JPH05269462A - 研削排液の回収再生方法 - Google Patents
研削排液の回収再生方法Info
- Publication number
- JPH05269462A JPH05269462A JP10038992A JP10038992A JPH05269462A JP H05269462 A JPH05269462 A JP H05269462A JP 10038992 A JP10038992 A JP 10038992A JP 10038992 A JP10038992 A JP 10038992A JP H05269462 A JPH05269462 A JP H05269462A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grinding
- concentration
- liquid
- processing machine
- filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 アルミニウム磁気ディスク基板等を研削する
加工機から排出された研削排液をフィルターでその固形
分等を濾過し循環再使用するに際し、フィルターとして
分画分子量５０００〜１０００００の限外濾過フィルタ
ーを用い、このフィルターで浄化された研削液を加工機
へ供給する回路途中でその濃度を検出し、所定濃度との
差が所定値を超えた場合に研削原液を補給し、所定濃度
の研削液を加工機に供給する。 【効果】 研削排液が系外に排出されず、公害を発生さ
せることが防止され、高性能フィルターを用いているた
め、研削液中の固形分がほぼ完全に濾別され、有効成分
は殆ど通過させることができるため、研削排液が有効に
回収、再生でき製造コストを下げることができる。さら
に、再生された研削液は従来のフィルターを用いた再生
液に比べ製品の品質を損なうことが防止される。
加工機から排出された研削排液をフィルターでその固形
分等を濾過し循環再使用するに際し、フィルターとして
分画分子量５０００〜１０００００の限外濾過フィルタ
ーを用い、このフィルターで浄化された研削液を加工機
へ供給する回路途中でその濃度を検出し、所定濃度との
差が所定値を超えた場合に研削原液を補給し、所定濃度
の研削液を加工機に供給する。 【効果】 研削排液が系外に排出されず、公害を発生さ
せることが防止され、高性能フィルターを用いているた
め、研削液中の固形分がほぼ完全に濾別され、有効成分
は殆ど通過させることができるため、研削排液が有効に
回収、再生でき製造コストを下げることができる。さら
に、再生された研削液は従来のフィルターを用いた再生
液に比べ製品の品質を損なうことが防止される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はアルミニウム磁気ディス
ク基板等の研削に用いた研削液等を循環再生する方法に
関する。
ク基板等の研削に用いた研削液等を循環再生する方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術及びその問題点】通常、各種部材の研削工
程に用いる研削液の処理は経済的あるいは公害の観点か
ら重要な要件である。例えば磁気ディスクを製造する工
程においては、アルミニウムブランク材を界面活性剤を
主成分とする研削液を用いて研削することが行われてい
るが、このような研削工程における排液中にはＣＯＤ，
ＢＯＤ成分が多く含まれ、さらには研削屑（ＳｉＣ，Ｐ
ＶＡ，Ａｌ，Ａｌ2Ｏ3）が含まれる。この黒い排液は環
境保護の点から外部へ流出させることは許されず、とい
って工場内の処理設備においても泡立ち、フロック発生
等の問題点を有するものであった。
程に用いる研削液の処理は経済的あるいは公害の観点か
ら重要な要件である。例えば磁気ディスクを製造する工
程においては、アルミニウムブランク材を界面活性剤を
主成分とする研削液を用いて研削することが行われてい
るが、このような研削工程における排液中にはＣＯＤ，
ＢＯＤ成分が多く含まれ、さらには研削屑（ＳｉＣ，Ｐ
ＶＡ，Ａｌ，Ａｌ2Ｏ3）が含まれる。この黒い排液は環
境保護の点から外部へ流出させることは許されず、とい
って工場内の処理設備においても泡立ち、フロック発生
等の問題点を有するものであった。
【０００３】これら排液の処理方法としては凝集沈殿
法、遠心分離法、活性炭吸着法等があるが、いずれもコ
ストがかかる上に固形分を除去した液でも、ＣＯＤ値が
高く、公害問題の解決にはならないものであった。ま
た、簡単なフィルターだけで排液を循環再生すると、固
形分が除去しきれず、研削屑で被加工物をキズ付けるこ
