JP2950621B2 - 超純水の製造方法 - Google Patents

超純水の製造方法

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JP2950621B2 JP2405356A JP40535690A JP2950621B2 JP 2950621 B2 JP2950621 B2 JP 2950621B2 JP 2405356 A JP2405356 A JP 2405356A JP 40535690 A JP40535690 A JP 40535690A JP 2950621 B2 JP2950621 B2 JP 2950621B2
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    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
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    • C02F1/44Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
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  • Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はLSIや超LSIを生産
する電子工業において、その中間製品である半導体ウエ
ハーまたはチップ(以下半導体ウエハーという)の洗浄
用の超純水を製造する方法の改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】LSIや超LSIを生産する電子工業に
おいては、その中間製品である半導体ウエハーの洗浄に
あたり、その歩留まりを向上させるために、イオン、微
粒子、有機性炭素(以下T.O.Cという)、生菌等を
可及的に除去した、いわゆる超純水を必要とする。
【0003】かかる超純水を製造する装置の一例を、図
2に示したフローに基づいて説明すると、工業用水等の
原水を先ず凝集沈殿装置、砂濾過器、活性炭濾過器等の
前処理装置で処理して清澄な原水となし、当該原水と後
述の回収系システムを経た回収水とを再生型イオン交換
装置で処理して純水を得る。
【0004】当該イオン交換装置としては、例えば強酸
性カチオン交換樹脂を充填したカチオン塔と、脱炭酸塔
と、強塩基性アニオン交換樹脂を充填したアニオン塔と
からなる2床3塔式純水製造装置や塔内に前記カチオン
交換樹脂と前記アニオン交換樹脂との混合樹脂を充填し
た混床式純水製造装置、あるいはこれらを組み合わせた
装置等であってかつ再生設備を有するものが使用され、
塔内に充填されているイオン交換樹脂の能力が低下した
り、あるいは規定の採水量に達したりした場合は、酸や
アルカリ等の再生剤を使用してイオン交換樹脂の再生を
行い、再び純水の製造を行う。
【0005】次いで、前記イオン交換装置から得られる
純水を逆浸透膜装置(RO)で処理してイオンや微粒
子、T.O.C、生菌等の不純物を可能な限り除去した
透過水と、これらの不純物が濃縮された非透過水とに分
離する。得られた透過水は一次純水として一次純水貯槽
に貯留する。一方、前記逆浸透膜装置の非透過水は水の
有効利用の観点から前記再生型イオン交換装置の再生用
水として使用されたり、あるいは系外にブローされる。
【0006】ここまでが通常一次系システムと称される
が、場合によっては前記再生型イオン交換装置と逆浸透
膜装置との間に紫外線酸化装置を設けたり、あるいは逆
浸透膜装置の後段に、紫外線殺菌装置を設けたりする場
合もある。
【0007】なお、上述のような処理システムは逆浸透
膜装置(RO)を再生型イオン交換装置の後段に設置す
ることから後段ROシステムと称することがあるが、こ
れとは逆に逆浸透膜装置を再生型イオン交換装置の前段
に設置する処理システムも採用されており、このような
システムを前段ROシステムと称することがある。
【0008】次に、一次純水貯槽内の一次純水を紫外線
酸化装置、非再生型イオン交換装置(カートリッジポリ
シャー)、限外濾過膜装置(UF)等を組み合わせた二
次系システム(サブシステムと称することもある)で更
に高度処理して超純水を得、当該超純水をユースポイン
トに供給する。ユースポイントでは供給された超純水の
一部が半導体ウエハーの洗浄に使用され、残りは一次純
水貯槽に戻される。
【0009】また、半導体ウエハーを洗浄することによ
りユースポイントから排出される洗浄排水の内、例えば
比較的水質の良好なものを活性炭装置、イオン交換装
置、紫外線酸化装置、あるいは精密濾過膜装置等の膜分
離装置(不図示)等を組み合わせた回収系システムで処
