JPH05259682A - 電子機器筺体の電磁波シールド構造 - Google Patents

電子機器筺体の電磁波シールド構造

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JPH05259682A
JPH05259682A JP5122592A JP5122592A JPH05259682A JP H05259682 A JPH05259682 A JP H05259682A JP 5122592 A JP5122592 A JP 5122592A JP 5122592 A JP5122592 A JP 5122592A JP H05259682 A JPH05259682 A JP H05259682A
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JP
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conductive
resin
gas
conductive layer
electromagnetic wave
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JP5122592A
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English (en)
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Toshiyasu Yamauchi
敏恭 山内
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/17Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C45/1703Introducing an auxiliary fluid into the mould
    • B29C45/1704Introducing an auxiliary fluid into the mould the fluid being introduced into the interior of the injected material which is still in a molten state, e.g. for producing hollow articles
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    • B29C45/0053Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor combined with a final operation, e.g. shaping

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電子機器の筺体にプラスチックを使用した場
合に、生産性に優れ、かつ、ヒートサイクル等の経時変
化で劣化しない電磁波シールド構造を提供すること。 【構成】 プラスチック材料から成る電子機器筺体にお
いて、成形時にガスを注入して形成した前記電子機器筺
体内の中空部分に、導電層を設けたことを特徴とする電
子機器筺体の電磁波シールド構造。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はプラスチック筺体を使用
した電子機器筺体の電磁波シールド構造に関し、特に生
産性に優れ、かつ、ヒートサイクル等の経時変化にも強
い耐久性を有する電子機器筺体の電磁波シールド構造に
関する。
【0002】
【従来の技術】近年、電子機器の急速な普及に伴い、そ
れらの機器から放射される高周波の電磁ノイズが問題と
なってきた。電子機器の筺体が金属でできている場合に
は、電磁波はシールドされるが、筺体がプラスチックで
できている場合には、電磁波はシールドされず、透過し
てしまう。この対策としては、筺体のプラスチック外表
面に無電解メッキ,導電塗装,蒸着等の二次加工を施し
て導電層を形成する方法がある。また、この他にも、例
えば、特開昭64-23600号公報に示されている如く、ベー
スレジンに金属繊維等の導電性フィラーを混入した導電
性プラスチックを使用する方法もある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術の前者、
すなわち、筺体のプラスチック外表面に無電解メッキ,
導電塗装,蒸着等の二次加工を施して導電層を形成する
方法は、導電層を形成する工程の他に、マスキング,化
粧塗装等を必要とし、生産性が劣るという問題があっ
た。例えば、無電解メッキの場合には、通常、両面メッ
キが行われるので、メッキ工程の他に外表面には化粧塗
装を行う必要がある。また、導電塗装の場合には、必要
以外の部分に塗装を行わないために、マスキングをして
塗装するというような手間がかかるという問題がある。
一方、後者の導電性プラスチックの場合は、成形するだ
けでよいという利点はあるが、メッキ同様に、化粧塗装
を必要とし、更に、熱膨張率の差が原因となって、ヒー
トサイクルによりシールド特性が劣化するという問題が
あった。本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、そ
の目的とするところは、従来の技術における上述の如き
問題を解消し、電子機器の筺体にプラスチックを使用し
た場合に、生産性に優れ、かつ、ヒートサイクル等の経
時変化で劣化しない電子機器筺体の電磁波シールド構造
