JPH05261930A - インクジェットヘッド及びその製造方法 - Google Patents

インクジェットヘッド及びその製造方法

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JPH05261930A
JPH05261930A JP6409992A JP6409992A JPH05261930A JP H05261930 A JPH05261930 A JP H05261930A JP 6409992 A JP6409992 A JP 6409992A JP 6409992 A JP6409992 A JP 6409992A JP H05261930 A JPH05261930 A JP H05261930A
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JP
Japan
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nozzle
ink
orifice
orifices
jet head
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Withdrawn
Application number
JP6409992A
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English (en)
Inventor
Michitoku Kuami
道徳 朽網
Akira Nakazawa
明 中澤
Katsunori Yamagishi
勝則 山岸
Osamu Taniguchi
修 谷口
Hideyuki Kikuchi
英幸 菊地
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 インクジェットヘッドの構造及びその製造方
法に関し、高解像度を維持しつつ記録速度を向上するイ
ンクジェットヘッドの提供を目的とする。 【構成】 ノズルに対応する圧力室と、ノズルに共通な
インクタンクと、これらを連通するインク通路とを有
し、圧力室の内部又は外部に圧力発生源を具備し、この
駆動で対応するノズルからインク滴を噴出して記録媒体
上に記録を行うインクジェットヘッドの、ノズルの軸方
向の一部或いは全部がノズルよりも小さな断面積をもつ
複数の微小オリフィスの集合から成り、複数のオリフィ
スを通じてインクが噴出するもので、オリフィスの出口
側の端面はノズルの外側端面よりもノズルの内部に形成
し、形状はスリット状、多角形状で、ノズル、オリフィ
スは金属ガラスセラミックス、シリコンをエッチングし
て形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、インクジェットヘッド
の構造及びその製造方法に関する。インクジェットプリ
ンタは、記録媒体に非接触なヘッドからインクの微小粒
子を直接記録媒体に吹き付けて記録を行うものである。
【0002】その結果、記録媒体に対する制限が少な
い、カラー化が容易、高速記録、低騒音と言う特徴を有
している。
【0003】
【従来の技術】図14の側面図に示す如く、インクジェッ
トプリンタは、記録媒体1を巻き掛けるドラム2と、ド
ラム2に対して平行移動するキャリッジ3と、キャリッ
ジ3に搭載されてドラム2に対向したインクジェットヘ
ッド4と、インクジェットヘッド4にインクを供給する
インクタンク5及び供給ホース6等から構成される。
【0004】インクジェットヘッド4は、図15の斜視図
に示す如くインク通路の形成方法としてステンレス、ガ
ラス等の基板にエッチングで溝を彫る方法を用いてい
る。そして、これらエッチングで形成された流路板をス
テンレス板、振動板と重ね合わせ、拡散接合等の手法に
依って相互を接合している。
【0005】接合後、ノズル7が開口した面7aをラッ
プ加工してその平面性を確保する。圧力室8に圧力を発
生する駆動部として、両面の振動板13上の圧力室8に対
応する部分に圧電素子9を接着剤で接着する。
【0006】圧電素子9からの電圧印加の為の信号線
は、半田付け、或いは電極の圧着等の手段で接続してい
る。共通インク室10とインクタンク5とは供給ホース6
に依って連通されている。
【0007】このようなインクジェットヘッドでのイン
ク粒子化のプロセスは、図16の(a)〜(d) の説明図に示
