JPH05269302A - 水切り用溶剤 - Google Patents
水切り用溶剤Info
- Publication number
- JPH05269302A JPH05269302A JP802293A JP802293A JPH05269302A JP H05269302 A JPH05269302 A JP H05269302A JP 802293 A JP802293 A JP 802293A JP 802293 A JP802293 A JP 802293A JP H05269302 A JPH05269302 A JP H05269302A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- perfluorobutane
- solvent
- exemplified
- ketone
- dewatering
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
Abstract
(57)【要約】
【構成】 一般式Ｃ4 Ｈ3 Ｆ7 で表わされるヘプタフル
オロブタンを有効成分とする水切り用溶剤。 【効果】 本発明は、オゾン層破壊能の高いフロン１１
３を使用する水切り用溶剤に代わり得る有用な新規水切
り用溶剤を提供するものである。
オロブタンを有効成分とする水切り用溶剤。 【効果】 本発明は、オゾン層破壊能の高いフロン１１
３を使用する水切り用溶剤に代わり得る有用な新規水切
り用溶剤を提供するものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、精密機器、光学機器、
電子機器等の部品を水洗浄した後に部品の表面に付着し
た水を除去する水切り用溶剤に関するものである。
電子機器等の部品を水洗浄した後に部品の表面に付着し
た水を除去する水切り用溶剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】精密機器、光学機器、電子機器等の部品
を洗浄する場合、汚染物質に応じた適切な洗剤で処理し
た後、純水洗浄する方法が広く行われているが、最終的
に物品表面に存在する水を除去する乾燥工程が必要であ
る。乾燥手段としては加熱、減圧、遠心分離等の物理的
方法が古くから行われているが、近年、エネルギーコス
トが低く、高速乾燥が可能な溶剤を用いる乾燥法が普及
している。溶剤としてはトリクロロトリフルオロエタン
（以下フロンＲ１１３と称す）に界面活性剤やエタノー
ルを添加した液が広く用いられている。
を洗浄する場合、汚染物質に応じた適切な洗剤で処理し
た後、純水洗浄する方法が広く行われているが、最終的
に物品表面に存在する水を除去する乾燥工程が必要であ
る。乾燥手段としては加熱、減圧、遠心分離等の物理的
方法が古くから行われているが、近年、エネルギーコス
トが低く、高速乾燥が可能な溶剤を用いる乾燥法が普及
している。溶剤としてはトリクロロトリフルオロエタン
（以下フロンＲ１１３と称す）に界面活性剤やエタノー
ルを添加した液が広く用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】フロンＲ１１３は不燃
性、低毒性、低表面張力等多くの優れた性能を有してい
るため急速に需要が伸びてきたが、化学的に安定で対流
圏内での寿命が長く、成層圏に達してオゾン層を破壊
し、地表に達する有害な紫外線を増加させる結果、人類
を含む地球上の生態系に深刻な影響を与えることが近年
指摘されている。
性、低毒性、低表面張力等多くの優れた性能を有してい
るため急速に需要が伸びてきたが、化学的に安定で対流
圏内での寿命が長く、成層圏に達してオゾン層を破壊
し、地表に達する有害な紫外線を増加させる結果、人類
を含む地球上の生態系に深刻な影響を与えることが近年
指摘されている。
【０００４】このため、フロンＲ１１３等オゾン破壊能
の高いフロンについて生産と消費を規制し、更に全廃す
る国際的な動きが活発になっている。本発明はかかる状
況に対応すべく、オゾン層を破壊せず、かつ、従来の水
切り剤に匹敵する水切り能を有する新規な水切り用溶剤
を提供するものである。
の高いフロンについて生産と消費を規制し、更に全廃す
る国際的な動きが活発になっている。本発明はかかる状
況に対応すべく、オゾン層を破壊せず、かつ、従来の水
切り剤に匹敵する水切り能を有する新規な水切り用溶剤
を提供するものである。
【０００５】
【課題を達成するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を重ねた結果、一般式Ｃ4 Ｈ3 Ｆ7 で表わされるヘプタ
フルオロブタンに、アルコール類、ケトン類、界面活性
剤から選ばれる少なくとも１種を加えることにより上記
課題が達成できることを見出し、本発明に達した。
を重ねた結果、一般式Ｃ4 Ｈ3 Ｆ7 で表わされるヘプタ
フルオロブタンに、アルコール類、ケトン類、界面活性
剤から選ばれる少なくとも１種を加えることにより上記
課題が達成できることを見出し、本発明に達した。
【０００６】一般式Ｃ4 Ｈ3 Ｆ7 で表わされるヘプタフ
ルオロブタンとしては、例えば、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−パ
ーフルオロブタン、１Ｈ，１Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブ
タン、１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，
２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタン等を挙げることができ
る。一般式Ｃ4 Ｈ3 Ｆ7 で表わされる本願発明の化合物
は、公知の方法で製造し得る。例えば、１Ｈ，１Ｈ，３
Ｈ−パーフルオロブタンは、ヘキサフルオロプロペン
（ＨＦＰ）にフルオロメタンを付加、１Ｈ，１Ｈ，４Ｈ
−パーフルオロブタンは、２，２，３，３，４，４−ヘ
キサフルオロブタノールをトシル化後フッ素化、１Ｈ，
２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタンは、トリフルオロエチ
レンに１，１，１，２−テトラフルオロエタンを付加、
１Ｈ，２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタンは、トリフルオ
ロエチレンに１，１，２，２−テトラフルオロエタンを
付加させる、ことによって合成できる。
ルオロブタンとしては、例えば、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−パ