を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、プ
ラスチック材料から成る電子機器筺体において、成形時
にガスを注入して形成した前記電子機器筺体内の中空部
分に、導電層を設けたことを特徴とする電子機器筺体の
電磁波シールド構造(以下、単に「電磁波シールド構造」
という)によって達成される。
【0005】
【作用】本発明に係る電磁波シールド構造においては、
電子機器筺体の成形時にガスを注入して形成した中空部
分に導電層を設けるようにしたので、従来の如く、導電
層を形成する際のマスキング,導電層形成後の化粧塗装
等の工程が不要となる。また、導電層は、導電性塗料,
揮発性液体と金属フィラーの混合液等の導電性物質を分
散した液体を、上述の中空部分に注入・乾燥させること
で、プラスチック内表面に一様に形成されるので、導電
性プラスチック材料を用いる場合の如く、ヒートサイク
ル等の経時変化でシールド特性が劣化することもない。
更に、本発明におけるプラスチック筺体の内部に中空部
分を形成し、内表面に導電層を形成する工程は、プラス
チック筺体の成形に続けて行うことができるので、生産
性が良いという利点もある。なお、複数部分に分割され
たプラスチック筺体間の電気的接続を確保しようとする
場合には、後述する如く、プラスチック筺体の接続部分
となる端面部分を簡単に折り取ることができるように構
成することにより、容易に、内部に存在する導電層を端
面に露出させ、電気的に接続させることが可能になる。
【0006】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図3は、本発明に係る電磁波シールド構造
を適用した端末機器の外観を示す斜視図である。ここで
は、端末機器は、トップケース1,ボトムケース2,C
RTカバー3から構成されている。図1および図2は、
本発明の第一の実施例に係る電磁波シールド構造を成形
により作成する際に用いる金型の構造と射出成形の様子
を示す断面図である。ここでは、まず、通常の射出成形
を行う場合と同様に、射出成形用金型のメス型4と射出
成形用金型のオス型5とを合わせ、樹脂射出口6から溶
融した樹脂7を射出する(図1(a)参照)。そして、樹脂
7が冷却固化する前に、ガス注入路10のガス注入口8
からガス9を注入する(図1(b)参照)。上述のガス9と
しては、例えば、窒素ガスを用いるが、アルゴン等、他
の不活性ガスを用いることも可能である。ガス9注入後
は保圧,冷却し、樹脂7を固化する(図2(a)参照)。そ
して、樹脂7が固化した後に、中空部分11に、導電性
液状体注入口12から、導電性液状体13を注入する
(図2(b)参照)。上述の導電性液状体13は導電性液状
体注入路14から導かれる。ここでは、導電性液状体注
入口12はガス注入口8を兼ねており、バルブによりガ
ス9と導電性液状体13を切り換えた。
【0007】導電性液状体13としては、一般に市販さ
れている導電性塗料を用いた。これは、フィラーとして
銀,銅,ニッケル,銀をコーティングした銅,カーボン
等の粉末を用い、マトリックスとして、アクリル,エポ
キシ,フェノール,メラミン等の樹脂を用いたものであ
る。導電性液状体13を注入した後は、余分の液状体を
排出し、約60℃に加熱して十分に乾燥し、プラスチッ
ク筺体の内面16に導電層15を形成する。次に、具体
的実施例を示す。プラスチック筺体を形成する樹脂とし
てはABS(アクリロニトリルブタジエンスチレン)樹脂
を使用し、中空部分の形成には、金型内を樹脂で満たし
た後に、体積収縮する分のガス9を注入する方法を用
い、注入するガス9の圧力を約20MPa、中空部分1
1の体積率を12%とした。この他に、樹脂を不足気味
に充填し、樹脂の不足分だけガス9を充填する方法もあ
る。また、中空部分11の体積率は、10〜30%とす
るのが良い。中空部分11の体積率が10%以下の場合
は、導電層15を形成するのに必要なプラスチック筺体
の内表面16の面積が充分に得られず、逆に、10%以
上になると、樹脂の厚さが薄くなり、強度的に弱くな
る。
【0008】導電性液状体13としては、揮発性のMI
BK(メチルイソブチルケトン)中に金属粉を分散した液
体を用いた。金属粉等の導電性物質の形状は、繊維状等
の、アスペクト比が大きいものが良い。更に、金属フィ
ラーがプラスチック筺体の内表面16に容易に付着する
ように、バインダーを添加する。ここでは、上述のMI
BK1000mlに対して、銀をコーティングした銅粉末
を0.5〜1kg加え、バインダーとしてのニトロセルロ
ース10g添加した。困合の割合は、溶媒,バインダー
の種類、導電性フィラーの形状,比重によって適宜調整
するが、注入,付着に適当な粘性と、導電造15を形成
するのに十分なフィラーの量が必要である。導電性液状
体13としては、この他に、無電解銅−ニッケルメッキ
のメッキ液を注入しても良い。この場合には、通常の無
電解メッキの工程に従って、プリコート液等の複数の液
体を、順次、注入する必要がある。導電性液状体13と
しては、他にも、導電性液状体注入口12から注入でき
る液状の物質であって、金属等の導電性物質の層を、中
空部分に面したプラスチック筺体の内表面16に形成で
きるようなものであれば、用いることができる。
【0009】また、導電層15の厚さは、本実施例では
50μmとした。導電性液状体13として、導電性塗料
あるいは揮発性の液体と金属フィラーの混合液等の、導
電性物質を分散した液体を用いた場合、厚さは10〜1
00μmとするのが良い。10μm以下では十分な電気
伝導度が得られず、電磁波のシールド効果が小さく、1