す如く、粒子の噴射、メニスカスの戻り、インクの補
充、平衡状態への復帰と言う過程からなっている。
【0008】ノズル7の粒子化周波数の上限は、このプ
ロセスにかかる時間に依存し、この時間が短くなる程粒
子化周波数を高くすることが出来る。最も重要な時間は
インクの補充時間であり、この時間を十分に短くする必
要がある。
【0009】このインクの補充時間は、ヘッドの形状や
インクの物性に依存する。特にノズル7の径に依存し、
ノズル7の径を小さくする程補充時間を短く出来、粒子
化周波数を高く出来る。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上記の如く、ノズルの
径を小さくして補充時間を短くし、粒子化周波数を高く
すると、噴射するインク粒子の径も減少し、記録に必要
な解像度を達成する為のインク粒子の大きさが得られな
くなると言う問題点があった。
【0011】本発明は、高解像度を維持しつつ記録速度
を向上するインクジェットヘッドの提供を目的とするも
のである。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明に於いては、図1
の部分拡大側面図に示す如く、ノズル7の軸方向に対し
て、その一部或いは全部がノズル7よりも小さな断面積
をもつ複数の微小オリフィス11の集合から成り、複数の
オリフィス11を通じてインクが噴出されるようにしたも
ので、図2のノズル部の拡大図(a) に示す如く、オリフ
ィス11の出口側の端面11aは、ノズル7の外側端面7a
よりもノズル7の内部に形成し、形状は同図(b) 〜(d)
の正面図に示す如く、スリット状、或いはノズル状、或
いは円筒状、或いは多角形状であり、ノズル7と圧力室
8とインク通路12及び複数の微小オリフィス11は同一平
面上に形成されているものである。
【0013】又、オリフィス11はノズル7の外側部分と
は別個に形成して、ノズル7内に接合するようにしても
良い。斯かる構成のインクジェットヘッドのノズル7、
及びオリフィス11の製造方法は、金属、ガラス、セラミ
ックス、シリコンを素材として、ノズル7の部分を初め
に所望の深さ迄エッチングし、その後オリフィス11を所
望の数と深さだけエッチングで形成したもので、シリコ
ンのエッチングは異方性を利用し、或いは感光性ガラス
に依る異方性エッチングに依り形成し、或いは金型に感
光性樹脂を注入して紫外線を照射して硬化させたマイク
ロモールド法に依り形成し、或いは電鋳法に依りノズル
板23とオリフィス板24とを作製し、オリフィス板24の両
側にノズル板23を張り合わせて形成したものであって、
ノズル7及びオリフィス11は、素材のそれぞれ反対側の
面からエッチングして形成しても良い。
【0014】
【作用】1つのノズル7の内部にノズル7よりも小さな
径をもつ複数のオリフィス11を設けることに依り、噴射
するインク粒子の径を所望の値に保持したまま、粒子化
周波数を高めることが出来る。
【0015】即ち、インクの補充は、メニスカスが窪ん
だ状態からノズル内部のインクの表面張力に依って発生
する毛管力に依って行われる。その為、毛管力を高くす
るか、メニスカスの窪み量を小さくすることに依りイン
クの補充時間は短くなる。
【0016】ノズルの径を小さくすると、この毛管力を
高くすることが出来る為、補充時間を短くすることが出
来る。又、メニスカスの窪みは、噴射するインク量に比
例する。
【0017】この噴射するインク量は、ノズルの断面積
にも依存し、ノズルが小さくなる程噴射するインク量は
少なくなる。その為、ノズルの径を小さくすると噴射量
が減少し、粒子化周波数は高くなることになる。
【0018】本発明は、このような現象を分析し、噴射
するインク粒子の径を所望の値に保持し、且つインク補
充時の毛管力を高くすることを実現するものである。つ
まり、噴射時には、ノズル7の端面で形成される面積で
インク粒子が噴射するが、メニスカスが窪む状態、及び
インク補充の状態では、内部のオリフィスで決まる径が
有する毛管力で補充が行われる。
【0019】その為、噴射するインクの量と毛管力を独
立で制御することが可能となる。本発明では、噴射時の
メニスカスの表面張力(毛管力)は、外側のノズル7の
径で決まる為に小さくなり、内部に窪んだ状態では、メ
ニスカスの毛管力は、内部オリフィス11の径で決まる為
に大きくなる。
【0020】つまり、本発明では、内部オリフィス11
は、噴射時には殆ど影響を与えず、メニスカスが内部に
