rule verification means for verifying the mask pattern of the mask pattern data 1 according to the geometric design rule 9 described manually. Reference numeral 11 is a design rule verification result by the design rule verification means 10, 12 is a design rule verification result by the partial design rule verification means 7, 13 is a design rule verification result by the area designation design rule verification means 8, 15 is a design rule verification result 11, 12, 1
A verification error editing means for editing the error content 3 and creating the error data 14, and a verification result outputting means 18 for displaying the error data 14 graphically 16 and outputting a list 17.

【0009】次に図2のフローチャートを参照してこの
実施例の動作について説明する。まずマスクパターンデ
ータ1をマスクパターンデータ読み込み手段2により読
み込む(ステップS1)。次に図3のようにマスクパタ
ーンに付加されている幾何学的デザインルールをデザイ
ンルール抽出手段3により抽出する(ステップS2)。
その抽出結果のデザインルール5は、該当するマスクパ
ターンの座標値も含まれる。次に図4のようにマスクパ
ターンに付加されている幾何学的デザインルールの情報
である領域指定データ(座標値)とデザインルール名を
領域指定デザインルール抽出手段4により抽出する(ス
テップS3)。即ち、幾何学的デザインルールが異なる
マスクパターン領域のうちの指定されたマスクパターン
のデザインルール6を抽出する。その後、人手等により
記述し作成されたデザインルール9によりデザインルー
ル検証手段10がマスクパターンデータ1のデザインル
ール検証を行ない、デザインルール検証結果11を作成
する(ステップS4)。次に抽出結果の上記デザインル
ール5により部分デザインルール検証手段7が部分デザ
インルール検証を行ない、デザインルール検証結果12
を作成する(ステップS5)。次にデザインルール6に
より領域指定デザインルール検証手段8は領域指定され
たマスクパターンのデザインルール検証を行ない、検証
結果13を作成する(ステップS6)。次にデザインル
ール検証結果11,12,13を検証エラー編集手段1
5が入力し、検証エラー内容を編集する(ステップS
7)。その後、その編集された検証エラー内容を検証結
果出力手段18によりグラフィック表示16およびリス
ト出力17をする(ステップS8)。
Next, the operation of this embodiment will be described with reference to the flow chart of FIG. First, the mask pattern data 1 is read by the mask pattern data reading means 2 (step S1). Next, the geometric rule added to the mask pattern as shown in FIG. 3 is extracted by the design rule extracting means 3 (step S2).
The design rule 5 of the extraction result also includes the coordinate value of the corresponding mask pattern. Next, as shown in FIG. 4, the area design data (coordinate value) and the design rule name, which are the information of the geometric design rule added to the mask pattern, are extracted by the area design rule extracting means 4 (step S3). That is, the design rule 6 of the specified mask pattern in the mask pattern areas having different geometric design rules is extracted. After that, the design rule verification means 10 verifies the design rule of the mask pattern data 1 according to the design rule 9 described and created by a human or the like to create the design rule verification result 11 (step S4). Next, the partial design rule verification means 7 performs the partial design rule verification according to the design rule 5 of the extraction result, and the design rule verification result 12
Is created (step S5). Next, the area designation design rule verification means 8 performs the design rule verification of the mask pattern in which the area is designated by the design rule 6, and creates the verification result 13 (step S6). Next, the design rule verification results 11, 12, and 13 are used as verification error editing means 1
5 inputs and edits the verification error content (step S
7). Thereafter, the edited verification error content is displayed graphically 16 and list output 17 by the verification result output means 18 (step S8).

【0010】なお、上記実施例では部分デザインルール
検証手段7と領域指定デザインルール検証手段8を個別
に設けたが、これらの手段をデザインルール検証手段1
0の中に設けてもよい。
In the above embodiment, the partial design rule verification means 7 and the area designation design rule verification means 8 are provided separately, but these means are used.
It may be provided in 0.

【0011】[0011]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、マスクパ
ターンデータに付加された幾何学的デザインルールを抽
出し、各デザインルールに対応したマスクパターン毎に
マスクパターン検証を行なうとともに、検証結果のエラ
ー内容を編集し、グラフィック表示およびリスト出力す
るように構成したので、マスクパターンのデザインルー
ルが部分的に異なる場合、異なる各デザインルールに対
応したマスクパターン毎にマスクパターン検証ができ、
これにより同一マスクパターンに対してデザインルール
を変更して複数回の検証を行なう必要がなく、また擬似
エラーの識別が不必要になり、したがってマスクパター
ン検証期間の短縮と精度向上が図れるという効果が得ら
れる。
As described above, according to the present invention, the geometrical design rule added to the mask pattern data is extracted, the mask pattern is verified for each mask pattern corresponding to each design rule, and the verification result is obtained. Since the error contents of are edited and displayed graphically and output as a list, if the design rules of the mask pattern are partially different, mask pattern verification can be performed for each mask pattern corresponding to different design rules.
As a result, it is not necessary to change the design rule for the same mask pattern and perform verification multiple times, and it is unnecessary to identify pseudo errors. Therefore, it is possible to shorten the mask pattern verification period and improve accuracy. can get.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例に係る集積回路マスクパタ
ーン検証装置の構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an integrated circuit mask pattern verification device according to an embodiment of the present invention.

【図2】この実施例の動作を示すフローチャートであ
る。
FIG. 2 is a flowchart showing the operation of this embodiment.