理し、洗浄排水中に含まれる微量のT.O.Cやイオン
等の不純物を除去した回収水を得る。
【0010】得られる回収水は、通常イオン、微粒子、
T.O.C等の不純物含有量が前記前処理装置から供給
される清澄な原水に較べて著しく低い高品質の水であ
り、十分再利用可能である。したがって、当該回収水を
一次系システムの前記再生型イオン交換装置の前段に戻
し、前処理装置から供給される清澄な原水と混合して再
生型イオン交換装置の被処理水として使用する。
【0011】また、ユースポイントから排出される洗浄
排水の内、比較的水質の悪いものは、図示していない別
系統の排水処理装置で処理される。
【0012】なお、前記洗浄排水の回収率は一般に約8
5〜90%というような高率に達し、そのため再生型イ
オン交換装置の前段における回収水と前処理装置から供
給される清澄原水との混合比率は通常8〜10:1程度
となる。したがって、前記再生型イオン交換装置の被処
理水である回収水と原水との混合水の水質も、回収水の
水質に近い、すなわち工業用水等の原水に較べて不純物
含有量の著しく低いものとなる。
【0013】上述した、すなわち図2に示したようなフ
ローの装置は、超純水製造装置のほんの一例であり、こ
の他にも種々の変形例のものが採用されている。
【0014】ところで、一次系システムに設置されてい
る再生型イオン交換装置は使用されているイオン交換樹
脂の能力が低下して規定の純度の純水が得られなくなっ
たり、あるいは規定の採水量に達したりした場合に、当
該イオン交換樹脂を酸やアルカリによって再生する必要
があるが、当該再生には周知のごとく逆洗水、再生剤希
釈水、押出水、洗浄水等の多量の再生用水を必要とす
る。
【0015】再生型イオン交換装置の後段に逆浸透膜装
置を設置する、上述のような後段ROシステムを採用す
る従来の超純水製造装置においては、かかる再生用水と
して例えば工業用水等の原水を凝集沈殿装置、濾過器等
の前処理装置で処理した清澄な原水(一般的には濾過
水)、あるいは前述のごとく再生型イオン交換装置の後
段に設置されている逆浸透膜装置の非透過水等の、前記
再生型イオン交換装置の被処理水である前記回収水と原
水との混合水に較べて不純物含有量が多いかあるいはそ
れとほぼ同程度の、要するにそれほど良質でない水が使
用されていた。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
超純水製造装置においては、上記再生を繰り返しながら
の超純水の製造を長期間行ううちに、一次系システム内
の再生型イオン交換装置から得られる純水中への微粒子
やT.O.Cの漏出量が次第に多くなるという現象が生
じる。また、このような現象は再生直後の通水初期に特
に顕著に現れる。そのため従来は、再生型イオン交換装
置から逆浸透膜装置に至る純水の送水ラインや逆浸透膜
装置等がこれらの不純物によって汚染されるという問題
点があった。
【0017】中でも、微粒子に関しては後段の逆浸透膜
装置に装着されている逆浸透膜を閉塞させてしまうとい
う重大な障害をもたらすので特に問題であった。
【0018】そして、このような問題が生じた場合に
は、超純水製造装置全体の稼動を度々中断して薬品等に
よる洗浄を行わなければならなかった。
【0019】本発明は一次系システムにて前述のような
後段ROシステムを採用している従来の超純水製造装置
における上述のような問題点を解決し、一次系システム
内の再生型イオン交換装置から、少なくとも微粒子に関
してはその量が極めて少ない純水を長期間安定して得る
ことができる、しかも最も合理的な方式の超純水製造装
置を提供することを目的とするものである。
【0020】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、再生型イ
オン交換装置の処理水中への微粒子、T.O.C等の不
純物の漏出量が次第に増加する現象を抑制する方法につ
いて鋭意研究を重ねた結果、前記再生型イオン交換装置
の再生用水として、微粒子等の不純物含有量のできるだ
け少ない水を用いることによってかなり抑制できること
を見出した。
【0021】すなわち、一次系システムにおいて再生型
イオン交換装置の後段に逆浸透膜装置を設置する、換言
すれば再生型イオン交換装置を逆浸透膜装置の前段に設
置する従来の超純水製造装置においては、当該再生型イ
オン交換装置が超純水製造系統の先端部(すなわち入口
部)に位置し、したがって系統内では比較的不純物含有
量の多い水を処理する装置である関係から、イオン交換
樹脂の前記不純物によるある程度の汚染は不可避であ
り、またこのような背景があるために、従来再生用水の
水質については全く考慮されていなかった。
【0022】そのため、従来はかかる再生用水として、
前述のごとく清澄な原水である濾過水、あるいは逆浸透
膜装置の非透過水等の、清澄ではあっても微粒子、T.