窪んだ時とインクの補充時に効果を奏することになる。
このような構成に於けるノズル7の径は30〜100 μmで
あり、内部の微少オリフィス11の径は5〜30μmと小さ
いものである。
【0021】
【実施例】本発明に於いては、図1の部分拡大側面図に
示す如く、ノズル7の一部或いは全部がノズル7よりも
小さな断面積をもつ複数の微小オリフィス11の集合から
成り、複数のオリフィス11を通じてインクが噴出される
ようにしたもので、図2のノズル部の拡大図の(a) の側
面図に示す如く、オリフィス11の出口側の端面11aは、
例えばノズル7の外側端面7aよりも内部にD=5〜50
μmの範囲、長さL=5〜800 μmの範囲内で、オリフ
ィス11相互を分割している壁11cの厚みT=5μm以下
に形成し、形状は同図(b) 〜(d) の正面図に示す如く、
スリット状、或いはノズル状、或いは円筒状、或いは多
角形状であり、図1に示す如く、ノズル7と圧力室8と
インク通路12及び複数の微小オリフィス11は同一平面上
に形成されているものである。
【0022】即ち、図1に示す如く、1枚の感光性ガラ
ス或いはシリコンの基板14にエッチングでインク流路を
形成したもので、ノズル7の部分は微少オリフィス11の
集合体で構成されている。
【0023】図2の(a) の側面図、及び同図(b) の正面
図に示す如く、ノズル7の出口の大きさは、幅(W)高
さ(H)共に80μm の角形とし、内部の微少オリフィス
は、高さ(h)10μm、幅(W)60μm のスリット状と
した。
【0024】又、壁の厚みはT=4μm とした。1つの
ノズル7に対する最適なオリフィス11の数は明らかでは
ないが、オリフィス11の径と個数は問題となり、方向と
しては、製造可能な限りオリフィス11とオリフィス11の
間の壁の厚さは薄くする方が特性が向上することが判っ
ている。
【0025】ノズル7の部分は、図示の如くオリフィス
11の端面11aをノズル7の端面7aから内部(D)に20
μm 窪ませた形とした。オリフィス11の端面11aをノズ
ル7の端面7aから内部に窪ませた理由は、オリフィス
11の端面11aが外側迄出ていると、インクの噴射が夫々
のオリフィス11で行われる為にインク粒子が複数の微粒
子で構成され外側に散乱され易くなって霧状になり、記
録品位上好ましくない。
【0026】窪ませる量は、噴射したインク粒子の体積
と、ノズル径、オリフィス径、オリフィスの数等に依っ
て適切に決められる。一般に、ノズル径が大きいほど窪
ませる量は大きく、ノズル径が小さいほど窪ませる量は
小さく出来る傾向がある。
【0027】ドライエッチングとしては、等方性エッチ
ングに比して横方向にはエッチング速度が遅く、垂直方
向にはエッチング速度が早いと言う特性を有する異方性
エッチングがあるが、異方性エッチングには、イオンビ
ームエッチングと、例えばヘリウムガス等の雰囲気中で
ガスとの反応を利用して行う反応性エッチングとがあ
る。
【0028】これらのエッチングは、本発明のノズル及
びオリフィスの加工に適している。図3に製造プロセス
を示す。先ず同図(a) の側面図に示す如く、シリコン
(Si)の基板14の上にノズル及びオリフィスのパター
ンを有するレジスト膜20を張設し、同図(b) の側面図に
示す如く、深さ方向にエッチングで流路14aを形成す
る。
【0029】このシリコンのエッチングに於いては、ド
ライエッチングである異方性イオンエッチングを用い
た。次に、同図(c) の側面図に示す如く、レジスト膜20
を除去し、同図(d) の側面図に示す如く、エッチングし
た流路14aの上に振動板13を張り合わせて作製する。
【0030】一方、振動板13の圧力室8に対応する所に
は、図1に示す如く、圧力発生源30としての例えば電気
機械変換素子である圧電素子9を接着し、インクジェッ
トヘッドを作製した。
【0031】このインクジェットヘッドの動作は、図2
の(f) 〜(h) の説明図に示す如く、噴射時には、80μm
×80μm のノズル開口断面で粒子化が行われる為に、粒
子径90μm のインク粒子を噴射することが出来た。
【0032】駆動条件として、印加電圧70V、パルス幅
20μs とし、インクとしては、表面張力50dyn/c
m、粘度2cPのものを使用して実験した。一方、噴射
後のメニスカスの窪みは、オリフィス11の断面積で規制
される為に、オリフィス11の無い従来のものに比べて窪