00μm以上とすると、導電層15が剥離する危険性が
高くなる。但し、無電解メッキを施した場合の如く、連
続的な金属膜が形成される場合には、膜厚は10μm以
下でも良い。上記実施例によれば、塗装や蒸着のための
マスキング,無電解メッキ後の化粧塗装等を行うことな
しに、成形時に導電層15を形成することができ、工程
を増加させることなしに、電磁波シールド構造を形成す
ることができるという効果が得られる。また、導電性プ
ラスチックを用いる場合の如く、プラスチック中に導電
性フィラーが分散しているのではなく、導電性フィラー
が中空部分11に面したプラスチック筺体の内表面16
に密に分布するので、ヒートサイクル等の経時変化によ
りシールド効果が低下しないという効果もある。図4
に、本実施例により形成した電磁波シールド構造の断面
を示す。
【0010】次に、本発明の第二の実施例を説明する。
図5は、本実施例に係る電磁波シールド構造の成形方法
を説明する断面図である。樹脂射出口6から溶融した樹
脂7を注入し、樹脂7が冷却固化する前に、ガス注入口
8からガス9を注入する。本実施例においては、ガス注
入口8は樹脂射出口6内に設けられている。前述の実施
例と同様に、ガス9注入した後は保圧,冷却し、樹脂7
が固化した後に、中空部分11に、導電性液状体注入口
12から、導電性液状体13を注入する。導電性液状体
注入口12は、樹脂射出口6およびガス注入口8の反対
側に設けられている。図6は、本発明の第三の実施例に
係る電磁波シールド構造の成形方法を説明する断面図で
ある。本実施例では、ガス注入口8および樹脂射出口6
が、ランナー17のところに設けられている点が先の実
施例と異なっている。次に、本発明の他の実施例を説明
する。以下に説明する実施例に係る電磁波シールド構造
は、前述の、複数部分に分割されたプラスチック筺体間
の電気的接続を確保しようとする場合に、プラスチック
筺体の接続部分となる端面部分を簡単に折り取ることが
できるように構成することにより、容易に、内部に存在
する導電層を端面に露出させ、電気的に接続するための
構造である。
【0011】図7は、本実施例に係る電磁波シールド構
造の成形方法を説明する断面図である。本実施例におい
ては、射出成形用金型のメス型4およびオス型5に、成
形されるケースの端面部分付近に突出部20を設けてい
る。樹脂7の射出,ガス9の注入,導電性液状体13の
注入は、前述の実施例と同様に行う。本実施例において
は、金型のメス型4およびオス型5に設けられている突
出部20の存在によって、成形されるケースの端面部分
付近に薄肉部分21が形成される。成形後、エジェクタ
ピン22,スライド構造によりケースを取り外す。図8
(a)に、形成されたケースの端面部分19の拡大断面図
を示す。ボトムケース2の端部において、金型の突出部
20によって形成された薄肉部分21に力を加えて先端
部分を折り取ることにより、導電層15を端面に露出さ
せる。ケースの端面での電気的接続をより確実にするた
めに、露出した導電層15と端面部分19全体に、例え
ば、銀ペースト等の導電性物質を塗布する。図8(b)
は、上下ケースの接合の様子を示している。トップケー
ス1とボトムケース2に、上述の如き方法で導電層15
と電気的に接続されている端面部分19を形成し、その
端面を接合させることにより、簡単かつ確実に、上下ケ
ースの電気的接続を確保することが可能になる。
【0012】なお、上述のケース端面部分の先端部を折
り取るには、機械的に力を加えるだけで十分である。図
9は、上記実施例に示した電磁波シールド構造に、補足
的な電気的接続用の突起24を設けた例を示すものであ
る。図9(a)は、突起24はバネ性を有し、その先端面
25には、上記実施例における端面部分19と同様に、
薄肉部分を利用して先端部を折り取り、導電層15が露
出したところに銀ペースト等の導電性物質を塗布し、電
気的接合面としたものである。図9(b)は、上述の突起
24を有するトップケース1とボトムケース2との接合
状態を示す図である。各突起24の先端面25は、プラ
スチックケース内部の導電層15と電気的に接続されて
いるので、上下ケースを接触させると、この導電面を介
して、上下ケースは電気的に接続される。本実施例によ
れば、突起24はバネ性を有しているので、電気的接続
がより確実となり、また、電気的接続はケースの内部で
行われるので、外観を損うことがないという利点があ
る。なお、上下ケースの機械的接合は別の個所に設けら
れているスナップフィット(図示されていない)により行
っている。
【0013】図10(a)および(b)に、本発明の更に他
の実施例を示す。本実施例においては、導電層15を露
出させて導電面とした端面部分19に、電気的接続をよ
り確実にするために、導電性接合材26を装着した例を
示すものである。本実施例においては、導電性接合材2
6として、ポリウレタンの芯材を銀コーティングしたナ
イロン繊維製の布で覆った導電性ガスケットを用いてい
る。これにより、上下ケース間の電気的接続を簡単に、
確実なものとすることが可能になる。なお、導電性接合
材26をケースの端面部分19に接着させるには、両面
導電性テープ27を用いている。導電性接合材26の代
りに、ベリリウム銅製のシールドフィンガー等、弾性を
有し導電性の良い他の各種の材料を用いることが可能で
ある。図11(a)および(b)に、本発明の応用例を示
す。本応用例は、基板29とボトムケース2との間での
電気的接続を、上述の技術を利用して行うものである。
すなわち、ボトムケース2はその内部に中空部分11が
設けられ、中空部分11に面したプラスチック内表面1
