JPH052701U - 液体材料気化供給装置 - Google Patents

液体材料気化供給装置

Info

Publication number
JPH052701U
JPH052701U JP5844991U JP5844991U JPH052701U JP H052701 U JPH052701 U JP H052701U JP 5844991 U JP5844991 U JP 5844991U JP 5844991 U JP5844991 U JP 5844991U JP H052701 U JPH052701 U JP H052701U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
liquid material
heater
tank
vaporization
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5844991U
Other languages
English (en)
Other versions
JP2557616Y2 (ja
Inventor
哲夫 清水
透 山岡
嘉浩 江畑
Original Assignee
株式会社エステツク
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社エステツク filed Critical 株式会社エステツク
Priority to JP1991058449U priority Critical patent/JP2557616Y2/ja
Publication of JPH052701U publication Critical patent/JPH052701U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2557616Y2 publication Critical patent/JP2557616Y2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】液体材料に悪影響を及ぼすことなく、また、ヒ
ータが断線したりすることなく、確実に液体材料を加熱
して、気化ガスを安定に発生しこれを供給することがで
きる液体材料気化供給装置を提供すること。 【構成】タンク2内に収容された液体材料3をヒータ5
によって加熱して気化させるようにした液体材料気化供
給装置において、前記タンク2内およびヒータ5にそれ
ぞれの温度を検出する温度センサ10, 11を設け、各温度
センサ10, 11に接続された温度コントローラ12, 13を互
いに直列接続してヒータ5の駆動回路14に介装すると共
に、ヒータ5側の温度コントローラ13の設定温度をタン
ク2側の温度コントローラ12の設定温度よりも高くして
ある。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、タンク内に収容された液体材料をヒータによって加熱して気化させ るようにした液体材料気化供給装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
前記液体材料気化供給装置においては、液体材料を一定温度に保ちながら一定 流量の気化ガスを得るため、従来、タンク内に液体材料の温度を検出する温度 センサを設けたり、あるいは、ヒータの温度またはその近傍の温度を検出する 温度センサを設けるなどしていた。
【0003】
【考案が解決しようとする課題】
しかしながら、前記何れの手段においても一長一短がある。すなわち、前記 の手段のように、タンク内に温度センサを設けた場合には、液体材料の温度を直 接測ることができるので、液体材料の温度を正確に制御することができるものの 、装置の温度立ち上がり時に、ヒータがオーバーヒートして断線に至るか、ある いは、液体材料のヒータに近い部分のみがオーバーヒートするなど、液体材料に 悪影響が及ぼされる。
【0004】 また、前記の手段のように、ヒータの温度またはその近傍の温度を検出する ための温度センサを設けたものでは、上述の欠点はないものの、液体材料の温度 を正確に制御できないといった欠点がある。特に、液体材料が気化して気化ガス が生じると、気化熱によって液体材料の温度が低下するが、このような場合、熱 の供給に時間遅れが生じ、安定したガスの供給が困難であるといった不都合があ る。
【0005】 本考案は、上述の事柄に留意してなされたもので、その目的とするところは、 液体材料に悪影響を及ぼすことなく、また、ヒータが断線したりすることなく、 確実に液体材料を加熱して、気化ガスを安定に発生しこれを供給することができ る液体材料気化供給装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本考案においては、タンク内に収容された液体材料 をヒータによって加熱して気化させるようにした液体材料気化供給装置において 、前記タンク内およびヒータにそれぞれの温度を検出する温度センサを設け、各 温度センサに接続された温度コントローラを互いに直列接続してヒータの駆動回 路に介装すると共に、ヒータ側の温度コントローラの設定温度をタンク側の温度 コントローラの設定温度よりも高くしてある。
【0007】
【作用】
本考案においては、タンク内およびヒータの温度をそれぞれ検出し、これを制 御することができる。そして、装置の温度立ち上がり時においては、ヒータの温 度が専用の温度センサで検出されるため、ヒータがオーバーヒートすることがな い。また、気化ガス発生時においては、気化熱によって液体材料が低下するが、 この液体材料の温度変化はタンク内の専用の温度センサによって検知され、ヒー タから熱の供給が行なわれるので、気化ガスが安定して発生する。
【0008】 さらに、各温度センサに接続された温度コントローラを互いに直列接続してヒ ータの駆動回路に介装すると共に、ヒータ側の温度コントローラの設定温度をタ ンク側の温度コントローラの設定温度よりも高くしてあるので、タンク内の液体 材料をより好ましい温度にまで加熱し、その温度を維持することができる。
【0009】
【実施例】
以下、本考案の実施例を、図面に基づいて説明する。