とがあり、製品歩留を下げる原因となっていた。
法、遠心分離法、活性炭吸着法等があるが、いずれもコ
ストがかかる上に固形分を除去した液でも、ＣＯＤ値が
高く、公害問題の解決にはならないものであった。ま
た、簡単なフィルターだけで排液を循環再生すると、固
形分が除去しきれず、研削屑で被加工物をキズ付けるこ
とがあり、製品歩留を下げる原因となっていた。
【０００４】本発明は、排液中の固形分をほぼ完全に除
去し、排液を系外に放出せず、再生循環することでコス
トダウンと公害防止を図り得る方法を提供することを目
的とするものである。
去し、排液を系外に放出せず、再生循環することでコス
トダウンと公害防止を図り得る方法を提供することを目
的とするものである。
【０００５】
【問題点を解決するための手段】本発明は、加工機から
排出された排液をフィルターでその固形分等を濾過し循
環再使用するに際し、フィルターとして分画分子量５０
００〜１０００００の限外濾過フィルターを用い、この
フィルターで浄化された研削液を加工機へ供給する回路
途中でその濃度を検出し、所定濃度との差が所定値を超
えた場合に研削原液を補給し、所定濃度の研削液を加工
機に供給することを特徴とするものであり、これによ
り、前記問題点を解決したものである。このような本発
明はアルミニウム磁気ディスク基板等の研削に用いられ
た研削排液の回収再生に特に有効である。
排出された排液をフィルターでその固形分等を濾過し循
環再使用するに際し、フィルターとして分画分子量５０
００〜１０００００の限外濾過フィルターを用い、この
フィルターで浄化された研削液を加工機へ供給する回路
途中でその濃度を検出し、所定濃度との差が所定値を超
えた場合に研削原液を補給し、所定濃度の研削液を加工
機に供給することを特徴とするものであり、これによ
り、前記問題点を解決したものである。このような本発
明はアルミニウム磁気ディスク基板等の研削に用いられ
た研削排液の回収再生に特に有効である。
【０００６】以下、本発明を添付の図１を参照して説明
する。図１において、研削加工機１から排出された研削
排液は排液貯槽２に貯えられ、そこからポンプ３により
排液原液貯槽４に貯えられ、ポンプ５により循環槽６へ
送られる。循環槽６の排液は高性能の限外濾過フィルタ
ー７へ送られ、そこで固形分が濾別され、循環槽６へと
循環される。限外濾過フィルター７で一部の浄化された
研削液はフィルター７から研削液貯槽８へと送られる。
この研削液貯槽８には研削原液タンク９からポンプ１０
により研削原液が補充されるようになっている。研削液
貯槽８内の研削液はポンプ１１により研削加工機１へと
供給される。また、研削原液は研削加工機１の停止時に
はバイバスにより研削液貯槽８へ戻るようになってい
る。
する。図１において、研削加工機１から排出された研削
排液は排液貯槽２に貯えられ、そこからポンプ３により
排液原液貯槽４に貯えられ、ポンプ５により循環槽６へ
送られる。循環槽６の排液は高性能の限外濾過フィルタ
ー７へ送られ、そこで固形分が濾別され、循環槽６へと
循環される。限外濾過フィルター７で一部の浄化された
研削液はフィルター７から研削液貯槽８へと送られる。
この研削液貯槽８には研削原液タンク９からポンプ１０
により研削原液が補充されるようになっている。研削液
貯槽８内の研削液はポンプ１１により研削加工機１へと
供給される。また、研削原液は研削加工機１の停止時に
はバイバスにより研削液貯槽８へ戻るようになってい
る。
【０００７】このような装置構成において、限外濾過フ
ィルターとして分画分子量５０００〜１０００００好ま
しくは１００００〜３００００の、例えばノンセルロー
スの中空フィルターにより構成されたホローファイバー
モジュールを使用する。そして、研削液貯槽８から研削
加工機１へ研削液を供給する回路途中に研削液の濃度を
計測するための濃度分析装置１２を設け、これにより研
削加工機へ供給される研削液濃度を計測し、その濃度が
所定値より外れた場合には濃度分析装置１２からの信号
をポンプ１１を作動させ、研削原液タンク９内の原液を
研削液貯槽８へと供給し、所定の濃度とする。この濃度
分析装置１２は液体の屈折率を測定することで濃度換算
するもの等が利用される。循環槽６内の研削液濃度が徐
々に濃くなり一定の濃度、例えば４０倍まで濃縮された
場合、循環槽６内の排液をドレイン１３より全量抜取
り、排液原液貯槽４の新しい排液に入れ替える。これは
延べ循環液量で管理してもよい。
ィルターとして分画分子量５０００〜１０００００好ま
しくは１００００〜３００００の、例えばノンセルロー
スの中空フィルターにより構成されたホローファイバー
モジュールを使用する。そして、研削液貯槽８から研削
