JPH05225285A - Analog element design device - Google Patents

Analog element design device

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Publication number
JPH05225285A
JPH05225285A JP4017340A JP1734092A JPH05225285A JP H05225285 A JPH05225285 A JP H05225285A JP 4017340 A JP4017340 A JP 4017340A JP 1734092 A JP1734092 A JP 1734092A JP H05225285 A JPH05225285 A JP H05225285A
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JP
Japan
Prior art keywords
information
analog
temporary storage
mask pattern
section
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP4017340A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyoshi Hisaie
弘義 久家
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Abstract

PURPOSE:To automatically obtain analog element data information once analog element design information is generated and to reduce the man-hours and shorten TAT. CONSTITUTION:An element information input part 2 extracts information which is necessary for respective parts from the analog element design information 1 consisting of element demand specifications, a design rule, and basic cell element data required for analog element designing and stores the information in a temporary storage part 7. A layout data generation part 3 receives information on respective element structures, shape parameter values, and mask pattern layer numbers from the temporary storage part 7 and generates analog element mask pattern information, an element extraction part 4 receives the mask pattern information and element extraction information from the temporary storage part 7 and generates element connection information including parasitic elements, and an element characteristic arithmetic part 5 receives the element connection information and element physical characteristic information from the temporary storage part 7 and generates analog element circuit characteristic information. An element data output part 6 receives the analog element mask pattern information and analog element characteristic element from the temporary storage part 7 and edits those pieces of information to output analog element data information 9.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、集積回路内のアナログ
素子の設計を行なうアナログ素子設計装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an analog element design apparatus for designing analog elements in an integrated circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路等におけるアナログ素子
の設計を行う場合は、回路設計者が、設計経験のノウハ
ウをもとに、人手で素子のマスクパタンを作成し、作成
したマスクパタンから素子以外の寄生素子を読取り、回
路接続情報を作成し、コンピュータを用いて回路シミュ
レーションを行ない、その結果によりこのアナログ素子
の特性を判定することにより行われていた。
2. Description of the Related Art When designing an analog element in a semiconductor integrated circuit, etc., a circuit designer manually creates a mask pattern of the element based on the know-how of design experience, and the created mask pattern is used to remove the elements other than the element. It was carried out by reading the parasitic element of, making circuit connection information, performing a circuit simulation using a computer, and judging the characteristic of this analog element from the result.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】この従来のアナログ素
子設計方法では、回路技術者の多大な工数及び時間を費
やすという欠点があり、さらに長年の経験が要求され、
また人為的なミスが起こるという問題がある。
This conventional analog device designing method has the drawback of spending a great deal of man-hours and time for a circuit engineer, and requires many years of experience.
There is also the problem of human error.

【0004】本発明の目的は、このような問題点を解決
し、設計工数を少くし、TATを短縮したアナログ素子
設計装置を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above problems, to provide an analog element designing apparatus having a reduced number of design steps and a shortened TAT.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明のアナログ素子設
計装置の構成は、アナログ素子設計に必要となる素子
値,サイズ,素子種類などからなる素子要求仕様と、素
子設計時に順守すべき電気的・幾何学的ルールを含む設
計ルールと、素子構成要素の基本形状データ及び形状パ
ラメータからなる基本セル要素データとからなるアナロ
グ素子設計情報から各部で必要となる情報を抽出する素
子情報入力部と;この素子情報入力部からの情報を一時
格納する一時記憶部と;この一時記憶部から前記各素子
構造,形状パラメータ値,マスクパタン層番号の情報を
受け、アナログ素子マスクパタン情報を生成し前記一時
記憶部に格納するレイアウトデータ生成部と;前記一時
記憶部からの前記マスクパタン情報と素子抽出情報を受
け、寄生素子を含む素子接続情報を生成し前記一時記憶
部に格納する素子抽出部と;前記一時記憶部から前記素
子接続情報と素子物理特性情報を受けてアナログ素子回
路特性情報を生成し前記一時記憶部に格納する素子特性
演算部と;前記一時記憶部から前記アナログ素子マスク
パタン情報とアナログ素子特性情報を受けこれら情報を
編集してアナログ素子データ情報を出力する素子データ
出力部と;前記各演算部及び前記一時記憶部を制御する
制御部とを備えることを特徴とする。
The structure of an analog element designing apparatus according to the present invention comprises element requirement specifications such as element values, sizes, and element types required for analog element design, and electrical specifications to be adhered to during element design. An element information input section for extracting information required by each section from analog element design information including design rules including geometric rules and basic cell element data including basic shape data and element parameters of element constituent elements; A temporary storage unit for temporarily storing information from the device information input unit; receiving information on each device structure, shape parameter value, and mask pattern layer number from the temporary storage unit, generating analog device mask pattern information, and temporarily storing the analog device mask pattern information. A layout data generation unit for storing in a storage unit; including a parasitic element for receiving the mask pattern information and element extraction information from the temporary storage unit An element extraction unit that generates child connection information and stores it in the temporary storage unit; receives the element connection information and device physical characteristic information from the temporary storage unit, generates analog element circuit characteristic information, and stores it in the temporary storage unit An element characteristic calculation unit; an element data output unit which receives the analog element mask pattern information and analog element characteristic information from the temporary storage unit and edits the information to output analog element data information; each of the calculation units and the temporary And a control unit for controlling the storage unit.