【図3】この実施例におけるマスクパターンに付加され
たデザインルールの一例を説明するための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining an example of a design rule added to a mask pattern in this embodiment.

【図4】この実施例におけるマスクパターンに付加され
た領域指定のデザインルールの一例を説明するための図
である。
FIG. 4 is a diagram for explaining an example of a design rule for designating a region added to a mask pattern in this embodiment.

【図5】従来の集積回路マスクパターン検証装置の構成
を示すブロック図である。
FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a conventional integrated circuit mask pattern verification device.

【図6】この従来例の動作を示すフローチャートであ
る。
FIG. 6 is a flowchart showing the operation of this conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 マスクパターンデータ読み込み手段 3 デザインルール抽出手段 4 領域指定デザインルール抽出手段 7 部分デザインルール検証手段 8 領域指定デザインルール検証手段 10 デザインルール検証手段 15 検証エラー編集手段 18 検証結果出力手段 2 mask pattern data reading means 3 design rule extracting means 4 area design rule extracting means 7 partial design rule verifying means 8 area design design rule verifying means 10 design rule verifying means 15 verification error editing means 18 verification result outputting means

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/66 J 7013−4M ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Internal reference number FI technical display location H01L 21/66 J 7013-4M

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 検証すべき集積回路のマスクパターンデ
ータを読み込むマスクパターンデータ読み込み手段と、
この読み込まれたマスクパターンデータのマスクパター
ンが人手等により記述された幾何学的デザインルールに
違反するかどうかを検証するデザインルール検証手段
と、この検証結果を出力する検証結果出力手段とを備え
た集積回路マスクパターン検証装置において、上記マス
クパターンデータ読み込み手段で読み込まれたマスクパ
ターンデータに付加された幾何学的デザインルールを抽
出するデザインルール抽出手段と、上記付加された幾何
学的デザインルールが異なるマスクパターン領域のうち
の指定されたマスクパターンのデザインルールを抽出す
る領域指定デザインルール抽出手段と、上記デザインル
ール抽出手段で抽出された幾何学的デザインルールの部
分検証を行なう部分デザインルール検証手段と、上記領
域指定デザインルール抽出手段で抽出された領域指定デ
ザインルールの検証を行なう領域指定デザインルール検
証手段と、上記デザインルール検証手段の検証結果と上
記部分デザイン検証手段の検証結果と上記領域指定デザ
インルール検証手段の検証結果の各エラー内容を編集し
その編集内容を上記検証結果出力手段に与える検証エラ
ー編集手段とを設けたことを特徴とする集積回路マスク
パターン検証装置。
Claims: 1. A mask pattern data reading means for reading mask pattern data of an integrated circuit to be verified,
A design rule verification means for verifying whether or not the mask pattern of the read mask pattern data violates a geometric design rule described by hand, and a verification result output means for outputting the verification result are provided. In the integrated circuit mask pattern verification device, the design rule extracting means for extracting the geometric design rule added to the mask pattern data read by the mask pattern data reading means is different from the added geometric design rule. Area design rule extracting means for extracting design rules of a specified mask pattern in the mask pattern area, and partial design rule verifying means for partially verifying the geometric design rules extracted by the design rule extracting means. , Designated area above Area design rule verification means for verifying the area design rule extracted by the extraction means, verification result of the design rule verification means, verification result of the partial design verification means, and verification result of the area design rule verification means And a verification error editing means for editing each error content and applying the edited content to the verification result output means.
JP20763391A 1991-07-24 1991-07-24 Device for verifying mask pattern of integrated circuit Pending JPH0527412A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20763391A JPH0527412A (en) 1991-07-24 1991-07-24 Device for verifying mask pattern of integrated circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20763391A JPH0527412A (en) 1991-07-24 1991-07-24 Device for verifying mask pattern of integrated circuit

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0527412A true JPH0527412A (en) 1993-02-05

Family

ID=16543029

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20763391A Pending JPH0527412A (en) 1991-07-24 1991-07-24 Device for verifying mask pattern of integrated circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0527412A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0527412A (en) Device for verifying mask pattern of integrated circuit
JPH10256386A (en) Generation of mask pattern data
JP3011120B2 (en) Layout information generating apparatus and layout information generating method
JPS6126243A (en) Output device for circuit connection check of lsi artwork data
JP2611423B2 (en) Processing equipment
JPH06290235A (en) Device for generating lsi layout verification test data
JPH1031691A (en) Layout verification device for mask pattern data
JP2705548B2 (en) Printed circuit board design support equipment
JPH09259170A (en) Waveform information library preparing device for integrated circuit cell
JPH05225285A (en) Analog element design device
JP2002041595A (en) Device and method for back annotation
JPH04367978A (en) Circuit diagram editor
JP2001014362A (en) Device and method for figure verification, and recording medium
JP2940124B2 (en) Substrate CAD system
JPH03234039A (en) Layout pattern verifier
JPH03198159A (en) Logical inspecting device
JPH05314215A (en) Layout pattern generator
JPH0778195A (en) Data updating system in circuit design cad
JPH0950457A (en) Layout vertification rule generator
JPH01133176A (en) Logical circuit block segmenting system
JPH03139722A (en) On-line programming system
JPH0553853A (en) Test pattern generating system
JPH0228883A (en) Mask layout data editing method
JPH0773208A (en) Circuit diagram editing system and circuit diagram for simulation input system
JPH03156958A (en) Mask pattern generation system