JPH0526560Y2 - - Google Patents

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JPH0526560Y2
JPH0526560Y2 JP1983091047U JP9104783U JPH0526560Y2 JP H0526560 Y2 JPH0526560 Y2 JP H0526560Y2 JP 1983091047 U JP1983091047 U JP 1983091047U JP 9104783 U JP9104783 U JP 9104783U JP H0526560 Y2 JPH0526560 Y2 JP H0526560Y2
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JP
Japan
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holder
ray
aperture
fixed
ray irradiation
Prior art date
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Application number
JP1983091047U
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English (en)
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JPS604945U (ja
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Publication of JPS604945U publication Critical patent/JPS604945U/ja
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Publication of JPH0526560Y2 publication Critical patent/JPH0526560Y2/ja
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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 この考案は、たとえば蛍光X線分析装置におい
て試料に対するX線の照射領域を変更するために
用いる機構に関する。
上記蛍光X線分析装置とは、1つのX線源から
試料にX線を照射し、そこより発する蛍光X線を
X線検出器で検知し、該検出器の信号を演算して
測定物質の蛍光X線を検出し、試料の分析に供す
るものである。そして、この装置では分析目的に
応じて上記X線源から試料に照射するX線の照射
領域を絞りによつて選択し且つ変更して使用す
る。たとえば、試料の汚損、変色の分析のため局
部的にX線を照射する場合は、該X線の照射領域
を汚損部、変色部のみカバーするように絞り、ま
た試料全体の分析のため広域にX線を照射する場
合は照射領域を拡げるのである。
そのため従来は、第3図のように、絞り径の大
きい絞りAと絞り径の小さい絞りBとを二個用意
し、上記分析目的に応じて絞りA,BをX線照射
ヘツドCに着脱交換し、試料Dに対するX線Eの
照射領域を変更するようにしているが、その絞り
の交換操作が煩わしい上、試料に対する絞りホル
ダーFの相対位置が一定で、而して適用できる絞
り径の大きさに制限を受けるものであつた。
本考案は、このような実情を考慮してなされ、
取り扱い簡便で操作性がよくかつ保守管理が容易
で使い勝手のよいX線照射領域変更機構を提供す
ることを目的とし、以下のように構成している。
すなわち、X線照射ヘツドに形成した透孔の基
端側にX線透過窓を有し、そのX線照射ヘツドの
先端側に径大な第1の絞りを有する固定ホルダー
が取り付けられ、かつ、その固定ホルダーの先端
に固定した支軸に、前記第1の絞りと対応する径
小の第2の絞りを固定した可動ホルダーが転回自
在に取り付けられ、前記可動ホルダーが前記固定
ホルダーに対接してX線に対応する設定位置とそ
のX線から外れた取外位置とに変位自在に構成さ
れている。
このような構成により、試料に対して局所的に
X線照射する場合には、第1図aに示すように、
可動ホルダー4を固定ホルダー5に対接させた設
定位置にセツトし、第1の絞り3と第2の絞り2
とをX線7に対応させればよい。このようにする
と、X線照射ヘツド1からのX線7は両絞り2,
3を通過して小さく絞られて試料6に照射される
から試料面上のX線照射領域は狭められる。しか
も、小径の第2の絞り2が試料面に近い側に配置
されているので、その第2の絞り2と試料面との
間隔によつてX線照射領域が不当に拡大されるよ
うな不具合が発生することはない。
一方、試料6に対して広域的にX線7を照射す
る場合は、第1図bに示すように、第2の絞り2
を転回させてX線7から外れた取外位置に変位さ
せればよい。このようにすると、X線7は絞り径
の大きい第1の絞り3のみを通過するので、試料
面上のX線照射領域は拡大される。しかも径大の
第1の絞り3をそのままとして、第2の絞り2の
みを転回させることによつて第1の絞り3と試料
面との距離が自動的に拡大されるように設定され
るから、X線照射領域が不当に狭められることは
ない。
そして、可動ホルダー4の切換操作によつて試
料面と各絞りとの距離を自動調整できるのでその
距離を適宜に設定して最適の絞り径を選択するこ
とができる。さらに、第2の絞り2は取り外さず
に取外位置に変位させた状態に保持させておくこ
とにより紛失や破損等のトラブルの発生を免れる
ことができる。
このように、本考案によれば、取り扱いが簡便
で操作性のすぐれた保守管理の容易なX線照射領
域変更機構を得ることができる。
以下、この考案の一実施例を図面に基づいて詳
細に説明する。