【0010】 図1は、本考案に係る液体材料気化供給装置の一構成例を概略的に示すもので 、この図において、1は恒温槽で、その天井や側壁などには、槽内を加熱するた めのヒータ(図外)が設けられている。2はこの恒温槽1の内部に設けられ、例 えばステンレス鋼よりなるタンクで、(C2 5 O)4 Si, SiCl4 , Ge Cl4 , POCl3 などの液体材料3を収容し、これを気化させて気化ガス4を 発生させるものである。5はこのタンク2の底部外壁に密着するように設けられ 、タンク2を直接加熱するための例えばプレートヒータである。
【0011】 6は図外の液体材料源に接続された材料供給管、7はストップバルブである。 8は発生した気化ガス4を導出し、これを例えば半導体製造装置などの外部装置 (図外)に送り出す気化ガス流路、9は恒温槽1の内部に設けられ、気化ガス4 の流量を制御するマスフローコントローラで、例えば図外のヒータで加熱される ようにしてある。
【0012】 10はタンク2内に挿設される温度センサで、タンク2内の液体材料3の温度を 検出する。11はプレートヒータ5に設けられる温度センサで、プレートヒータ5 またはその近傍の温度を検出する。これらの温度センサ10,11は、例えば熱電対 または白金抵抗体よりなる。
【0013】 12はタンク2内に挿設された温度センサ10に接続された温度コントローラ、13 はプレートヒータ5に設けられた温度センサ11に接続された温度コントローラで 、両温度コントローラ12, 13は、互いに直列に接続され、プレートヒータ5の駆 動回路14に介装されている。そして、プレートヒータ5側の温度コントローラ13 の設定温度(オンオフ動作する温度)は、タンク2側の温度コントローラ12の設 定温度よりも、例えば5〜50℃高くしてある。なお、15は交流電源である。
【0014】 次に、上記構成の液体材料気化供給装置の動作について説明する。タンク2内 の液体材料3は、加熱されなくても常時、若干は気化して気化ガス4となってい るのであるが、マスフローコントローラ9が閉止されている限りは再凝縮してタ ンク2内に戻っている。そして、恒温槽1をそのヒータによって加熱すると共に 、プレートヒータ5によってタンク1を加熱し、さらに、マスフローコントロー ラ9をそのヒータによって加熱する。
【0015】 タンク2が加熱されることにより、その内部の液体材料3の気化が盛んになる が、マスフローコントローラ9が閉止されているので、再凝縮してタンク2内に 戻る。この装置における温度の立ち上がり時、プレートヒータ5の温度が温度セ ンサ11によって検知されているので、プレートヒータ5がオーバーヒートするこ とがない。従って、プレートヒータ5が断線することがない。
【0016】 そして、マスフローコントローラ9の温度が所定の値に達すると、これを開状 態にする信号が発せられ、これによって、マスフローコントローラ9は、開状態 になり、気化ガス4を下流側に送出できる状態になるが、気化ガス4の送出時、 タンク2を加熱するプレートヒータ5がオフされる。また、このとき、マスフロ ーコントローラ9を加熱するヒータもオフされるが、図外の温度センサの働きで マスフローコントローラ9が前記所定の温度より低下すると、ヒータが再びオン するようにしてある。
【0017】 そして、このとき、恒温槽1内の温度はそのヒータによって所定の値になるよ うに温度調節される。つまり、気化ガス4の供給時にはタンク2の直接加熱を停 止するとともに、恒温槽1に設けたヒータによって恒温槽1内の温度が所定値に なるように温度調節し、この状態の下に、気化ガスをマスフローコントローラ9 を介して外部装置に供給するのである。
【0018】 上記気化ガス4の発生時においては、気化熱によって液体材料3が低下するが 、このときの液体材料3の温度変化がタンク2内の温度センサ10によって検知さ れ、プレートヒータ5を発熱させて熱の供給を行なえるので、気化ガス4が安定 して発生する。そして、タンク2側の温度コントローラ12とプレートヒータ5側 の温度コントローラ13とが互いに直列接続された状態で、プレートヒータ5の駆 動回路14に介装されると共に、ヒータ5側の温度コントローラ13の設定温度をタ ンク2側の温度コントローラ12の設定温度よりも高くしてあるので、タンク2内 の液体材料3をより好ましい温度にまで加熱し、その温度を維持することができ る。
【0019】 なお、プレートヒータ5に代えて他のヒータを用いてもよい。また、マスフロ ーコントローラ9は恒温槽1の外部に設けてもよい。
【0020】
【考案の効果】
以上説明したように、本考案によれば、液体材料に悪影響を及ぼすことなく、 また、ヒータが断線したりすることなく、確実に液体材料を加熱して、気化ガス を安定に発生しこれを供給することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案に係る液体材料気化供給装置の一例を概
略的に示す図である。
【符号の説明】
2…タンク、3…液体材料、5…ヒータ、10, 11…温度
センサ、12, 13…温度コントローラ、14…駆動回路。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 【請求項1】 タンク内に収容された液体材料をヒータ
    によって加熱して気化させるようにした液体材料気化供
    給装置において、前記タンク内およびヒータにそれぞれ
    の温度を検出する温度センサを設け、各温度センサに接
    続された温度コントローラを互いに直列接続してヒータ
    の駆動回路に介装すると共に、ヒータ側の温度コントロ
    ーラの設定温度をタンク側の温度コントローラの設定温
    度よりも高くしてあることを特徴とする液体材料気化供
    給装置。
JP1991058449U 1991-06-29 1991-06-29 液体材料気化供給装置 Expired - Lifetime JP2557616Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1991058449U JP2557616Y2 (ja) 1991-06-29 1991-06-29 液体材料気化供給装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1991058449U JP2557616Y2 (ja) 1991-06-29 1991-06-29 液体材料気化供給装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH052701U true JPH052701U (ja) 1993-01-19
JP2557616Y2 JP2557616Y2 (ja) 1997-12-10