み量が小さく、補充に必要な時間も短くなった。
【0033】ノズル7の開口面積Snと各オリフィス11
の開口面積Soの和の関係は、 Sn>So×(オリフィスの数) となるが、メニスカスに働く毛管力は、1つの開口部の
面積(径)が小さくなるほど強い為、微細なオリフィス
がある方がメニスカスの窪み量は小さく抑えられる。
【0034】従来のインクジェットヘッドでは、補充に
300 μs 必要であったが、本発明のようにオリフィス11
を備えたインクジェットヘッドでは、100 μs で補充が
完了した。
【0035】本発明のオリフィス11を備えたインクジェ
ットヘッドで得られた粒子化周波数特性を図4に示す。
従来のインクジェットヘッドでは、粒子化周波数が3K
Hzを越えると噴射するインク粒子の径が減少する為、
使用出来る粒子化周波数の上限は3KHzであった。
【0036】一方、上記の本発明のインクジェットヘッ
ドでは、変化する周波数が10KHzであり、粒子化周波
数の上限を10KHz迄高くすることが出来た。第2の実
施例としては、図5の斜視図及び図6のノズルの拡大図
の(a) の側面図、及び同図(b) の正面図に示す如く、1
枚のシリコンのノズル基板14に微細オリフィスを内部に
持ったノズル7をフッ酸に依るエッチングで形成したも
のである。
【0037】この場合、図示の如くノズル7は円筒形状
であり、径は80φμm 、内部の微細オリフィス11はドラ
イエッチングに依って作製し、円筒形状の径は10φμm
とした。
【0038】ノズル7の全体の長さは300 μm 、オリフ
ィス11の長さL=50μm である。本構成のノズル基板14
を、図5の如く予め流路や振動板を備えた基板15や、圧
電素子を設けた基板16や、電極を備えた基板17に張りつ
けてインクジェットヘッドを製作し粒子化実験を行っ
た。
【0039】その結果は、図7に示す如き粒子化周波数
特性が得られた。即ち、本実施例のインクジェットヘッ
ドは、変化する周波数が20KHzであり、粒子化周波数
の上限を20KHz迄高くすることが出来た。
【0040】この構成は、図8のプロセスの説明図に示
す同図(a) の側面図の如く、例えばステンレス304 の板
21にエッチングで50φμm のノズル7となる凹部7aを
途中迄あけ、次に同図(b) の側面図に示す如く、凹部7
aの底部に10φμm の微少オリフィス11をエッチングで
複数あける。
【0041】そして、同図(c) の側面図に示す如く別の
ステンレス304 の板に50φμm のノズル7用貫通孔をあ
けた部材22を張り合わせて製作することが出来る。更
に、このノズル7の部分は、図9のプロセスの説明図の
如く、電鋳法に依っても製作することが出来る。
【0042】電鋳法では、同図(a) の側面図に示す如
く、先ず2枚のノズル板23をノズル7の配列に対応して
電鋳法で製作する。次に、同図(b) の側面図に示す如
く、微少オリフィス11を備えたオリフィス板24を同様に
電鋳法で製作する。
【0043】そして、同図(c) の側面図に示す如く、オ
リフィス板24の両面にノズル板23を張り合わせてノズル
部を完成する。又、ノズル部と微少オリフィス部とを1
枚の板に反対方向からエッチングして形成することも可
能である。
【0044】即ち、図10に示す如く、先ず同図(a) の側
面図のようにシリコン(Si)の基板14の上にノズルの
パターンを有するレジスト膜27aを張設し、同図(b) の
ように反応性イオンエッチングで深さ方向に所定深さの
凹部28を形成する。
【0045】この凹部28はノズル7の外径となる部分で
ある。次に、同図(c) のように、レジスト膜27aを除去
した後で基板14を裏返しにしてその上面にオリフィスの
パターンを有するレジスト膜27bを張設し、次に同図
(d) のように、反応性イオンエッチングで凹部28に達す
るオリフィス11を形成し、その後、レジスト膜27bを除
去する。
【0046】更に又、図11に示す如く、感光性樹脂を利
用したマイクロモールド法に依ってもこのノズル部及び
微細オリフィス部を作製することが出来る。先ず同図
(a) に示す如く、ノズル部及び微細オリフィス部の形状
に対応した金属又はセラミックス、ガラス等の型29a及
び29bを作製し、この金型に感光性樹脂31を注入して、
これに紫外線を照射して硬化させる。
【0047】硬化した樹脂を離型することでオリフィス
11を備えたノズル7を得ることが出来る。ノズル部のオ
リフィスの形状構成としては、図2の(b) 〜(e) の正面