【0006】[0006]

【実施例】図1は本発明の一実施例のブロック図、図2
〜図6は図1の構成要素のブロック図である。本実施例
は、素子情報入力部2と、レイアウトデータ生成部3
と、素子抽出部4と、素子特性演算部5と、素子データ
出力部6と、一時記憶部7と、制御部8とから構成され
る。本実施例においては、アナログ素子設計情報(1)
を作成すれば、アナログ素子のマスクパタン及び特性情
報のアナログ素子データ情報(9)を自動的に作成でき
る。
1 is a block diagram of an embodiment of the present invention, FIG.
6 is a block diagram of the components of FIG. In this embodiment, the element information input unit 2 and the layout data generation unit 3
The element extraction unit 4, the element characteristic calculation unit 5, the element data output unit 6, the temporary storage unit 7, and the control unit 8. In this embodiment, analog element design information (1)
By creating, the mask pattern of the analog element and the analog element data information (9) of the characteristic information can be automatically created.

【0007】図において、アナログ素子設計情報ファイ
ル1は、アナログ素子設計に必要となる素子値,サイ
ズ,素子種類からなる素子要求仕様と、素子生成時に順
守すべき電気的・幾何学的ルールを含む設計ルールと、
素子構成要素の基本形状及び形状パラメータからなる基
本セル要素データとを含んでいるファイルである。
In the figure, an analog element design information file 1 includes element requirement specifications consisting of element values, sizes, and element types required for analog element design, and electrical / geometric rules to be observed when elements are generated. Design rules,
It is a file including basic cell element data consisting of basic shapes of element constituent elements and shape parameters.

【0008】素子情報入力部2は、図2に示されている
ように、アナログ素子設計情報ファイル1からその情報
を読取り、ステップ21でレイアウトデータ生成部の情
報と、ステップ22で素子抽出部4の情報と、ステップ
23で素子特性演算部5の情報を抽出する。このように
抽出された素子値,素子サイズ,素子種類,などからな
る素子要求仕様情報と、電気的・幾何学的レール情報と
素子構造,形状パラメータ,基本形状からなる基本セル
要素データ情報は、一時記憶部7に記憶される。
The element information input section 2 reads the information from the analog element design information file 1 as shown in FIG. 2, and the information of the layout data generating section at step 21 and the element extracting section 4 at step 22. And the information of the element characteristic calculation unit 5 in step 23. The element requirement specification information including the element value, the element size, the element type, and the like extracted in this way, and the basic cell element data information including the electrical / geometric rail information, the element structure, the shape parameter, and the basic shape are It is stored in the temporary storage unit 7.

【0009】続いて、レイアウトデータ生成部3は、図
3に示されるように、一時記憶部7から素子値,素子サ
イズ,素子種類の素子要求仕様と電気的・幾何学的設計
ルールと基本セル要素データを読出し、次にステップ3
1で素子要求仕様の素子種類に従って素子選択を行う。
これらの素子タイプが抵抗素子の場合、ステップ32で
コンタクト基本セル,抵抗基本セルを用いて素子要求仕
様の素子値,及び設計ルールの抵抗基本セルのシート抵
抗値を用いて抵抗基本セルのサイズを決定し、コンタク
ト基本セルと抵抗基本セルのカップリングを行なって抵
抗素子レイアウトデータの生成を行なう。
Subsequently, as shown in FIG. 3, the layout data generating section 3 receives the element value, the element size, the element requirement specification of the element type, the electrical / geometrical design rule and the basic cell from the temporary storage section 7, as shown in FIG. Read element data, then step 3
In 1, the element is selected according to the element type of the element required specifications.
When these element types are resistance elements, in step 32, the element value of the element requirement specification is calculated using the contact basic cell and the resistance basic cell, and the size of the resistance basic cell is calculated using the sheet resistance value of the resistance basic cell of the design rule. Then, the contact basic cell and the resistance basic cell are coupled to generate resistance element layout data.