O.C等の不純物が比較的多量に含まれている水を何の
疑問もなく使用していたのである。
【0023】しかし、不純物が多量に含まれているこの
ような水を再生用水として使用した場合は、再生時に、
これらの再生用水中に含まれている微粒子がイオン交換
樹脂粒子内もしくは層内に堆積したり、あるいはT.
O.C成分がイオン交換樹脂に吸着されたりすることと
なる。そのため、このような再生を何回も繰り返すうち
にイオン交換樹脂がこれらの不純物によっても次第に汚
染され、その結果イオン交換樹脂の汚染は益々加速され
ることとなる。
【0024】そして、イオン交換樹脂の汚染が進行する
と、再生工程を終了して採水工程に移行した際に、再生
型イオン交換装置内に流入する被処理水によってこれら
の不純物が脱離あるいは吸着されて当該再生型イオン交
換装置の処理水である純水中に多量に漏出するようにな
る。
【0025】本発明はこのような知見に基づいてなされ
たものであり、凝集沈殿装置、濾過器等の前処理システ
ムを経た原水と後述する回収系システムから得られる回
収水との混合水を処理して純水とする再生型イオン交換
装置、および当該純水を処理して透過水と非透過水とに
分離する逆浸透膜装置とを少なくとも備えた一次系シス
テムと、当該一次系システムから得られる透過水を更に
高度処理して超純水とする二次系システムと、当該二次
系システムから得られる超純水を使用して半導体ウエハ
ーまたはチップを洗浄することにより排出される洗浄排
水を処理して再利用可能な回収水とする回収系システム
とからなる超純水の製造方法において、前記再生型イオ
ン交換装置の再生用水として、前記逆浸透膜装置から得
られる透過水を使用するか、もしくは前記逆浸透膜装置
の非透過水を別に設けた膜分離装置で処理することによ
って得られる透過水を使用することを特徴とする超純水
の製造方法である。
【0026】
【作用】以下に本発明の実施態様を図面に基づいて詳細
に説明する。
【0027】図1は本発明の要部を示す一次系システム
のフロー説明図であり、図中1は凝集沈殿装置、濾過器
等の前処理装置(不図示)を経た原水と回収系システム
(不図示)を経た回収水との混合水を処理して純水2を
得る再生型イオン交換装置であり、前述のごとく2床3
塔式純水製造装置や混床式純水製造装置等、あるいはこ
れらを組み合わせた装置であって、かつ再生設備を有す
るものが使用される。
【0028】当該再生型イオン交換装置1から得られる
純水2は、次いで2点鎖線で示した逆浸透膜装置3で処
理される。
【0029】本実施態様の逆浸透膜装置3は、図1に示
したごとく、前段の再生型イオン交換装置1から得られ
る純水2を直接処理して透過水4Aと非透過水5Aとに
分離する第1の逆浸透膜装置3Aと、当該第1の逆浸透
膜装置3Aの非透過水5Aを更に処理して透過水4Bと
非透過水5Bとに分離する第2の逆浸透膜装置3Bとか
ら構成されており、これら第1および第2の逆浸透膜装
置3A、3Bから得られる、イオン、微粒子、T.O.