加工機１へ研削液を供給する回路途中に研削液の濃度を
計測するための濃度分析装置１２を設け、これにより研
削加工機へ供給される研削液濃度を計測し、その濃度が
所定値より外れた場合には濃度分析装置１２からの信号
をポンプ１１を作動させ、研削原液タンク９内の原液を
研削液貯槽８へと供給し、所定の濃度とする。この濃度
分析装置１２は液体の屈折率を測定することで濃度換算
するもの等が利用される。循環槽６内の研削液濃度が徐
々に濃くなり一定の濃度、例えば４０倍まで濃縮された
場合、循環槽６内の排液をドレイン１３より全量抜取
り、排液原液貯槽４の新しい排液に入れ替える。これは
延べ循環液量で管理してもよい。
【０００８】
【実施例】本発明方法を磁気ディスク用アルミニウムブ
ランク材の仕上研削に用いた場合の実施例を以下に説明
する。磁気ディスク用アルミニウムブランク材（Ａ５０
８６）の仕上研削として界面活性剤を主成分とする界面
活性剤濃度が１％の研削液を用い、研削加工を行った。
高性能フィルターとしては、分画分子量２００００のノ
ンセルロースの中空フィルターにより構成されたホロー
ファイバーモジュールを用いた。濃度分析装置としては
糖度計を用いた。
ランク材の仕上研削に用いた場合の実施例を以下に説明
する。磁気ディスク用アルミニウムブランク材（Ａ５０
８６）の仕上研削として界面活性剤を主成分とする界面
活性剤濃度が１％の研削液を用い、研削加工を行った。
高性能フィルターとしては、分画分子量２００００のノ
ンセルロースの中空フィルターにより構成されたホロー
ファイバーモジュールを用いた。濃度分析装置としては
糖度計を用いた。
【０００９】循環槽及び高性能フィルターの回路を循環
させた排液に排液原液貯槽から排液原液を随時補給しな
がらフィルターにより濾過したところ、濾別された研削
液中には研削屑等の固形分は殆ど含まれず、良好な濾過
が行われていた。このような濾過操作を繰返し、循環槽
内の排液濃度が元の４０倍になった時点で循環槽のドレ
インを開放し該槽内の濃縮された排液を取り出した。ま
た、濃度分析装置としては液体の屈折率を計測する糖度
計を用い、研削液貯槽から研削加工機へ供給する研削液
濃度を計測しつつ研削液濃度変化に応じて原液として界
面活性剤を補充した。
させた排液に排液原液貯槽から排液原液を随時補給しな
がらフィルターにより濾過したところ、濾別された研削
液中には研削屑等の固形分は殆ど含まれず、良好な濾過
が行われていた。このような濾過操作を繰返し、循環槽
内の排液濃度が元の４０倍になった時点で循環槽のドレ
インを開放し該槽内の濃縮された排液を取り出した。ま
た、濃度分析装置としては液体の屈折率を計測する糖度
計を用い、研削液貯槽から研削加工機へ供給する研削液
濃度を計測しつつ研削液濃度変化に応じて原液として界
面活性剤を補充した。
【００１０】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、研削排
液が系外に排出されず、公害を発生させることが防止さ
れ、高性能フィルターを用いているため、研削液中の固
形分がほぼ完全に濾別され、有効成分は殆ど通過させる
ことができるため、研削排液が有効に回収、再生でき製
造コストを下げることができる。さらに、再生された研
削液は従来のフィルターを用いた再生液に比べ製品の品
質を損なうことが防止される。
液が系外に排出されず、公害を発生させることが防止さ
れ、高性能フィルターを用いているため、研削液中の固
形分がほぼ完全に濾別され、有効成分は殆ど通過させる
ことができるため、研削排液が有効に回収、再生でき製
造コストを下げることができる。さらに、再生された研
削液は従来のフィルターを用いた再生液に比べ製品の品
質を損なうことが防止される。
【図１】本発明方法を実施する場合の工程の一例を示す
説明図である。
説明図である。
１ 研削加工機 ２ 排液貯槽 ３ ポンプ ４ 排液原液貯槽 ５ ポンプ ６ 循環槽 ７ 限外濾過フィルター ８ 研削液貯槽 ９ 研削原液タンク １０ ポンプ １１ ポンプ １２ 濃度分析装置
Claims (2)
- 【請求項１】 加工機から排出された研削排液をフィル
ターでその固形分等を濾過し循環再使用するに際し、フ
ィルターとして分画分子量５０００〜１０００００の限
外濾過フィルターを用い、このフィルターで浄化された
研削液を加工機へ供給する回路途中でその濃度を検出
し、所定濃度との差が所定値を超えた場合に研削原液を
補給し、所定濃度の研削液を加工機に供給することを特
徴とする研削排液の回収再生方法。 - 【請求項２】 研削液がアルミニウム磁気ディスク基板
