JPS6346953B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6346953B2
JPS6346953B2 JP55080077A JP8007780A JPS6346953B2 JP S6346953 B2 JPS6346953 B2 JP S6346953B2 JP 55080077 A JP55080077 A JP 55080077A JP 8007780 A JP8007780 A JP 8007780A JP S6346953 B2 JPS6346953 B2 JP S6346953B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
shaped body
cup
vacuum chamber
cavity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP55080077A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS563957A (en
Inventor
Hotsutsu Uorutaa
Gaburieere Kojimo
Hooro Furanchesuko
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KOSUTORUTSUIOONI AERONAUTEIKE JOANNI AGUSUTA SpA
Original Assignee
KOSUTORUTSUIOONI AERONAUTEIKE JOANNI AGUSUTA SpA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KOSUTORUTSUIOONI AERONAUTEIKE JOANNI AGUSUTA SpA filed Critical KOSUTORUTSUIOONI AERONAUTEIKE JOANNI AGUSUTA SpA
Publication of JPS563957A publication Critical patent/JPS563957A/ja
Publication of JPS6346953B2 publication Critical patent/JPS6346953B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/20Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は電子顕微鏡、特に走査型電子顕微鏡
の真空室内に試料を装着する方法および装置に関
する。
従来の走査型顕微鏡においては、試料の観察は
すべて、電子光学筒の下端に設けられた真空室
(試料室)内に試料を挿入することにより行なわ
れており、真空室はほぼ水平横向きのカツプ状体
を備え、その内側の空隙部が横向きの開口を通し
て外部と通じ得るようになつている。観察中、こ
の開口は扉により気密に密閉され、扉は通常、カ
ツプ状体に対してほぼ垂直な軸を中心にして密閉
位置と開放位置との間を回動しうるように、カツ
プ状体の側壁に取付けられる。
通常、試料ホルダが上記回転扉に連結されてお
り、この試料ホルダは、扉が密閉されたときにカ
ツプ状体内に突出し、かつ試料を所定の位置に支
持するようになされている。この試料の位置は、
扉から外部に伸びるマイクロメータ調整装置によ
り、少なくとも3つの軸に沿つて調整できるよう
になつている。
一般に、試料ホルダに観察用試料を装着する作
業は、極めて長時間にわたりかつ細心の注意を要
する。その理由は、試料は扉を開いたときに装着
され、かつ扉を密閉したときに正規の観察位置に
できるだけ近い位置に配置されなければならない
からである。
上記の作業は常に容易に行なえるとは限らず、
しかも、扉が密閉された後に行う調整作業中に、
試料が真空室内に設けられた探査装置のいずれか
に衝突する危険が常時存在する。このような事態
は避けねばならないので、従来の電子顕微鏡は通
常、観察すべき試料が障碍物に衝突したときに操
作者に警告を発するための警報装置(通常音響
的)を備えている。
警報装置の使用にかかわらず、観察前の試料位
置の調整は、常に問題が多く困難であり、電子顕
微鏡による正味観察時間を激減させる程の長い時
間を必要とする。
この発明は、真空室内における試料の位置調整
時間を大幅に削減することができ、かつ調整中に
試料が真空室の壁や真空室内の探査装置と接触す
ることを防止しうる方法を提供するものである。
この点について、試料のこのような接触は、試
料ホルダや探査装置の破壊を引き起こし易く、極
めて危険であり、これが前述のように通常機械的
操作によるマイクロメータ装置により試料に運動
が伝達される事実に基くことに注目すべきであ
る。
この発明は電子顕微鏡の真空室内に試料を装着
する方法であつて、この真空室は、試料ホルダを
支持する可動密閉部材により気密に密閉される横
向きの開口を有する固定のカツプ状体と、上記カ
ツプ状体内に配置された探査手段とを備えてい
る。この発明の方法は、以下に述べる手順よりな
ることを特徴としている。
(イ) 上記密閉部材を開放位置に移動すること。
(ロ) 観察用の試料を上記試料ホルダに装着するこ
と。
(ハ) 上記固定のカツプ状体の空隙部と形状および
寸法が同一の空隙部を有するカツプ状体を備え
た透明材料製の硬質マスクを上記密閉部材にセ
ツトすること。
(ニ) 上記試料が観察開始のための正しい位置にく
るように上記試料の位置を調整すること。
(ホ) 上記マスクを除去した後、上記密閉部材を密
閉位置に移動すること。
この方法は、透明なマスクを使用することによ
つて、操作者が真空室内を見ることを可能にし、
これにより、試料ホルダや探査装置を損傷する危
険性なしに、極めて迅速かつ確実に試料の位置を
調整できるようにする。
この発明は、同時に、上述の方法を実施するた
