JPH05267114A

JPH05267114A - 半導体設計装置

Info

Publication number: JPH05267114A
Application number: JP4092017A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Ueno; 博之上野
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1992-03-17
Filing date: 1992-03-17
Publication date: 1993-10-15

Abstract

(57)【要約】【目的】半導体設計者が全体的な流れを把握し易いと共
に、対話的な操作が行え、操作性が良好な半導体設計装
置を提供する。【構成】半導体設計のためのプロセスを一行毎にディス
プレイ５に表示する。この表示をマウス等のポインティ
ングデバイス４で選択する。これにより、プロセス情報
がインターフェース部２０を介してプロセス表示管理機
構２１に与えられ、プロセス表示管理機構２１により、
プロセスが選択される。これと共に、ポップアップ機能
２２を介して、パラメータ設定用のウィンドウがポップ
アップされる。このウィンドウにより、選択されたプロ
セスのパラメータを変更することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、半導体設計における
プロセスを編集するための半導体設計装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体プロセスエディタは、半導体設計
に用いられるプロセスをコンピュータ上で編集していく
ためのものである。すなわち、半導体設計を行う際に
は、例えばレジスト膜を作成し、イオン打ち込みをし、
マスクを形成する等のプロセスがあり、各プロセスにお
いてパラメータ情報が必要である。１つのプロセスとし
てイオン打ち込みを取り上げると、ここでは、どのマス
クについて、どんな不純物を、どの程度の量、どのくら
いの電圧で打ち込むかのパラメータ情報が必要である。

【０００３】半導体プロセスエディタは、このような半
導体設計プロセス及び各プロセスでの必要なパラメータ
情報を編集するのに用いられる。そして、この半導体プ
ロセスエディタにより設定されたパラメータにより、実
際の半導体製造工程のシミュレーションを行うことがで
きる。また、このように設定されたパラメータを、実際
の半導体製造時に直接利用できる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このような半導体プロ
セスエディタでは、半導体設計者の入力により、半導体
設計上のプロセスの選択及び選択されたプロセスにおけ
るパラメータの設定、変更等の作業が行われる。このた
め、このような半導体プロセスエディタでは、モニタ画
面上に、プロセス表示と、選択されたプロセスにおける
パラメータの表示とが行なえるようにする必要がある。

【０００５】そこで、半導体のプロセスエディタを構成
する場合、モニタ画面をプロセス表示領域とパラメータ
表示領域とに分割することが考えられる。このようにす
れば、プロセス表示領域を使ってプロセスの選択やプロ
セスに関する情報を得ることができ、パラメータ表示部
領域を使って各プロセスにおけるパラメータの設定を行
なうことができる。

【０００６】ところが、モニタ画面をプロセス表示領域
とパラメータ表示領域とに分割すると、一画面で表示で
きるプロセスの表示行数が少なく、設計者が全体の流れ
を把握しにくいという問題が生じる。また、パラメータ
表示が常になされているので、設計者が混乱しやすいと
いう問題が生じる。

【０００７】したがって、この発明の目的は、半導体設
計者が全体の流れを把握し易く、操作性が良好な半導体
設計装置を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この発明は、半導体設計
のためのプロセスを表示する第１の表示部と、第１の表
示部に対する入力に対応して半導体設計のためのプロセ
スを選択するプロセス選択手段と、プロセス選択手段で
選択された半導体設計のためのプロセスに対応する条件
値を表示する第２の表示部と、第２の表示部に対する入
力に対応して選択されたプロセスにおける条件値を設定
する条件値設定手段とを備えるようにした半導体設計装
置である。

【０００９】

【作用】各プロセスにおけるパラメータを設定する際
に、プロセスをマウス等のポインティングデバイスで選
択すると、ウィンドウ画面がポップアップされ、そのウ
ィンドウ画面を見ながら、各プロセスでの各パラメータ
の設定を対話的に行うことができる。そのため、設定状
態が把握し易く、操作性が向上される。また、ウィンド
ウ画面が閉じている時には、プロセスの表示エリアが広
くとれ、プロセス全体を見渡すことができる。

【００１０】

【実施例】以下、この発明の一実施例について図面を参
照して説明する。この発明は、プロセスエディタと呼ば
れる半導体の製造プロセスを編集していく装置に適用さ
れる。図１は、この発明が適用された半導体のプロセス
エディタの構成の概要を示すものである。図１におい
て、１はＣＰＵである。ＣＰＵ１の機能は、主に、プロ
セスエディタを操作する者とのインタフェースの管理、
画面の表示管理、編集メニューの管理、設定データの処
理管理等である。

【００１１】２は設定データ等が蓄えられるメモリであ
る。このメモリ２には、どのプロセスが選択され、その
プロセスに対して、どのようなパラメータが設定された
かという情報が記憶される。

【００１２】３はユーザーがデータ等を入力するための
キーボード、４はユーザーがメニューの選択やパラメー
タの設定等を行う入力装置としてのポインティングデバ
イス例えばマウスである。

【００１３】５はディスプレイである。ディスプレイ５
には、図２及び図３に示すように、設定画面が現れる。
すなわち、図２に示すように、ディスプレイ５の画面に
は、エッチングやイオ打ち込みのようなプロセス表示１
１、１１、１１、…が一行毎に現される。