等の研削に用いられたものである請求項１記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10038992A JPH05269462A (ja) | 1992-03-26 | 1992-03-26 | 研削排液の回収再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10038992A JPH05269462A (ja) | 1992-03-26 | 1992-03-26 | 研削排液の回収再生方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05269462A true JPH05269462A (ja) | 1993-10-19 |
Family
ID=14272647
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10038992A Pending JPH05269462A (ja) | 1992-03-26 | 1992-03-26 | 研削排液の回収再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05269462A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020065106A (ko) * | 2001-02-05 | 2002-08-13 | 동안엔지니어링 주식회사 | 반도체 세정폐수 중 절삭공정 폐수의 재이용방법 |
| WO2003015903A1 (en) * | 2001-08-17 | 2003-02-27 | Agency For Science, Technology And Research | Hollow fiber membrane for the treatment of waste lubricants and method for its production |
| JP2004515905A (ja) * | 2000-05-19 | 2004-05-27 | モトローラ・インコーポレイテッド | 半導体製造のための化学機械的研磨システム |
| JP2006007357A (ja) * | 2004-06-24 | 2006-01-12 | Topcon Corp | 眼鏡レンズ研削加工装置の研削水処理装置 |
| JP2021062341A (ja) * | 2019-10-16 | 2021-04-22 | ＷＡＴＡＳＥ ｃａｓｔｉｎｇｓ 株式会社 | 切削水浄化システム |
-
1992
- 1992-03-26 JP JP10038992A patent/JPH05269462A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004515905A (ja) * | 2000-05-19 | 2004-05-27 | モトローラ・インコーポレイテッド | 半導体製造のための化学機械的研磨システム |
| JP4869536B2 (ja) * | 2000-05-19 | 2012-02-08 | フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド | 半導体製造のための化学機械的研磨システム |
| KR20020065106A (ko) * | 2001-02-05 | 2002-08-13 | 동안엔지니어링 주식회사 | 반도체 세정폐수 중 절삭공정 폐수의 재이용방법 |
| WO2003015903A1 (en) * | 2001-08-17 | 2003-02-27 | Agency For Science, Technology And Research | Hollow fiber membrane for the treatment of waste lubricants and method for its production |
| JP2006007357A (ja) * | 2004-06-24 | 2006-01-12 | Topcon Corp | 眼鏡レンズ研削加工装置の研削水処理装置 |
| JP4522163B2 (ja) * | 2004-06-24 | 2010-08-11 | 株式会社トプコン | 眼鏡レンズ研削加工装置の研削水処理装置 |
| JP2021062341A (ja) * | 2019-10-16 | 2021-04-22 | ＷＡＴＡＳＥ ｃａｓｔｉｎｇｓ 株式会社 | 切削水浄化システム |
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