図に示した如く、スリット状、ノズル状、円筒状、多角
形状等色々のものが考えられる。
【0048】又、本発明では、圧力発生源30として圧電
素子等の電気機械変換素子9を用いることで説明した
が、その他、例えば、発熱素子の熱に依って気泡を作
り、その成長に依ってインクを噴出させる方式のものに
も適用可能である。
【0049】前記した理由に依って、オリフィス11の端
面11aをノズル7の端面7aから内部に窪ませる量は、
その差が5μm 以下であるとノズル7から噴射するイン
クの粒子が複数の粒子に分離し易くなる。
【0050】若しこれが、500 μm 以上内部に入ると、
メニスカスの窪みがそこ迄到達出来ない為に効果が無く
なる。又、オリフィス11自身の長さは、5〜800 μm が
適しており、短すぎると効果が無く、長すぎると流体抵
抗が増加して粒子化電圧が増加する。
【0051】微少オリフィス11の壁11cの厚さが厚くな
ると、微少オリフィス11の密度は小となり、オリフィス
11の数が多くとれなくなり、効果が小さくなる。本発明
に於いては、この壁11cの厚さは5μm 以下が適してい
た。
【0052】又、図12のノズル部の正面図に示す如く、
オリフィス11を構成する部材18と、ノズル7を構成する
部材19とを別々に製作して、ノズル7を構成する部材19
をオリフィス11を構成する部材18の両面に張り合わせて
構成することも可能である。
【0053】インクジェットヘッドの構成材料は、金
属、ガラス、セラミックス、感光性樹脂、感光性ガラス
等各種の材料が適応可能であり、又、流路やノズル部、
オリフィス部の製作法も、エッチング、モールド等周知
の加工技術、又はその組み合わせで加工可能である。
【0054】又、図13に感光性ガラスを用いたオリフィ
ス11の製造プロセスを示す。同図(a) の側面図に示す如
く、感光性ガラス基板25の上にマスクパターン26aを載
置し紫外線で露光する。
【0055】次に、同図(b) のように露光されたガラス
基板25を湿式のエッチングで同図(c) のように微細な貫
通孔25aを穿孔しオリフィス11を形成する。次に、同図
(d) のように基板25の上にノズル7 の外径のマスクパタ
ーン26bを載置し紫外線で所定の深さだけ露光する。
【0056】最後に、同図(e) のように露光部分を湿式
のエッチングで所定の深さを除去してオリフィス11を備
えたノズル7を形成する。
【0057】
【発明の効果】本発明に依って、高解像力を維持しつ
つ、粒子化周波数を高くとることが出来高速記録が可能
となるインクジェットヘッドを提供出来る等、産業上に
多大の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のインクジェットヘッドの部分拡大側
面図、
【図2】 ノズル部の拡大図で、(a) は側面図、(b) 〜
(e) は正面図、(f)〜(h) は動作を説明する側面図、
【図3】 製造プロセスの説明図で、(a) 〜(d) は側面
図、
【図4】 本発明のインクジェットヘッドで得られた粒
子化周波数特性図、
【図5】 第2の実施例を示す斜視図、
【図6】 図5に於けるノズルの拡大図で、(a) は側面
図、(b) は正面図、
【図7】 第2の実施例のインクジェットヘッドで得ら
れた粒子化周波数特性図、
【図8】 プロセスの説明図で、(a) 〜(c) は側面図、
【図9】 電鋳法に依るプロセスの説明図で、(a) 〜
(c) は側面図、
【図10】 両面エッチングのプロセスの説明図で、(a)
〜(d) は側面図、
【図11】 感光性樹脂を用いたマイクロモールドの説明
図で、(a) 、(b) は側面図、
【図12】 ノズル部の正面図、
【図13】 感光性ガラスの異方性エッチングのプロセス
の説明図で、(a) 〜(e) は側面図、
【図14】 インクジェットプリンタの側面図、
【図15】 インクジェットヘッドの斜視図、
【図16】 インク粒子化のプロセスを示す図で、(a) 〜
(d) は説明図、
【符号の説明】
1 記録媒体、 7 ノズル、 8 圧力室、 9 電気機械変換
素子(圧電素子)、 11 オリフィス、 7a、11a 端
面、 11c 壁、 12 インク通路、 13 振動板、 14、23 ノズル
板、 15〜17、22 部材、 18 オリフィスを
構成する部材、 19 ノズルを構成する部材、 20 レジスト膜、 21 ステンレス304 の板、 24 オリフィス