【００１４】ここで、編集したいプロセスのプロセス表
示１１Ａを、マウス等のポインティングデバイス４を使
って選択し、クリックすると、図３に示すように、パラ
メータ設定用のウィンドウ画面１２がポップアップされ
る。このウィンドウ画面１２には各プロセスで必要なパ
ラメータの設定ボックス１３、１３、１３、…が設けら
れる。

【００１５】パラメータは、例えばＣＣＤ撮像素子のレ
ジスタ作成時のイオン打ち込みのプロセスでは、どのマ
スクについて、どんな不純物で、どの程度の量で、どれ
位の電圧で打ち込むか等である。この場合に設定される
パラメータは、具体的には、「ＶＲＥＧ」というマスク
について、不純物「ＢＲＯＮ」を、「１．０×１０^-12
ｇ」の量、「１００ｋｅｖ」の電圧で打ち込むというよ
うなものである。このように設定されたパラメータを用
いて、シミュレーションを行うことが可能あり、シミュ
レーション結果等に基づいて、同様な方法で、各プロセ
スでのパラメータを変更することができる。

【００１６】すなわち、ポインティングデバイス４によ
りプロセスが選択されると、選択されたプロセス情報が
図１のＣＰＵ１におけるインターフェース部２０を介し
てプロセス表示画面管理機構２１に与えられ、プロセス
表示画面管理機構２１により、プロセスの一つが選択さ
れる。処理が受け付けられると、メモリ２のプロセス記
憶部２６における選択されたプロセスのデータがアクセ
スされると共に、ポップアップ機能２２を介して、ウィ
ンドウ画面１２のポップアップ制御がなされる。ここ
で、そのプロセスのパラメータが設定されると、その設
定データが設定画面管理部２３により受け付けられ、設
定値記憶部２７に記憶されているプロセスでの設定値
が、入力パラメータに応じて設定される。設定が終了さ
れると、プロセス表示管理機構２１に戻される。このよ
うに、この発明が適用されたプロセスエディタでは、ユ
ーザと対話的に処理を行うことが可能である。

【００１７】図４は、このような制御のフローチャート
を示すものである。図４において、マウスの機能が起動
されたら（ステップ３１）、そのマウスにより、プロセ
スが選択される（ステップ３２）、そのプロセスの種類
が判別される（ステップ３３）。そして、以下のよう
に、パラメータの設定が行われる。

【００１８】先ず、選択されたプロセスの各パラメータ
値が取得される（ステップ３４）。そして、取得された
プロセスのパラメータを基に、設定画面及びメニュウー
項目にパラメータが配され、設定画面が生成される（ス
テップ３５）。

【００１９】そして、このように選択されたパラメータ
が表示されたウィンドウ画面がポップアップされる（ス
テップ３６）。

【００２０】マウスの機能が起動され（ステップ３
７）、選択されたプロセスのパラメータの変更がある場
合には、ユーザにより、パラメータが設定される（ステ
ップ３８）。

【００２１】選択されたプロセスについてのパラメータ
の設定が終了したかどうかが判断され（ステップ３
９）、パラメータの設定が完了するまで、同様に処理が
続けられる。

【００２２】選択されたプロセスのパラメータの設定が
完了されたら、ユーザにより設定されたパラメータが書
き込まれる（ステップ４０）。そして、ウィンドウ画面
が閉じられる（ステップ４１）。

【００２３】なお、ステップ３４〜４１では、必要のな
いプロセスを選択するマウス機能は無効とされる。これ
によって、この時点でのマウス機能は選択画面専用とな
る。この無効化は、後にウィンドウ画面を閉じた時点で
解消される。

【００２４】編集作業を続けるかどうかが判断され、編
集作業を続ける場合には、同様の処理が繰り返される
（ステップ４２）。

【００２５】この発明の一実施例では、既に登録してあ
るプロセスについてのパラメータの修正作業について説
明したが、削除、移動、複写というような編集作業にお
いても、ウィンドウ表示により作業を行うようにするこ
とが考えられる。

【００２６】

【発明の効果】この発明によれば、各プロセスにおける
パラメータを設定する際に、マウス等のポインティング
デバイスでプロセスを選択すると、ウィンドウ画面がポ
ップアップされ、そのウィンドウ画面を見ながら、設定
されたプロセスでの各パラメータの設定を対話的に行う
とができる。そのため、設定状態が把握し易く、操作性
が向上される。また、ウィンドウ画面を閉じている時に
は、プロセスの表示エリアが広くとれ、プロセス全体を
見渡すことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施例の概要を示す機能ブロック
図である。

【図２】この発明の一実施例の説明に用いる略線図であ
る。

【図３】この発明の一実施例の説明に用いる略線図であ
る。

【図４】この発明の一実施例の説明に用いるフローチャ
ートである。

【符号の説明】

２０インターフェース部２１プロセス表示画面管理機構２２ポップアップ機能２３設定画面管理機能

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】半導体設計のためのプロセスを表示する
第１の表示部と、上記第１の表示部に対する入力に対応して、上記半導体
設計のためのプロセスを選択するプロセス選択手段と、上記プロセス選択手段で選択されたプロセスに対応する
条件値を表示する第２の表示部と、上記第２の表示部に対する入力に対応して、上記選択さ
れたプロセスにおける条件値を設定する条件値設定手段
とを備えるようにした半導体設計装置。