めの装置を提供する。この発明の装置は、真空室
の上記固定のカツプ状体の空隙部と形状および寸
法が同一の空隙部を有するカツプ状体を備えた透
明材料製の硬質マスクを備えている。
以下この発明を図面に示す実施例により詳細に
説明する。
図面は、電子光学筒(図示略)の下部に設けら
れ、かつ下壁3、後壁4、上壁5および両側壁
6,7により構成されるほぼ水平横向きの固定の
カツプ状体2を備えた真空室1を示す。これらの
壁は、前面の横向きの開口9を通じて外部と連絡
する略四角柱状の空隙部8の境界をなしている。
この開口9は、壁3,5,6,7によつて形成さ
れ、平坦状の環状面10で取囲まれている。
上壁5には、後壁4に接近した位置に貫通孔1
1が設けられ、電子光学筒内で発生して焦点を合
わされた電子線が、この孔11を通つて空隙部8
内に入り込む。電子線の軸はWDSコリメータ1
2すなわち波長分散探査システム用X線コリメー
タの軸およびEDSコリメータ13すなわちエネ
ルギ分散探査システム用ベリリウムコリメータの
軸と交差する。2つのコリメータ12,13は、
一水平面上に配置されかつ相互に傾斜するととも
に孔11に対して傾斜している2本の円筒を備え
ている。
空隙部8内にはまた、後壁4の内面から上方に
伸びる傾斜円筒を有し、かつ端部にフアラデーケ
ージ15を備えた映像探査のための二次電子用光
電子増倍管14が設けられている。
真空室1はまたほぼ平坦な扉16からなる密閉
部材を備えている。壁7の外面には、環状面10
の前方に突出すようにフオーク19が堅固に連結
されており、扉16の一側端に形成された垂直ス
リーブ17が、ピン18により回動自在にフオー
ク19に取付けられている。スリーブ17の反対
側の扉16の側端には、ねじ(図示略)を挿通す
る2個の貫通孔21を備えた突起20が設けられ
ている。側壁6の外面に、ねじ穴22を有する直
立体23が固定されており、扉16を閉鎖位置に
固定するために、ねじが突起20の孔21を挿通
して直立体23のねじ穴22にねじ嵌められる。
この閉鎖位置で、扉16は、環状ガスケツト24
を環状面10に密着させることによつて、室1を
密閉する。
水平軸の周囲を回転自在な板材25が、扉16
を通して装着されて、試料ホルダ26の基板を構
成しており、その運動がマイクロメータ調整装置
(図示略)により外部から制御可能となつている。
板材25のほかに、試料ホルダ26は、板材2
5の内面に堅固に連結されかつその軸に直角なガ
イド27と、ガイド27に沿つて摺動自在に装着
された摺動体28とを備えている。摺動体28
は、ガイド27の軸に直角な軸を有しかつ第2の
摺動体30を摺動自在に支持するガイド29を支
持している。第2の摺動体30は、ガイド29の
軸に平行な軸の周囲を旋回し得る第3の摺動体3
1を支持しており、第3の摺動体はガイド27の
軸に平行な軸の周囲を旋回し得る第4の摺動体3
2を支持しており、この摺動体32に検査すべき
試料(図示略)を取付けることができる。
操作の際、摺動体32に取付けられた検査すべ
き試料の位置は、扉16を開いた状態で、下壁3
5、後壁36、上壁37および両側壁38,39
からなるカツプ状体34を備えた透明材料製硬質
マスク33を使用することにより調整される。こ
れらの壁は、開口9と同形でフランジ42に取囲
まれた開口41を通じて外部と連絡する空隙部8
と同形の空隙部40を形成しており、フランジ4
2の前面43は環状面10とほぼ同形である。
マスク33の空隙部40内には3個の円筒4
4,45,46が配置され、各々の位置、寸法は
それぞれコリメータ12,13および光電子増倍
管14と同一である。上壁37には、孔11と対
応する位置に、貫通ねじ穴47が設けられ、ねじ
を有するピン48がねじ穴47を貫通して装着さ
れている。ピン48の先端49は、電子線の焦点
位置を表わしており、焦点位置の最適変動範囲を
限定する2つの端部位置間で上下に調整自在とな
つている。
検査すべき試料の位置調整のため、操作者は、
扉16を開き、フランジ42をガスケツト24に
接触させて、マスク33を試料ホルダ26に面す
る位置にセツトする。それから、マイクロメータ
調整装置を操作することにより、操作者は、マス
ク33の透明壁を通して試料を観察しながら、円
筒44,45,46およびピン48の先端49に
対応する所望の位置に試料を位置させるように、
ホルダ26を調整する。
試料が所望の位置にセツトされたならば、マス
ク33が除去され、単に扉16を密閉するだけ
で、試料は、真空室1の空隙部8内に運ばれて、
所望の位置に位置決めされる。
検査すべき試料が複雑な形状を有し、試料を所
望の位置にセツトしてから扉16を閉めることが
できない場合には、操作者は、上記のようにマス
ク33の助けを借りて、試料を最初の安全な位置
から最終的な所望の位置まで移動し、これに必要
なマイクロメータ調整装置の操作手順を記録して
おくことができる。そして、マスク33を除去し
たときに試料を最初の安全な位置に戻し、扉16
を密閉した後、既に記録されている操作手順を繰
返すことによつて、試料を最終的な所望の位置に
位置決めすることができる。
【図面の簡単な説明】
図面はこの発明の実施例を示す斜視図である。 1…真空室、2…カツプ状体、8…空隙部、9
…開口、12,13…コリメータ、14…光電子
増倍管、16…扉、26…試料ホルダ、33…硬
質マスク、34…カツプ状体、37…上壁、40
…空隙部、48…ピン。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 試料ホルダを支持する可動密閉部材により気
    密に密閉される横向きの開口を有する固定のカツ
    プ状体と、上記カツプ状体内に配置された探査手
    段とを備えた電子顕微鏡の真空室内に試料を装着
    する方法であつて、上記密閉部材を開放位置に移
    動し、観察用の試料を上記試料ホルダに装着し、