【0010】次に、素子タイプが容量素子の場合、ステ
ップ33で素子要求仕様の素子値及び、設計ルール中の
単位容量値を用いて、容量基本エルのサイズを決定し幾
何学的ルールに違反しない様に容量素子のレイアウトデ
ータの生成を行なう。
Next, when the element type is a capacitive element, in step 33, the element value of the element required specifications and the unit capacitance value in the design rule are used to determine the size of the basic capacitance L and the geometric rule is violated. The layout data of the capacitive element is generated so as not to do so.

【0011】次に、素子タイプがバイポーラ素子の場
合、ステップ34で素子要求仕様のマルチエミッタ,マ
ルチコレクタなどの素子構造及び設計ルール中の素子構
造による配線幅の指定式により、コレクタ基本セル,ベ
ース基本セル,エミッタ基本セルのサイズを決定し、幾
何学的ルールに違反しないようにカップリングを行な
い、バイポーラ素子のレイアウトデータを生成する。
Next, in the case where the device type is a bipolar device, in step 34, the collector basic cell and the base are selected according to the device structure such as the multi-emitter and multi-collector of the device required specifications and the wiring width designation formula according to the device structure in the design rule. The size of the basic cell and the emitter basic cell is determined, and coupling is performed so as not to violate the geometrical rule, and layout data of the bipolar element is generated.

【0012】次に素子がMOS素子の場合、ステップ3
5で要求仕様のチャネル長,チャネル幅,拡散サイズに
より、チャネル素子セル,拡散基本セルのサイズを決定
し、幾何学的ルールに違反しないようにカップリングを
行ない、MOS素子のレイアウトデータを生成する。こ
うして生成された素子のレイアウトデータは、一時記憶
部7に記憶される。
Next, when the element is a MOS element, step 3
In step 5, the sizes of the channel element cell and the diffusion basic cell are determined according to the required channel length, channel width, and diffusion size, and coupling is performed so as not to violate the geometric rule to generate layout data of the MOS element. .. The layout data of the element thus generated is stored in the temporary storage unit 7.

【0013】次に、素子抽出部4は、図4に示されるよ
うに、ステップ41で一時記憶部7から、素子のレイア
ウト情報及び電気的・幾何学的ルール情報を読取り、素
子タイプを選択しその種類に応じて情報抽出を行なう。
Next, as shown in FIG. 4, the element extracting unit 4 reads the element layout information and electrical / geometric rule information from the temporary storage unit 7 in step 41, and selects the element type. Information is extracted according to the type.

【0014】抵抗素子の場合、ステップ42で抵抗基本
セルのシート抵抗値,容量値をもとに抵抗素子の抵抗値
及び寄生素子である容量素子を抽出し、素子タイプが容
量素子の場合、ステップ47で容量基本セルの単位容量
値及びシート抵抗値を用いて、容量素子の容量値及び寄
生素子である抵抗素子を抽出し、素子タイプがバイポー
ラ素子の場合、ステップ44でコレクタ基本セル,ベー
ス基本セル,エミッタ基本セルのシート抵抗値を基にバ
イポーラ素子のサイズ及び寄生素子である抵抗素子を抽
出し、素子タイプがMOS素子の場合、ステップ45で
チャネル基本セル,拡散基本セルのシート抵抗値,容量
値をもとにMOS素子と寄生素子である抵抗素子,容量
素子を抽出する。こうして抽出された各素子とそれらか
ら抽出された寄生素子情報は一時記憶部7に記憶され
る。
In the case of the resistance element, in step 42, the resistance value of the resistance element and the capacitance element which is a parasitic element are extracted based on the sheet resistance value and the capacitance value of the resistance basic cell. In step 47, the unit capacitance value and sheet resistance value of the capacitance basic cell are used to extract the capacitance value of the capacitance element and the resistance element which is a parasitic element. The size of the bipolar element and the resistance element that is a parasitic element are extracted based on the sheet resistance values of the cell and the emitter basic cell. If the element type is a MOS element, in step 45, the sheet resistance values of the channel basic cell and the diffusion basic cell, Based on the capacitance value, the MOS element and the parasitic resistance element and capacitance element are extracted. The respective elements extracted in this way and the parasitic element information extracted from them are stored in the temporary storage unit 7.