板、 25 感光性ガラス基板、 26a、26b マス
クパターン、 27a、27b レジスト膜、 28 凹部、 29a、29b 型、 30 圧力発生源、 31 感光性樹脂、
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 谷口 修 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 菊地 英幸 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも1つ以上のノズル(7) と、 該ノズル(7) に対応する圧力室(8) と、 これらのノズル(7) に共通なインクタンクと、 これらを連通するインク通路とを有し、 前記圧力室(8) の内部又は外部に圧力発生源(30)を具備
    し、 前記圧力発生源(30)の駆動に依って対応するノズル(7)
    からインク滴を噴出して記録媒体上にインクドットを形
    成し記録を行うドロップオンデマンド型のインクジェッ
    トヘッドに於いて、 前記ノズル(7) の軸方向に対してその一部或いは全部が
    ノズル(7) よりも小さな断面積をもつ複数の微小オリフ
    ィス(11)の集合から成り、 前記複数のオリフィス(11)を通じてインクが噴出される
    ことを特徴とするインクジェットヘッド。
  2. 【請求項2】 請求項1のオリフィス(11)の出口側の端
    面(11a) は、ノズル(7) の外側端面(7a)よりも該ノズル
    (7) の内部に後退して形成していることを特徴とするイ
    ンクジェットヘッド。
  3. 【請求項3】 請求項1及び請求項2のオリフィス(11)
    の形状はスリット状或いはノズル状或いは円筒状或いは
    多角形状であることを特徴とするインクジェットヘッ
    ド。
  4. 【請求項4】 請求項1のノズル(7) と圧力室(8) とイ
    ンク通路(12)及び複数の微小オリフィス(11)は共に同一
    平面上に形成されていることを特徴とするインクジェッ
    トヘッド。
  5. 【請求項5】 請求項1乃至請求項3のオリフィス(11)
    はノズル(7) の外側部分とは別個に形成して、前記ノズ
    ル(7) 内に接合したことを特徴とするインクジェットヘ
    ッド。
  6. 【請求項6】 請求項1のノズル(7) 、及び請求項1乃
    至請求項3のオリフィス(11)は、金属、ガラス、セラミ
    ックス、或いはシリコンを素材として、ノズル(7) の部
    分を初めに所望の深さ迄エッチングし、その後オリフィ
    ス(11)を所望の数と深さだけエッチングで形成したこと
    を特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
  7. 【請求項7】 請求項6のシリコンのエッチングは、異
    方性を利用したものであることを特徴とするインクジェ
    ットヘッドの製造方法。
  8. 【請求項8】 請求項1のノズル(7) 、及び請求項1乃
    至請求項3のオリフィス(11)は、感光性ガラスに依る異
    方性エッチングに依り形成したことを特徴とするインク
    ジェットヘッドの製造方法。
  9. 【請求項9】 請求項1のノズル(7) 、及び請求項1乃
    至請求項3のオリフィス(11)は、金型に感光性樹脂を注
    入して紫外線を照射して硬化させたマイクロモールド法
    に依り形成したことを特徴とするインクジェットヘッド
    の製造方法。
  10. 【請求項10】 請求項1のノズル(7) 、及び請求項1乃
    至請求項3のオリフィス(11)は、電鋳法に依りノズル板
    (23)とオリフィス板(24)とを作製し、前記オリフィス板
    (24)の両側に前記ノズル板(23)を張り合わせて形成した
    ことを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
  11. 【請求項11】 請求項1のノズル(7) 、及び請求項1乃
    至請求項3のオリフィス(11)は、素材に対してそれぞれ
    を反対側の面からエッチングして形成したことを特徴と
    するインクジェットヘッドの製造方法。
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