    上記固定のカツプ状体の空隙部と形状および寸法
    が同一の空隙部を有するカツプ状体を備えた透明
    材料製の硬質マスクを上記密閉部材にセツトし、
    上記試料が観察開始のための正しい位置にくるよ
    うに上記試料の位置を調整し、上記マスクを除去
    した後、上記密閉部材を密閉位置に移動すること
    を特徴とする、電子顕微鏡の真空室内に試料を装
    着する方法。 2 試料ホルダを支持する可動密閉部材により気
    密に密閉される横向きの開口を有する固定のカツ
    プ状体と、上記カツプ状体内に配置された探査手
    段とを備えた電子顕微鏡の真空室内に試料を装着
    する装置であつて、上記固定のカツプ状体の空隙
    部と形状および寸法が同一の空隙部を有するカツ
    プ状体を備えた透明材料製の硬質マスクを備てい
    ることを特徴とする、電子顕微鏡の真空室内に試
    料を装着する装置。 3 上記固定のカツプ状体に供給される電子線の
    焦点位置のシミユレーシヨンを行なうための調整
    手段が、上記マスクの上壁を貫いて装着されてい
    ることを特徴とする、特許請求の範囲第2項に記
    載の電子顕微鏡の真空室内に試料を装着する装
    置。
JP8007780A 1979-06-12 1980-06-12 Method and apparatus for mounting specimen in vacuum chamber of electron microscope Granted JPS563957A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IT68259/79A IT1165685B (it) 1979-06-12 1979-06-12 Procedimento e dispositivo per il montaggio di pezzi all interno di una camera sotto vuoto di un micorscopio elettronico

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS563957A JPS563957A (en) 1981-01-16
JPS6346953B2 true JPS6346953B2 (ja) 1988-09-19

Family

ID=11308727

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8007780A Granted JPS563957A (en) 1979-06-12 1980-06-12 Method and apparatus for mounting specimen in vacuum chamber of electron microscope

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4303866A (ja)
JP (1) JPS563957A (ja)
CH (1) CH640083A5 (ja)
DE (1) DE3022095A1 (ja)
FR (1) FR2458892A1 (ja)
GB (1) GB2051471B (ja)
IT (1) IT1165685B (ja)
NL (1) NL8003285A (ja)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6469779B2 (en) * 1997-02-07 2002-10-22 Arcturus Engineering, Inc. Laser capture microdissection method and apparatus
US6495195B2 (en) 1997-02-14 2002-12-17 Arcturus Engineering, Inc. Broadband absorbing film for laser capture microdissection
US5985085A (en) * 1997-10-01 1999-11-16 Arcturus Engineering, Inc. Method of manufacturing consumable for laser capture microdissection
US7075640B2 (en) 1997-10-01 2006-07-11 Arcturus Bioscience, Inc. Consumable for laser capture microdissection
US7473401B1 (en) 1997-12-04 2009-01-06 Mds Analytical Technologies (Us) Inc. Fluidic extraction of microdissected samples
US6246060B1 (en) * 1998-11-20 2001-06-12 Agere Systems Guardian Corp. Apparatus for holding and aligning a scanning electron microscope sample
AU4812600A (en) 1999-04-29 2000-11-17 Arcturus Engineering, Inc. Processing technology for lcm samples
AU2922701A (en) 1999-11-04 2001-05-14 Arcturus Engineering, Inc. Automated laser capture microdissection
WO2001081892A2 (en) * 2000-04-26 2001-11-01 Arcturus Engineering, Inc. Laser capture microdissection (lcm) extraction device and device carrier and method for post-lcm fluid processing