Family

ID=13084729

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1991058449U Expired - Lifetime JP2557616Y2 (ja) 1991-06-29 1991-06-29 液体材料気化供給装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2557616Y2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014109570A (ja) * 2012-11-30 2014-06-12 Korea Atomic Energy Research Inst 放射性核種を含む廃液の分離回収装置及びそれを用いた分離回収方法
JP2021030216A (ja) * 2019-08-23 2021-03-01 廣化科技股▲分▼有限公司 純ギ酸ガス供給装置、純ギ酸ガスが供給されるはんだ付けシステム及び純ギ酸ガス供給方法
US11873555B2 (en) 2020-03-19 2024-01-16 Kokusai Electric Corporation Vaporizer, substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6483666A (en) * 1987-09-25 1989-03-29 Furukawa Electric Co Ltd Liquid raw material evaporating device
JPH02261531A (ja) * 1989-04-01 1990-10-24 Tel Sagami Ltd 液体材料気化供給装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6483666A (en) * 1987-09-25 1989-03-29 Furukawa Electric Co Ltd Liquid raw material evaporating device
JPH02261531A (ja) * 1989-04-01 1990-10-24 Tel Sagami Ltd 液体材料気化供給装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014109570A (ja) * 2012-11-30 2014-06-12 Korea Atomic Energy Research Inst 放射性核種を含む廃液の分離回収装置及びそれを用いた分離回収方法
JP2021030216A (ja) * 2019-08-23 2021-03-01 廣化科技股▲分▼有限公司 純ギ酸ガス供給装置、純ギ酸ガスが供給されるはんだ付けシステム及び純ギ酸ガス供給方法
US11873555B2 (en) 2020-03-19 2024-01-16 Kokusai Electric Corporation Vaporizer, substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2557616Y2 (ja) 1997-12-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3828821B2 (ja) 液体材料気化供給装置
JPH052701U (ja) 液体材料気化供給装置
JPS6483666A (en) Liquid raw material evaporating device
JP2814380B2 (ja) 液体材料気化供給装置
JPS6051917A (ja) 恒温庫
JPH02261530A (ja) 液体材料気化供給装置
JPS6310441Y2 (ja)
JPH04188728A (ja) 湿式エッチング装置
JPS62225850A (ja) 温水器の制御装置
JP3127753B2 (ja) 電気湯沸かし器
JPH02267453A (ja) 給湯装置
JPH02261531A (ja) 液体材料気化供給装置
JPH0985004A (ja) 液面制御機構を備えた濃縮・蒸留装置
JPH0634819Y2 (ja) 定露点飽和気体発生装置
JPS6329148A (ja) 自動給湯風呂釜の水位検出装置
JP3148916B2 (ja) 電気湯沸かし器
JPH078259B2 (ja) 電気湯沸器
JPS6468213A (en) Electric water heater
KR200181162Y1 (ko) 반도체 소자 제조용 식각장치
JPS62248932A (ja) 電気こたつ
JPS62248931A (ja) 電気こたつ
JPS6359789B2 (ja)
JPH0889405A (ja) 電気湯沸かし器
JP2002336680A (ja) 気化タンク
JPH02169955A (ja) 給湯装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250