C等の不純物をできるだけ除去した透過水4Aと4Bの
両方を、一次純水4として後段の一次純水貯槽6に一旦
貯留する。
【0030】一方、これらの不純物が濃縮された逆浸透
膜装置3の非透過水としては、第2の逆浸透膜装置3B
の非透過水5Bのみを取り出す。なお、図面において7
A、7Bは前記第1、第2の逆浸透膜装置3A、3Bに
装着されている逆浸透膜を示している。
【0031】このように、逆浸透膜装置3Aと逆浸透膜
装置3Bとを二段に設け、一段目の逆浸透膜装置3Aの
非透過水を二段目の逆浸透膜装置3Bで更に処理する方
式を、通常非透過水二段処理方式と称しているが、この
ような処理方式は水をなるべく有効に利用しようという
意図から採用されるものであり、場合によっては逆浸透
膜装置を一段しか設置しない場合、あるいは更に水の有
効利用を図るべく逆浸透膜装置を三段に設置し、二段目
に設置した逆浸透膜装置の非透過水を三段目の逆浸透膜
装置で更に処理し、当該三段目の逆浸透膜装置から得ら
れる透過水も一次純水として使用する非透過水三段処理
方式等を採用する場合もある。本発明はこのような場合
にも適用できる。
【0032】次いで、前記逆浸透膜装置3の非透過水、
すなわち図1においては第2の逆浸透膜装置3Bの非透
過水5Bを、当該逆浸透膜装置3とは別に設けた膜分離
装置8で更に処理して透過水9と非透過水10とに分離
する。なお、11は当該膜分離装置8に装着されている
分離膜を示している。
【0033】上記膜分離装置8としては、分離膜11と
して逆浸透膜を装着した逆浸透膜装置、限外濾過膜を装
着した限外濾過膜装置、および精密濾過膜を装着した精
密濾過膜装置等を用いることができ、例えば膜分離装置
8として限外濾過膜装置あるいは精密濾過膜装置を使用
する場合、供給される非透過水5B中の少なくとも微粒
子を除去した透過水を得ることができる。また、膜分離
装置8として逆浸透膜装置を用いた場合は、微粒子と
T.O.Cとの両方を除去した透過水を得ることができ
る。
【0034】得られる透過水9は、前記再生型イオン交
換装置1の再生用水として使用すべく、再生用水貯槽1
2に一旦貯留する。一方、膜分離装置8の非透過水10
は微粒子等の不純物を多量に含んでいるので系外にブロ
ーするか、あるいは前記前処理装置(不図示)の前段に
戻して工業用水等の原水と混合し、再利用する。
【0035】なお、一次純水貯槽6に貯留された一次純
水は、次いで二次系システム(不図示)で更に高度処理
して超純水となし、当該超純水をユースポイント(不図
示)に供給して半導体ウエハーの洗浄に使用するととも
に、ユースポイントから排出される洗浄排水を前記した
ような回収系システムで処理することによって回収水を
得、当該回収水を前記再生型イオン交換装置1の被処理
水として使用するが、これらは従来の超純水製造方法と
同じであるので詳しい説明を省略する。
【0036】上述のような超純水の製造を続行するうち
に、前記再生型イオン交換装置1内で使用されているイ
オン交換樹脂の能力が低下して規定の純度の純水が得ら
れなくなったり、あるいは規定の採水量に達したりした
場合は、常法により再生型イオン交換装置1の再生を行
う。
【0037】当該再生には前述したごとく逆洗水、再生
剤希釈水、押出水、洗浄水等の多量の再生用水を必要と
するが、本発明においては当該再生用水として前記再生
用水貯槽12に貯留しておいた膜分離装置8の透過水9
を使用する。
【0038】当該透過水9は、前述のごとく少なくとも
微粒子に関してはその量が極めて少ない水であるから、
当該透過水9を再生型イオン交換装置1の再生用水とし
て使用しても、再生中におけるイオン交換樹脂粒子内も
しくは層内への再生用水由来の微粒子の堆積はほとんど
なくなる。したがってイオン交換樹脂が汚染される度合