US10156501B2 (en) 2001-11-05 2018-12-18 Life Technologies Corporation Automated microdissection instrument for determining a location of a laser beam projection on a worksurface area
US8722357B2 (en) 2001-11-05 2014-05-13 Life Technologies Corporation Automated microdissection instrument
EP1787101B1 (en) 2004-09-09 2014-11-12 Life Technologies Corporation Laser microdissection apparatus and method
FR2982670B1 (fr) * 2011-11-15 2013-11-29 Commissariat Energie Atomique Dispositif d'analyse d'un materiau irradiant a l'aide d'une microsonde

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3858049A (en) * 1973-09-17 1974-12-31 Etec Corp Method and apparatus for sem specimen coating and transfer
US3886358A (en) * 1974-05-23 1975-05-27 Us Energy Specimen transfer container for ion microprobe mass analyzer
US3983402A (en) * 1975-12-22 1976-09-28 International Business Machines Corporation Ion implantation apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
IT7968259A0 (it) 1979-06-12
CH640083A5 (it) 1983-12-15
JPS563957A (en) 1981-01-16
DE3022095A1 (de) 1980-12-18
GB2051471B (en) 1983-03-30
FR2458892B1 (ja) 1984-12-07
US4303866A (en) 1981-12-01
GB2051471A (en) 1981-01-14
IT1165685B (it) 1987-04-22
NL8003285A (nl) 1980-12-16
FR2458892A1 (fr) 1981-01-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6346953B2 (ja)
DE102008045336B4 (de) System zur Bearbeitung einer Probe mit einem Laserstrahl und einem Elektronenstrahl oder einem Ionenstrahl
JP3820964B2 (ja) 電子線を用いた試料観察装置および方法
JP2004144478A (ja) X線分析装置および方法
DE1489658A1 (de) Vorrichtung zur Beschiessung eines Gegenstandes mit einem Elektronenstrahlenbuendel und Verfahren fuer diese Beschiessung zum Zwecke der Emission von Roentgenstrahlen durch diesen Gegenstand
JPH07335165A (ja) 格子欠陥観察用電子顕微鏡
US4358854A (en) Measuring devices for X-ray fluorescence analysis
JPH05113418A (ja) 表面分析装置
JPH0465490B2 (ja)
US11721518B2 (en) Examining, analyzing and/or processing an object using an object receiving container
US3383492A (en) Optical viewing system for electron beam welders
JPS6249929B2 (ja)
US7042978B2 (en) Examination of material samples
US3446562A (en) Apparatus for photometric analysis
JP3926208B2 (ja) X線顕微鏡試料室
JP3051907B2 (ja) 蛍光x線微小部膜厚計
JP2000171419A (ja) X線分析装置
JP3064335B2 (ja) 透過型電子顕微鏡
US20220193819A1 (en) Material processing method and material processing system for performing the method
JPH0541397Y2 (ja)
JPS6346954B2 (ja)
JPH112700A (ja) イオンビーム分析装置
JP2674993B2 (ja) 電子顕微鏡
JPH07260714A (ja) X線分析装置
JPH0750150B2 (ja) 電子ビームテスタ