6には導電層15が形成されている。また、基板29を
固定するためのボス28の先端部分は、前述の実施例に
示したケースの端面部分19と同様に、導電層15が露
出した状態に構成されている。
【0014】一方、基板29の端部には、アースパター
ン30が複数個設けられており、このアースパターン3
0と上述のボス28の先端部分に露出している導電層1
5との間で、電気的接続が行われることにより、基板2
9のアースを取ることができるというものである。な
お、ここでは、基板29とケース2との機械的接合は、
図示されていない接合手段により別の場所で行ってい
る。上記各実施例および応用例は、本発明の一例を示し
たものであり、本発明はこれらに限定されるべきもので
はないことは言うまでもないことである。例えば、プラ
スチック筺体(ケース)を形成する樹脂としては、前述の
ABS樹脂以外にも各種のものが使用可能であるし、中
空部分の形成に用いるガス,ここに形成する導電層の構
成材料等も、種々のものが使用可能である。また、製造
条件は、使用する材料により適宜選択されるべきもので
ある。
【0015】
【発明の効果】以上、詳細に説明した如く、本発明によ
れば、電子機器の筺体にプラスチックを使用した場合
に、生産性に優れ、かつ、ヒートサイクル等の経時変化
で劣化しない電子機器筺体の電磁波シールド構造を実現
できるという顕著な効果を奏するものである。なお、プ
ラスチック筺体の接続部分となる端面部分を簡単に折り
取ることができるように構成することにより、複数部分
に分割されたプラスチック筺体間の電気的接続を確保し
ようとする場合に、容易に、内部に存在する導電層を端
面に露出させ、電気的に接続させることも可能になる。
【0016】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施例に係る電磁波シールド構
造を成形により作成する際に用いる金型の構造と射出成
形の様子を示す断面図(その1)である。
【図2】本発明の第一の実施例に係る電磁波シールド構
造を成形により作成する際に用いる金型の構造と射出成
形の様子を示す断面図(その2)である。
【図3】本発明の一実施例に係る電磁波シールド構造を
適用した端末機器の外観を示す斜視図である。
【図4】実施例に係る電磁波シールド構造の断面を示す
図である。
【図5】本発明の第二の実施例に係る電磁波シールド構
造の成形方法を説明する断面図である。
【図6】本発明の第三の実施例に係る電磁波シールド構
造の成形方法を説明する断面図である。
【図7】本発明の他の実施例に係る電磁波シールド構造
の成形方法を説明する断面図である。
【図8】実施例に係る電磁波シールド構造の成形方法に
より形成されたケースの端面部分の拡大断面図、およ
び、接合状態を示す拡大断面図である。
【図9】実施例に係る電磁波シールド構造の成形方法に
より形成された接続用突起を設けた場合の接合状態の説
明図である。
【図10】実施例に係る電磁波シールド構造の成形方法
により形成されたケースの端面部分に導電性接合材を用
いた場合の接合状態の説明図である。
【図11】本発明の応用例である、基板とボトムケース
との間での電気的接続を説明する図である。
【符号の説明】 1:トップケース、2:ボトムケース、4:射出成形用
金型のメス型、5:同オス型、6:樹脂射出口、7:樹
脂、8:ガス注入口、9:ガス、11:中空部分、1
2:導電性液状体注入口、13:導電性液状体、15:
導電層、16:プラスチック筺体の内面、19:ケース
の端面部分、21:薄肉部分、24:電気的接続用の突
起、25:突起24の先端面、26:導電性接合材、2
8:ボス、29:基板、30:アースパターン。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プラスチック材料から成る電子機器筺体
    において、成形時にガスを注入して形成した前記電子機
    器筺体内の中空部分に、導電層を設けたことを特徴とす
    る電子機器筺体の電磁波シールド構造。
JP5122592A 1992-03-10 1992-03-10 電子機器筺体の電磁波シールド構造 Pending JPH05259682A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5753174A (en) * 1994-09-28 1998-05-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Hollow structural member and method of manufacture
US5827469A (en) * 1995-04-10 1998-10-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method of making a molded product having a functional film the product and apparatus for making the product

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5753174A (en) * 1994-09-28 1998-05-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Hollow structural member and method of manufacture
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