は従来より著しく少なくなり、その結果、、微粒子数の
少ない純水が従来より長期間安定して得られるようにな
る。
【0039】特に、前記膜分離装置8として逆浸透膜装
置を使用する場合は、微粒子だけでなくT.O.C濃度
も極めて低い透過水9を得ることができ、よってこのよ
うな透過水9を再生用水として使用する場合はイオン交
換樹脂の有機物汚染も防止することができて極めて好都
合である。
【0040】なお、上述の実施態様では逆浸透膜装置3
の非透過水5Bをこれとは別に設けた膜分離装置8で更
に処理することによって得られる透過水9を、再生型イ
オン交換装置1の再生用水として使用する構成とした
が、本発明はこのような膜分離装置8を設けずに、逆浸
透膜装置3から得られる透過水の一部を再生用水として
予め再生用水貯層に貯留しておき、当該透過水を使用し
て再生型イオン交換装置の再生を行うようにしてもよ
い。但し、水の有効利用の点では、膜分離装置8を別に
設置する前者の方法が有利である。
【0041】
【効果】本発明によれば、一次系システム内の再生型イ
オン交換装置の再生用水として、当該再生型イオン交換
装置の後段に設置した逆浸透膜装置から得られる一次純
水としての透過水、もしくは当該逆浸透膜装置から排出
される非透過水を限外濾過膜等の膜分離装置で更に処理
することによって得られる含有微粒子の数が極めて少な
い透過水を用いるので、イオン交換樹脂の微粒子汚染の
うち、再生用水に由来する分については確実に防止する
ことができ、その分汚染の進行を従来より著しく抑制す
ることができる。
【0042】その結果、従来より微粒子数の少ない純水
を長期間安定して得ることができるようになる。
【0043】また、当該再生型イオン交換装置の後段に
設置されている逆浸透膜装置の逆浸透膜が、漏出する微
粒子によって閉塞したり、あるいは配管等が汚染された
りするというような好ましくない現象を最小限に抑制す
ることができる。
【0044】更に、再生用水として再生型イオン交換装
置の後段に設置した逆浸透膜装置の透過水を用いる場
合、あるいは前記膜分離装置として逆浸透膜装置を使用
し、当該逆浸透膜装置から得られる透過水を再生用水と
して用いる場合は、これらの透過水においては微粒子の
みでなくT.O.C濃度もかなり低減されており、よっ
てこの場合は微粒子に由来する上述のような不具合を防
止できるだけでなく、イオン交換樹脂の有機物汚染防止
の面でも非常に効果的である。
【0045】
【実施例】以下に本発明の効果をより明確とするために
実施例を説明する。
【0046】強酸性カチオン交換樹脂を充填したカチオ
ン塔、脱炭酸塔、および強塩基性アニオン交換樹脂を充
填したアニオン塔をこの順に組み合わせた2床3塔式の
再生型イオン交換装置と、当該再生型イオン交換装置か
ら得られる純水を処理する非透過水三段処理方式の逆浸
透膜装置とを備えてなる一次系システムを有する超純水
製造装置において、前記逆浸透膜装置から排出される、
すなわち三段目に設置されている逆浸透膜装置から排出
される非透過水を、膜分離装置としての、合成高分子系
複合膜からなるスパイラル型の逆浸透膜を装着した逆浸
透膜装置を用いて運転圧力15Kg/cm2 、回収率5
0%の運転条件で更に処理し、得られた透過水を前記2
床3塔式イオン交換装置の再生用水として使用する本発
明による超純水の製造を、前記イオン交換装置の再生を
一日一回の頻度で行いながら約1年間継続した。
【0047】約1年間経過後における再生直後のイオン
交換装置の通水結果を表1に示す。なお、この間2床3
塔式イオン交換装置に供給した被処理水の平均水質は微
粒子数125個/ml、T.O.C濃度133μC/l
であり、また再生用水の水質は微粒子4個/ml、T.