【0015】次に、素子特性演算部5は、図5に示され
ているように、ステップ51で一時記憶部7から素子抽
出部で生成された、素子値,素子サイズ,及び寄生素子
情報と、電気的・幾何学的ルールの特性テスト条件を読
みとり、回路解析用の回路接続情報の作成を行ない、次
に、ステップ52で修正節点解析法により解析を行な
い、各素子の電気的特性情報を作成する。作成された各
素子の電気的特性情報は、一時記憶部7に記憶される。
Next, as shown in FIG. 5, the element characteristic calculation unit 5 stores the element value, the element size, and the parasitic element information generated by the element extraction unit from the temporary storage unit 7 in step 51. , The characteristic test conditions of the electrical / geometric rules are read and circuit connection information for circuit analysis is created. Next, in step 52, the modified node analysis method is used to analyze the electrical characteristic information of each element. create. The created electrical characteristic information of each element is stored in the temporary storage unit 7.

【0016】次に素子データ出力部6は、図6に示すよ
うに一時記憶部7から素子のレイアウトデータ情報と、
電気的特性情報を読出して編集を行い、アナログ素子デ
ータ情報をそのファイル9に出力する。記憶回路につい
ては、一時記憶部7が各処理部の処理結果を記憶してい
る。
Next, the element data output section 6 outputs the element layout data information from the temporary storage section 7 as shown in FIG.
The electrical characteristic information is read and edited, and the analog element data information is output to the file 9. Regarding the storage circuit, the temporary storage unit 7 stores the processing result of each processing unit.

【0017】図7は本発明の第2の実施例の構成を示す
ブロック図、図8は図7の詳細ブロック図である。図に
おいて、複数の入出力専用装置10と演算処理専用装置
12とは、各装置間でデータの受渡しが可能なネットワ
ーク11で接続されている。アナログ素子設計情報ファ
イル1を作成し、入出力専用装置10に入力すれば、ア
ナログ素子設計情報1に基づいたアナログ素子データ情
報10を自動的に作成し、入出力専用装置10で出力す
ることができる。
FIG. 7 is a block diagram showing the configuration of the second embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a detailed block diagram of FIG. In the figure, the plurality of input / output dedicated devices 10 and the arithmetic processing dedicated device 12 are connected by a network 11 capable of passing data between the respective devices. If the analog element design information file 1 is created and input to the input / output dedicated device 10, the analog element data information 10 based on the analog element design information 1 can be automatically created and output by the input / output dedicated device 10. it can.

【0018】この演算処理専用装置12は、図8に示さ
れているように、図1に説明したレイアウトデータ生成
部3と素子抽出部4と素子特性演算部5及び演算処理専
用制御部15と演算処理専用一時記憶部16とから構成
されている。また、入出力専用装置10は、図1で説明
した素子情報入力部2と素子データ出力部6及び入出力
専用制御部13と入出力専用一時記憶部14とから構成
されている。
As shown in FIG. 8, the arithmetic processing-dedicated device 12 includes the layout data generating section 3, the element extracting section 4, the element characteristic calculating section 5, and the arithmetic processing-dedicated controlling section 15 described in FIG. It is composed of a temporary storage unit 16 dedicated to arithmetic processing. The input / output dedicated device 10 is composed of the element information input unit 2, the element data output unit 6, the input / output dedicated control unit 13, and the input / output dedicated temporary storage unit 14 described with reference to FIG.

【0019】ここで演算処理専用制御部15は、装置内
の各演算部の制御を行うと共に、ネットワーク11を介
して入出力専用装置10とのデータの受渡しを制御す
る。また、入出力専用装置13は装置内の各演算部の制
御を行うと共に、ネットワーク11を介して演算処理専
用装置12とのデータの受渡しを制御する。
Here, the arithmetic processing dedicated control unit 15 controls each arithmetic unit in the apparatus and also controls the transfer of data with the input / output dedicated apparatus 10 via the network 11. Further, the input / output-dedicated device 13 controls each arithmetic unit in the device, and also controls the transfer of data to / from the arithmetic processing-dedicated device 12 via the network 11.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、アナロ
グ素子設計において、従来設計者が過去の事例及び経験
によるノウハウを用いた設計を行ない、検証手段として
人手によるチェックを行なっていたが、アナログ素子生
成情報を作成すれば自動的にアナログ素子データ情報を
得ることができ、設計工数の削減,TATの短縮が可能
であるという効果がある。
As described above, according to the present invention, in the design of an analog element, a conventional designer performs a design using know-how based on past cases and experiences, and manually checks as a verification means. If the analog element generation information is created, the analog element data information can be automatically obtained, and there is an effect that the design man-hour and the TAT can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のアナログ素子設計装置の一実施例のブ
ロック図である。
FIG. 1 is a block diagram of an embodiment of an analog element designing apparatus of the present invention.