第2図に示すように、基端側にX線透過窓8を
備えたX線照射ヘツド1が、X線分析室9の壁1
0に装着され、かつ、大径の第1の絞り3を有す
る固定ホルダー5がそのX線照射ヘツド1の他端
側に図外のビスで固着されており、X線照射ヘツ
ド1および固定ホルダー5には透孔11が開設さ
れ、その透孔11の先端部位に第1の絞り3が装
嵌される。
その固定ホルダー5の先端面には透孔11に同
軸の環状の突条12が突設され、可動ホルダー4
に設けた凹部13にその突条12を係合させるこ
とで、固定ホルダー5に対して可動ホルダー4を
図示のように対接させた設定位置にセツトするこ
とができる。
この可動ホルダー4には上記透孔11に同軸で
その透孔11より小径の透孔14が開設され、こ
の透孔14の先端部位に第2の絞り2が嵌装され
ている。なお、符号15は、可動ホルダー4を貫
通して固定ホルダー5に突入且つ螺着した支軸
で、可動ホルダー4を回動自在に支持している。
そして、この支軸15の周囲にばね嵌装室16
が形成されており、そのばね嵌装室16の奥端と
支軸15に固装した鍔17との間に圧縮コイルば
ね18が嵌装される。
このような構成により、固定ホルダー5の突条
12に可動ホルダー4の凹部13を係合させるこ
とにより可動ホルダー4を上述した設定位置に位
置決めさせた状態でコイルばね18のばね力で可
動ホルダー4を固定ホルダー5に付勢させること
ができ、第1図aに示す局所照射状態を安定に得
ることができる。
一方、そのコイルばね18に抗して可動ホルダ
ー4を前方へ引き出して突条12と凹部13との
係合を外したのち、この可動ホルダー4を支軸1
5を中心として180度上方へ転回させることによ
り第1図bに示すような取外位置に変位させ、図
示のような広域照射状態が得られる。従つて、こ
のように、第2の絞り2を使用しないときには、
わざわざこれを取り外すには及ばず操作が容易
で、上述のように取外位置に第2の絞り2を変位
させた状態に保持させておくことにより紛失や破
損を免れることができる。
なお、X線透過窓8と第1の絞り3との間に
は、保持具19と一体のフイルタ20が着脱自在
に設けられ、その取外し状態において挿入口22
がシヤツタ21により閉じられるようにしてあ
り、これにより、フイルタ20を使用しないとき
に透孔11内に異物が侵入するのを防ぐことがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図a,bはこの考案の使用方法を説明する
ための模式構成図、第2図は一実施例構造を示す
断面図、第3図は従来方法を示す概略図である。 1……X線照射ヘツド、2……第2の絞り、3
……第1の絞り、4……可動ホルダー、5……固
定ホルダー、7……X線、11……透孔、15…
…支軸。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. X線照射ヘツドに形成した透孔の基端側にX線
    透過窓を有し、そのX線照射ヘツドの先端側に径
    大な第1の絞りを有する固定ホルダーが取り付け
    られ、かつ、その固定ホルダーの先端に固定した
    支軸に、前記第1の絞りと対応する径小の第2の
    絞りを固定した可動ホルダーが転回自在に取り付
    けられ、前記可動ホルダーが前記固定ホルダーに
    対接してX線に対応する設定位置とそのX線から
    外れた取外位置とに変位自在に構成されているこ
    とを特徴とするX線照射領域変更機構。
JP9104783U 1983-06-11 1983-06-11 X線照射領域変更機構 Granted JPS604945U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9104783U JPS604945U (ja) 1983-06-11 1983-06-11 X線照射領域変更機構

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9104783U JPS604945U (ja) 1983-06-11 1983-06-11 X線照射領域変更機構

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS604945U JPS604945U (ja) 1985-01-14
JPH0526560Y2 true JPH0526560Y2 (ja) 1993-07-05

Family

ID=30221018

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9104783U Granted JPS604945U (ja) 1983-06-11 1983-06-11 X線照射領域変更機構

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62197566U (ja) * 1986-06-04 1987-12-16
JPH0739827Y2 (ja) * 1988-01-22 1995-09-13 株式会社吉野工業所 食品入り容器
JP2674675B2 (ja) * 1991-11-01 1997-11-12 株式会社島津製作所 蛍光x線分析装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5753536U (ja) * 1980-09-12 1982-03-29

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5753536U (ja) * 1980-09-12 1982-03-29

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JPS604945U (ja) 1985-01-14

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