ーフルオロブタン、１Ｈ，１Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブ
タン、１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，
２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタン等を挙げることができ
る。一般式Ｃ4 Ｈ3 Ｆ7 で表わされる本願発明の化合物
は、公知の方法で製造し得る。例えば、１Ｈ，１Ｈ，３
Ｈ−パーフルオロブタンは、ヘキサフルオロプロペン
（ＨＦＰ）にフルオロメタンを付加、１Ｈ，１Ｈ，４Ｈ
−パーフルオロブタンは、２，２，３，３，４，４−ヘ
キサフルオロブタノールをトシル化後フッ素化、１Ｈ，
２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタンは、トリフルオロエチ
レンに１，１，１，２−テトラフルオロエタンを付加、
１Ｈ，２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタンは、トリフルオ
ロエチレンに１，１，２，２−テトラフルオロエタンを
付加させる、ことによって合成できる。
【０００７】アルコール類としては、炭素数８以下のも
のが好ましく例えば、メタノール、エタノール、１−プ
ロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、２−
ブタノ−ル、イソブタノール、ｔ−ブタノール、１−ペ
ンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２
−メチル−１−ブタノール、イソペンチルアルコール、
ｔ−ペンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノー
ル、ネオペンチアルコール、１−ヘキサノール、２−メ
チル−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノー
ル、２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタノール、
２−ヘプタノール３−ヘプタノール、１−オクタノー
ル、２−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノー
ル、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、
２，２，２−トリフルオロエタノール、１Ｈ，１Ｈ−ペ
ンタフルオロ−１−プロパノール、２，２，３，３−テ
トラフルオロ−１−プロパノール、１Ｈ，１Ｈ−ペンタ
フルオロ−１−ブタノール、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール等が挙げられる。より好ましくは、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール等である。
のが好ましく例えば、メタノール、エタノール、１−プ
ロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、２−
ブタノ−ル、イソブタノール、ｔ−ブタノール、１−ペ
ンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２
−メチル−１−ブタノール、イソペンチルアルコール、
ｔ−ペンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノー
ル、ネオペンチアルコール、１−ヘキサノール、２−メ
チル−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノー
ル、２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタノール、
２−ヘプタノール３−ヘプタノール、１−オクタノー
ル、２−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノー
ル、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、
２，２，２−トリフルオロエタノール、１Ｈ，１Ｈ−ペ
ンタフルオロ−１−プロパノール、２，２，３，３−テ
トラフルオロ−１−プロパノール、１Ｈ，１Ｈ−ペンタ
フルオロ−１−ブタノール、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール等が挙げられる。より好ましくは、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール等である。
【０００８】アルコール類の添加量は０〜３０重量％、
好ましくは０〜２０重量％、さらに好ましくは０〜１５
重量％である。ケトン類としては、炭素数９以下のもの
が好ましく、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、
２−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチル
シクロヘキサノン等が挙げられる。より好ましくは、ア
セトン、メチルエチルケトン等である。
好ましくは０〜２０重量％、さらに好ましくは０〜１５
重量％である。ケトン類としては、炭素数９以下のもの
が好ましく、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、
２−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチル
シクロヘキサノン等が挙げられる。より好ましくは、ア
セトン、メチルエチルケトン等である。
【０００９】ケトン類の添加量は、０〜３０重量％、好
ましくは０〜２０重量％である。アルコール類とケトン
類の添加量の合計は、０〜５０重量％、好ましくは、０
〜３０重量％、より好ましくは、０〜２０重量％であ
る。界面活性剤は、公知の陰イオン活性剤、陽イオン活
性剤、非イオン活性剤、両性活性剤が使用できる。陰イ
オン活性剤としては、例えば、カルボン酸塩、スルホン
酸塩、硫酸エステル塩、リン酸エステル塩等が挙げられ
る。陽イオン活性剤としては、例えば、アミンと各種酸
の塩、第４級アンモニウム塩が挙げられる。非イオン活
性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンのエーテ
ル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレングリコ
ール、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンアル
キルエーテル、多価アルコールの脂肪酸部分エステル等
が挙げられる。両性活性剤としては、例えば、ベタイン
型、アミノ有機酸型、脂肪酸のアミン塩等が挙げられ
る。又、これらの化合物の分子中にフッ素原子を含んだ
活性剤も好適である。
ましくは０〜２０重量％である。アルコール類とケトン
類の添加量の合計は、０〜５０重量％、好ましくは、０
〜３０重量％、より好ましくは、０〜２０重量％であ
る。界面活性剤は、公知の陰イオン活性剤、陽イオン活
性剤、非イオン活性剤、両性活性剤が使用できる。陰イ
オン活性剤としては、例えば、カルボン酸塩、スルホン
酸塩、硫酸エステル塩、リン酸エステル塩等が挙げられ
る。陽イオン活性剤としては、例えば、アミンと各種酸
の塩、第４級アンモニウム塩が挙げられる。非イオン活
性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンのエーテ
ル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレングリコ
ール、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンアル
キルエーテル、多価アルコールの脂肪酸部分エステル等
が挙げられる。両性活性剤としては、例えば、ベタイン
型、アミノ有機酸型、脂肪酸のアミン塩等が挙げられ
る。又、これらの化合物の分子中にフッ素原子を含んだ
活性剤も好適である。
【００１０】これらの界面活性剤の添加量は０〜１０重
量％、好ましくは０〜５重量％である。
量％、好ましくは０〜５重量％である。
【００１１】
【実施例】以下、実施例を用いて説明する。
【００１２】
【実施例１〜２４】直径０．８ｍｍのガラスビーズ１０
０ｇを直径４０ｍｍ、高さ６０ｍｍの金網籠（３０メッ
シュ）に入れ、籠ごと染料で着色した水に浸した後、別
途ビーカーに仕込んだ、上記各成分の夫々の範囲内で調
整された水切り用溶剤５００ｍｌに２分間浸漬し、水の
残留状態を目視で観察した。結果を表１〜４に示す。
０ｇを直径４０ｍｍ、高さ６０ｍｍの金網籠（３０メッ
シュ）に入れ、籠ごと染料で着色した水に浸した後、別
途ビーカーに仕込んだ、上記各成分の夫々の範囲内で調
整された水切り用溶剤５００ｍｌに２分間浸漬し、水の
残留状態を目視で観察した。結果を表１〜４に示す。
【００１３】
【表１】
【００１４】
【表２】
【００１５】
【表３】
【００１６】
【表４】
【００１７】
【発明の効果】実施例から明らかなように、本発明の水
切り用溶剤は、オゾン層破壊能の高いフロン１１３を使
用する水切り用溶剤に代わる溶剤として有用である。
切り用溶剤は、オゾン層破壊能の高いフロン１１３を使
用する水切り用溶剤に代わる溶剤として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平4−11609 (32)優先日 平４(1992)１月27日 (33)優先権主張国 日本（ＪＰ）
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式Ｃ4 Ｈ3 Ｆ7 で表わされるヘプタ
フルオロブタンを有効成分として含む水切り用溶剤。
Applications Claiming Priority (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP998492 | 1992-01-23 | ||
| JP1160992 | 1992-01-27 | ||
| JP1160892 | 1992-01-27 | ||
| JP4-11607 | 1992-01-27 | ||
| JP1160792 | 1992-01-27 | ||
| JP4-11609 | 1992-01-27 | ||
| JP4-11608 | 1992-01-27 | ||
| JP4-9984 | 1992-01-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05269302A true JPH05269302A (ja) | 1993-10-19 |
Family
ID=27455282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP802293A Withdrawn JPH05269302A (ja) | 1992-01-23 | 1993-01-21 | 水切り用溶剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05269302A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2740469A1 (fr) * | 1995-10-31 | 1997-04-30 | Atochem Elf Sa | Compositions de nettoyage a base de 1,1,1,2,2,4,4,- heptafluorobutane et d'alcools |
-
1993
- 1993-01-21 JP JP802293A patent/JPH05269302A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2740469A1 (fr) * | 1995-10-31 | 1997-04-30 | Atochem Elf Sa | Compositions de nettoyage a base de 1,1,1,2,2,4,4,- heptafluorobutane et d'alcools |
| EP0771865A1 (fr) * | 1995-10-31 | 1997-05-07 | Elf Atochem S.A. | Compositions de nettoyage à base de 1,1,1,2,2,4,4-heptafluorobutane et d'alcools |
| US5747437A (en) * | 1995-10-31 | 1998-05-05 | Elf Atochem S.A. | Cleaning compositions based on 1,1,1,2,2,4,4-heptafluorobutane and C1 -C3 alcohols |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000404 |