O.C濃度22μgC/lであった。
【0048】比較のため、前記スパイラル型の逆浸透膜
装置を除いて、前記実施例に用いたと同じ構成および規
模の超純水製造装置を用い、非透過水三段処理方式の逆
浸透膜装置の非透過水を使用して2床3塔式イオン交換
装置の再生を行う従来法による超純水の製造を実施例と
同一の条件で同一期間継続した。約一年間経過後におけ
る再生直後のイオン交換装置の通水結果は、表2の如く
であった。
【0049】なお、この間の被処理水の平均水質は実施
例の場合と同じであり、また再生用水としての非透過水
の平均水質は微粒子数138個/ml、T.O.C濃度
126μgC/mlであった。
【0050】
【表1】
【0051】
【表2】
【0052】表1と表2との比較から明らかなように、
本発明の場合は約1年間経過後においても通水直後から
微粒子数12〜30個/ml、T.O.C22〜41μ
gC/lというような高品質の純水が安定して得られる
のに対し、従来法の場合は、得られる純水中の微粒子数
およびT.O.C濃度が本発明例に較べて著しく高く、
よってイオン交換樹脂の汚染が本発明例に較べて著しく
進行していることは明白である。
【0053】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の要部を示す一次系システムのフロー説
明図である。
【図2】超純水製造装置の全体のフローを示すブロック
図である。
【0054】
【符号の説明】
1…再生型イオン交換装置、2…純水、3…逆浸透膜装
置、4…透過水(一次純水)、5…非透過水、6…一次
純水貯槽、7…逆浸透膜、8…膜分離装置、9…透過
水、10…非透過水、11…分離膜、12…再生用水貯
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小池 勝美 東京都文京区本郷5丁目5番16号 オル ガノ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭53−40686(JP,A) 実開 昭63−130196(JP,U) 特公 平1−37997(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C02F 1/42 B01J 49/00 C02F 1/44 B01D 61/02 - 61/12

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 凝集沈殿装置、濾過器等の前処理システ
    ムを経た原水と後述する回収系システムから得られる回
    収水との混合水を処理して純水とする再生型イオン交換
    装置、および当該純水を処理して透過水と非透過水とに
    分離する逆浸透膜装置とを少なくとも備えた一次系シス
    テムと、当該一次系システムから得られる透過水を更に
    高度処理して超純水とする二次系システムと、当該二次
    系システムから得られる超純水を使用して半導体ウエハ
    ーまたはチップを洗浄することにより排出される洗浄排
    水を処理して再利用可能な回収水とする回収系システム
    とからなる超純水の製造方法において、前記再生型イオ
    ン交換装置の再生用水として、前記逆浸透膜装置から得
    られる透過水を使用するか、もしくは前記逆浸透膜装置
    の非透過水を別に設けた膜分離装置で処理することによ
    って得られる透過水を使用することを特徴とする超純水
    の製造方法。
  2. 【請求項2】 逆浸透膜装置の非透過水を処理する膜分
    離装置が、逆浸透膜装置である請求項1記載の超純水の
    製造方法。
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JP2002316152A (ja) * 2001-04-19 2002-10-29 Nikkiso Co Ltd 精製水製造装置
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JP2007098270A (ja) * 2005-10-04 2007-04-19 Japan Organo Co Ltd 純水製造方法および装置
WO2008089279A1 (en) 2007-01-19 2008-07-24 The Purolite Company Reduced fouling of reverse osmosis membranes
WO2011010188A1 (en) * 2009-07-23 2011-01-27 Societe Anonyme Des Eaux Minerales D'evian "S.A.E.M.E" A process for producing water enriched with natural orthosilicic acid
KR101336174B1 (ko) * 2013-07-08 2013-12-03 (주) 아쿠아캐어코리아 반도체 cmp 공정과 다이-소잉 공정에서 발생되는 폐수 재활용 시스템

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