【図2】図1の素子生成入力部のフロー図。FIG. 2 is a flowchart of the element generation / input unit in FIG.

【図3】図1のレイアウトデータ生成部のフロー図。FIG. 3 is a flowchart of a layout data generation unit in FIG.

【図4】図1の素子抽出部のフロー図。FIG. 4 is a flowchart of the element extraction unit of FIG.

【図5】図1の素子特性演算部のフロー図。5 is a flowchart of the element characteristic calculation unit in FIG.

【図6】図1の素子データ出力部のフロー図。FIG. 6 is a flowchart of the element data output unit of FIG.

【図7】本発明の第2の実施例の装置構成を示すブロッ
ク図。
FIG. 7 is a block diagram showing a device configuration of a second embodiment of the present invention.

【図8】図7の詳細構成を示すブロック図。FIG. 8 is a block diagram showing a detailed configuration of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 アナログ素子設計情報ファイル 2 素子情報入力部 3 レイアウトデータ生成部 4 素子抽出部 5 素子特性演算部 6 素子データ出力部 7 一時記憶部 8 制御部 9 アナログ素子データ情報ファイル 10 入出力専用装置 11 ネートワーク 12 演算処理専用装置 13 入出力専用装置制御部 14 入出力専用装置一時記憶部 15 演算処理用制御部 16 演算処理用一時記憶部 1 Analog element design information file 2 Element information input section 3 Layout data generation section 4 Element extraction section 5 Element characteristic calculation section 6 Element data output section 7 Temporary storage section 8 Control section 9 Analog element data information file 10 Input / output dedicated device 11 Nate Work 12 Device for exclusive use of arithmetic processing 13 Control unit for exclusive use of input / output 14 Temporary storage unit for exclusive use of input / output 15 Control unit for arithmetic processing 16 Temporary storage unit for arithmetic processing

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アナログ素子設計に必要となる素子値,
サイズ,素子種類などからなる素子要求仕様と、素子設
計時に順守すべき電気的・幾何学的ルールを含む設計ル
ールと、素子構成要素の基本形状データ及び形状パラメ
ータからなる基本セル要素データとからなるアナログ素
子設計情報から各部で必要となる情報を抽出する素子情
報入力部と;この素子情報入力部からの情報を一時格納
する一時記憶部と;この一時記憶部から前記各素子構
造,形状パラメータ値,マスクパタン層番号の情報を受
け、アナログ素子マスクパタン情報を生成し前記一時記
憶部に格納するレイアウトデータ生成部と;前記一時記
憶部からの前記マスクパタン情報と素子抽出情報を受
け、寄生素子を含む素子接続情報を生成し前記一時記憶
部に格納する素子抽出部と;前記一時記憶部から前記素
子接続情報と素子物理特性情報を受けてアナログ素子回
路特性情報を生成し前記一時記憶部に格納する素子特性
演算部と;前記一時記憶部から前記アナログ素子マスク
パタン情報とアナログ素子特性情報を受けこれら情報を
編集してアナログ素子データ情報を出力する素子データ
出力部と;前記各演算部及び前記一時記憶部を制御する
制御部とを備えることを特徴とするアナログ素子設計装
置。
1. An element value required for analog element design,
It consists of element required specifications such as size and element type, design rules including electrical and geometrical rules that must be adhered to when designing the element, and basic cell element data consisting of element element basic shape data and shape parameters. An element information input section for extracting information required by each section from analog element design information; a temporary storage section for temporarily storing information from this element information input section; and each element structure and shape parameter value from this temporary storage section A layout data generation unit for receiving mask pattern layer number information, generating analog element mask pattern information and storing the analog pattern in the temporary storage unit; receiving the mask pattern information and element extraction information from the temporary storage unit, and parasitic element An element extraction unit that generates element connection information including the element connection information and stores the element connection information in the temporary storage unit; Element characteristic calculation section that receives the characteristic information to generate analog element circuit characteristic information and stores it in the temporary storage section; receives the analog element mask pattern information and analog element characteristic information from the temporary storage section and edits these information. An analog element designing device comprising: an element data output section for outputting analog element data information; and a control section for controlling each of the arithmetic sections and the temporary storage section.
JP4017340A 1992-02-03 1992-02-03 Analog element design device Withdrawn JPH05225285A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0877241A (en) * 1994-09-06 1996-03-22 Nec Corp Circuit diagram output method
CN102012955A (en) * 2010-11-29 2011-04-13 中兴通讯股份有限公司 Method and device for acquiring scattering matrix of backplane connector Pindrill array

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